1.一种用于偏压与箝位基板的系统，包含：
等离子体工艺腔室，所述等离子体工艺腔室包含基板支撑组件，所述基板支撑组件包含静电卡盘，其中所述静电卡盘包含介电材料和嵌入在所述介电材料中的电极，其中第一整形DC脉冲电压源和箝位网络连接至所述电极；以及
偏压与箝位电路，所述偏压与箝位电路耦接至所述等离子体工艺腔室，所述偏压与箝位电路包含：
第一整形DC脉冲电压源，所述第一整形DC脉冲电压源输出脉冲串；以及
箝位网络，所述箝位网络在第一节点与接地节点之间与所述第一整形DC脉冲电压源并联，所述箝位网络包含：
直流电压源，所述直流电压源耦合到所述接地节点和第二节点；
二极管，所述二极管耦合到所述第一节点和所述第二节点，所述直流电压源和所述二极管用于建立恒定的箝位电压；
电容器，所述电容器耦合到所述接地节点和所述第二节点；以及
电阻器，所述电阻器耦合到所述第一节点和所述第二节点并且与所述二极管并联。
2.如权利要求1所述的系统，其中所述等离子体工艺腔室包含：
腔室主体；
腔室盖，其中所述腔室主体与所述腔室盖界定处理空间；并且
所述基板支撑组件设置在所述处理空间中。
3.如权利要求2所述的系统，其中所述偏压与箝位电路被配置成向设置在所述等离子体工艺腔室中的所述基板提供脉冲式偏压电压和恒定箝位电压。
4.如权利要求1所述的系统，其中所述偏压与箝位电路进一步包含与所述二极管并联的第二整形DC脉冲电压源，所述第二整形DC脉冲电压源在每个脉冲串末端或在脉冲串之间导通，以将储存在所述电容器中的多余电荷放电。
5.如权利要求1所述的系统，其中所述偏压与箝位电路进一步包含与所述二极管并联的开关，所述开关在每个脉冲串末端导通，以将所述电容器在所述电路中放电。
6.一种用于偏压与箝位基板的系统，包含：
等离子体工艺腔室；以及
耦接至所述等离子体工艺腔室的偏压与箝位电路，所述偏压与箝位电路被配置成向设置在所述等离子体工艺腔室中的所述基板提供脉冲式偏压电压和恒定箝位电压，其中所述偏压与箝位电路包含：
第一整形DC脉冲电压源，所述第一整形DC脉冲电压源输出脉冲串；以及
箝位网络，所述箝位网络在第一节点与接地节点之间与所述第一整形DC脉冲电压源并联，其中所述箝位网络包含：
第一二极管，所述第一二极管连接在所述第一节点与第二节点之间；
第一直流电压源，所述第一直流电压源连接在所述第二节点与所述接地节点之间，所述第一直流电压源和所述第一二极管用于建立恒定的箝位电压；
第一电容器，所述第一电容器耦合到所述接地节点和所述第二节点；以及第一电阻器，所述第一电阻器耦合到所述第一节点和所述第二节点并且与所述第一二极管并联。
7.如权利要求6所述的系统，其中所述偏压与箝位电路进一步包含第一整形DC脉冲电压源网络，并且其中在所述第一节点与所述第二节点之间连接所述第一整形DC脉冲电压源网络。
8.如权利要求7所述的系统，其中所述第一整形DC脉冲电压源网络包含串联连接的第二整形DC脉冲电压源、第二二极管和阻抗。
9.如权利要求6所述的系统，其中所述偏压与箝位电路进一步包含第二整形DC脉冲电压源网络，并且其中在所述第一节点与所述接地节点之间连接所述第二整形DC脉冲电压源网络。
10.如权利要求9所述的系统，其中所述第二整形DC脉冲电压源网络包含第三整形DC脉冲电压源、第三二极管、第二电阻器、第二直流电压源、第三电阻器和第二电容器，其中在所述第一节点与所述第二节点之间连接所述第三整形DC脉冲电压源、所述第三二极管和所述第二电阻器，并且其中所述第三整形DC脉冲电压源和所述第三二极管串联并且所述第二电阻器与所述第三整形DC脉冲电压源和所述第三二极管的连接并联，并且其中在所述第二节点与所述接地节点之间连接所述第二直流电压源、所述第三电阻器和所述第二电容器，并且其中所述第二直流电压源和所述第三电阻器串联并且所述第二电容器与所述第二直流电压源和所述第三电阻器的连接并联。
11.一种用于偏压与箝位基板的方法，包含：
利用偏压与箝位电路来对设置在静电卡盘上的所述基板进行偏压和箝位，所述静电卡盘设置在等离子体工艺腔室中，在基本上恒定的电压下箝位所述基板，对所述基板进行偏压和箝位包含：
向所述基板提供第一电压，所述第一电压为脉冲式；以及
向嵌入在所述静电卡盘中的电极提供第二电压，所述基本上恒定的电压为所述第一电压与所述第二电压之间的差，其中所述方法由所述偏压与箝位电路执行，所述偏压与箝位电路包含：
第一整形DC脉冲电压源，所述第一整形DC脉冲电压源输出脉冲串；以及
箝位网络，所述箝位网络在第一节点与接地节点之间与所述第一整形DC脉冲电压源并联，所述箝位网络包含：
直流电压源，所述直流电压源耦合到所述接地节点和第二节点；
二极管，所述二极管耦合到所述第一节点和所述第二节点，所述直流电压源和所述二极管用于建立恒定的箝位电压；
电容器，所述电容器耦合到所述接地节点和所述第二节点；以及
电阻器，所述电阻器耦合到所述第一节点和所述第二节点并且与所述二极管并联。
12.如权利要求11所述的方法，其中由第一整形DC脉冲电压源和箝位网络来执行所述偏压和箝位所述基板，并且由所述第一整形DC脉冲电压源来提供所述第一电压。
13.如权利要求12所述的方法，其中当所述第一电压处于高状态时，所述二极管导通，并且当所述第一电压处于低状态时，所述二极管处于反向偏压模式。
14.如权利要求12所述的方法，其中所述第一电压包含正脉冲的脉冲串。
15.如权利要求14所述的方法，其中所述箝位网络包含与所述二极管并联的开关，并且所述开关在所述正脉冲的脉冲串之间导通，以将所述电容器在所述电路中放电。
16.如权利要求15所述的方法，其中所述箝位网络包括与所述二极管并联的第二整形DC脉冲电压源，并且所述第二整形DC脉冲电压源在所述正脉冲的脉冲串之间导通，以将储存在所述电容器中的多余电荷放电。
17.如权利要求12所述的方法，其中所述第一电压包含负脉冲的脉冲串。