1.一种制备式V化合物的方法：
该方法包括：
在适于制备式V化合物的条件下形成含有偶联剂、卤代硅烷、式VI化合物和式VII化合物的反应混合物：
其中
各PG独立地为羟基保护基；
19
或者，相邻碳原子上的两个PG基团可以一起形成–C(R )2‑基团；
10
R 为H或甲硅烷基；并且
19
R 为H、C1‑C8烷基、苯基或取代的苯基。
2.权利要求1的方法，其中
所述偶联剂是锂偶联剂或镁偶联剂；
所述卤代硅烷为Cl‑Si(CH3)3或Cl‑Si(CH3)2CH2CH2Si(CH3)2‑Cl；并且
所述羟基保护基为三甲基硅烷(TMS)、叔丁基二甲基硅烷(TBDMS)、叔丁基二苯基硅烷(TBDPS)、甲基‑甲氧基(MOM)、四氢吡喃(THP)、叔丁基、烯丙基、苄基、乙酰基、新戊酰基或苯甲酰基。
3.权利要求1的方法,其中
所述偶联剂为PhMgCl和iPrMgCl；
所述卤代硅烷为TMS‑Cl；并且
所述羟基保护基为苄基。
4.权利要求1的方法，用于制备式V化合物：
该方法包括：
在适于制备式V化合物的条件下形成包含TMS‑Cl、PhMgCl、iPrMgCl、式VI化合物和式VII化合物的反应混合物：
5.制备式V‑a或式V‑b化合物的方法：
该方法包括：
在适于制备式V‑a或式V‑b化合物的条件下，形成包含去质子化试剂、甲硅烷基化试剂、偶联剂、添加剂、式VI‑a化合物和式VII化合物的反应混合物:
其中
b
各R独立地为羟基保护基；
b 19
或者，相邻碳上的两个R基团可一起形成–C(R )2‑基团；
10
R 为H或甲硅烷基；并且
19
R 为H、C1‑C8烷基、苯基或取代的苯基。
6.权利要求5的方法，其中所述去质子化试剂为锂偶联剂或镁偶联剂；所述甲硅烷基化试剂为氯硅烷；所述偶联剂为镁基偶联剂；以及添加剂为LaCl3‑2LiCl、YCl3、CeCl3、NdCl3或LaCl3。
7.权利要求5的方法，其中
所述去质子化试剂为PhMgCl；
所述甲硅烷基化试剂为TMSCl；
所述偶联剂为iPrMgCl；
添加剂为LaCl3‑2LiCl、YCl3、CeCl3、NdCl3或LaCl3；并且
所述羟基保护基为苄基。
8.权利要求5的制备式V‑a或式V‑b化合物的方法，
该方法包括：
在适合于制备式V‑a或式V‑b化合物的条件下形成包含TMSCl、PhMgCl、iPrMgCl、添加剂、式VI‑a化合物，以及式VII化合物的反应混合物：
其中
添加剂为LaCl3‑2LiCl、LaCl3、CeCl3、NdCl3或YCl3。
9.权利要求5的方法，用于制备式V‑a化合物
该方法包括：
在适合于制备式V‑a化合物的条件下形成包含TMSCl、PhMgCl、iPrMgCl‑LiCl、添加剂、式VI‑a化合物和式VII化合物的反应混合物：
其中
所述添加剂为LaCl3‑2LiCl、LaCl3、CeCl3、NdCl3或YCl3。
10.制备式XI‑a化合物的方法，
该方法包括：
在适于制备式XI‑a化合物的条件下，形成包括氰化剂、路易斯酸、布朗斯台德酸、溶剂和式V‑a或式V‑b化合物的反应混合物：
其中
b
各R独立地为羟基保护基；
b 19
或者，相邻碳上的两个R基团可以一起形成–C(R )2‑基团；
10
R 为H或甲硅烷基；并且
19
R 为H、C1‑C8烷基、苯基或取代的苯基。
11.权利要求10的方法，其中
所述氰化剂为TMSCN；
所述路易斯酸为TMSOTf；
所述布朗斯台德酸为TFA；
所述溶剂为DCM；并且
所述羟基保护基为苄基。
12.权利要求10的制备式XI‑a化合物的方法：
该方法包括：
在适用于制备式XI‑a化合物的条件下形成包含TFA、TMSCN、TMSOTf和式V‑a或式V‑b化合物的反应混合物：
2
13.制备式XI‑a化合物的方法，
该方法包括：
2
在适用于制备式XI‑a化合物的条件下形成包含氰化剂、路易斯酸、布朗斯台德酸、溶剂和式V‑a化合物的反应混合物：
其中
b
各R独立地为羟基保护基；
b 19
或者，相邻碳上的两个R基团可一起形成–C(R )2‑基团；
10
R 为H或甲硅烷基；并且
19
R 为H、C1‑C8烷基、苯基或取代的苯基。
14.权利要求13的方法，其中
所述氰化剂为TMSCN；
所述路易斯酸为TMSOTf；
所述布朗斯台德酸为TFA；
所述溶剂为DCM；并且
所述羟基保护基为TBS。
2
15.权利要求13的的方法，用于制备式XI‑a化合物：
该方法包括：
在适于制备式XI‑a化合物的条件下，形成包含TFA、TMSCN、TMSOTf和式V‑a化合物的反应混合物：
16.制备式XI‑b化合物的方法：
该方法包括：
在适用于制备式XI‑b化合物的条件下，形成包含路易斯酸、碱、溶剂、过滤剂和式XI‑a化合物的反应混合物：
17.权利要求16的方法，其中
所述路易斯酸为BCL3；
所述碱为Et3N；
所述溶剂为MeOH；以及
所述过滤剂为
18.权利要求16的制备式XI‑b化合物的方法：
该方法包括：
在适用于制备式XI‑b化合物的条件下，形成包含BCL3、Et2N、MeOH、 和如下化合物的反应混合物：
19.制备式XI‑c化合物的方法，
该方法包括：
在适于制备式XI‑b化合物的条件下，形成包含溶剂、试剂、酸和式XI‑b化合物的反应混合物：
20.权利要求19的方法，其中
所述溶剂为丙酮；
所述试剂为2,2‑二甲氧基丙烷；并且
所述酸为硫酸。
21.权利要求19的制备式XI‑c化合物的方法：
该方法包括：
在适用于制备式XI‑c化合物的条件下，形成包含丙酮、2,2‑二甲氧基丙烷、硫酸和如下化合物的反应混合物：
22.制备式VIII化合物的方法：
该方法包括：
在适用于形成式VIII化合物的条件下，形成包含偶联剂、非亲核性碱、式IX化合物和式X化合物的反应混合物：
其中
a
各R为H或PG；
19
各PG基团为羟基保护基，或者两个PG基团一起形成‑C(R )2‑；
e1 e2
R 和R 各自独立地为H、C1‑C6烷基或苄基；
f
R为H、C1‑C8烷基、苄基、C3‑C6环烷基或–CH2‑C3‑C6环烷基；
19
R 为H、C1‑C8烷基、苯基或取代的苯基；并且
LG为离去基团。
23.权利要求22的方法，其中
a 19
各R为PG，其中所述两个PG基团一起形成–C(R )2‑；
f
R为C1‑C8烷基；
19
R 为C1‑C8烷基；并且
所述离去基团LG为4‑硝基苯氧基或五氟苯氧基。
24.权利要求22的方法，其中
所述偶联剂为MgCl2；并且
所述非亲核性碱为二异丙基乙基胺。
25.权利要求22的方法，其中式VIII化合物为
26.权利要求22的方法，其中式VIII化合物为：
27.权利要求22的方法，其中式VIII化合物为：
28.权利要求22的方法，其中所述方法包括：
在适于形成式VIII化合物的条件下，
形成包含MgCl2、DIPEA、式IX化合物和式X化合物的反应混合物：
29.权利要求22的方法，还包括：
a a
在适合于形成其中各R 为H的式VIII化合物的条件下，形成包含去保护剂和其中各R 基团为保护基PG的式VIII化合物的第二反应混合物。
30.制备式VIII化合物的方法：
该方法包括：
在适合于制备式VIII化合物的条件下，形成包含偶联剂、非亲核性碱、式IX‑a化合物和式X化合物的反应混合物：
其中
a
各R为H或羟基保护基；
35 35 19
各R 独立地为H或羟基保护基，或者两个R 基团一起形成‑C(R )2‑；
e1 e2
R 和R 各自独立地为H、C1‑C6烷基或苄基；
f
R为H、C1‑C8烷基、苄基、C3‑C6环烷基，或–CH2‑C3‑C6环烷基；
19
R 为H、C1‑C8烷基、苯基或取代的苯基；并且
LG为离去基团。
31.权利要求30的方法，其中
35 19
各R 一起形成–C(R )2‑；
f
R为C1‑C8烷基；
19
R 为C1‑C8烷基；并且
离去基团LG为4‑硝基苯氧基或五氟苯氧基。
32.权利要求30的方法，其中
所述偶联剂为MgCl2；并且
所述非亲核性碱为二异丙基乙基胺。
33.权利要求30的方法，其中式VIII化合物为
34.权利要求30的方法，其中式VIII化合物为
35.权利要求30的方法，其中式VIII化合物为：
36.权利要求30的方法，其中式VIII化合物为：
37.权利要求30的方法，其中该方法包括：
在适于形成式VIII化合物的条件下：
形成包含MgCl2、DIPEA、式IX化合物和式X化合物的反应混合物：
38.权利要求30的方法，其中所述方法包括：
在适于形成式VIII化合物的条件下：
2
形成包含MgCl2、DIPEA、式IX‑a化合物和式X化合物的反应混合物：
39.权利要求30的方法，还包括：
a 35
在适合于形成其中各R 为H的式VIII化合物的条件下，形成包含去保护剂和其中各R基团为羟基保护基的式VIII化合物的第二反应混合物。
40.制备式X‑b化合物的方法：
该方法包括：
在适合于形成式X‑b化合物的条件下，形成包含合适的溶剂、合适的碱、和式X‑a化合物，以及任选的一种或多种式X‑b的晶种的反应混合物：
41.权利要求40的方法，其中
所述合适的溶剂为乙腈；并且
所述合适的碱为DBU。
42.下式的化合物：
或其药学上可接受的盐、水合物或酯。