1. 一种氧清除的方法，所述方法包括：
(i)提供氧清除剂组合物；和
(ii)将所述氧清除剂组合物加入到烃加工系统的水性进料和/或烃进料中。
2.如权利要求1所述的方法，其中所述氧清除剂组合物包含羟烷基羟胺和催化剂。
3.如权利要求2所述的方法，其中所述羟烷基羟胺是N,N‑双(2‑羟丙基)羟胺。
4.如权利要求1所述的方法，其中所述氧清除剂组合物是共混物。
5.如权利要求2所述的方法，其中所述催化剂是醌催化剂。
6.如权利要求5所述的方法，其中所述醌催化剂是氢醌、苯醌或其共混物。
7.如权利要求2所述的方法，其中所述羟烷基羟胺是N,N‑双(2‑羟丙基)羟胺，并且所述催化剂是氢醌。
8.如权利要求1所述的方法，其中所述氧清除剂组合物进一步包含N,N‑双(2‑羟乙基)羟胺、N,N‑双(2‑羟丁基)‑羟胺和/或二乙基羟胺。
9.如权利要求7所述的方法，其中所述N,N‑双(2‑羟丙基)羟胺与氢醌的比率为约
0.0001:100至约100:0.0001。
10. 如权利要求1所述的方法，其中以0.0001 ppm至约50,000 ppm的量将所述氧清除剂组合物加入到所述水性和/或烃进料中。
11. 如权利要求1所述的方法，其中所述水性和/或烃进料包含在约0.0001 ppm至约
50,000 ppm范围内的溶解的氧。
12.如权利要求1所述的方法，其中所述水性进料包含烃、硫化氢、二氧化碳、有机酸、酚、溶解的矿物质、链烷醇胺、二醇和/或氧。
13.如权利要求1所述的方法，其中所述烃进料是酸性气体或液体流或其共混物。
14.如权利要求1所述的方法，其中所述烃加工系统是炼油厂、天然气加工系统、煤气化设备或氨设备。
15.如权利要求1所述的方法，其中所述水性和/或烃加工系统包含酸性水汽提塔、二醇脱水单元或烃气体加工单元。
16.如权利要求1所述的方法，其中所述烃加工系统在约40°F至约500°F的温度范围下操作。
17.如权利要求16所述的方法，其中所述温度范围小于300°F。