序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
121 振动单元及振动台波形控制单元和方法 CN00126851.1 2000-09-06 CN1264075C 2006-07-12 奥田幸人; 前川明宽; 广江隆治; 作野诚
一种振动台波形控制单元,包括:一个离线补偿波发生器,根据在进行激励之前确定的振动台的逆特性和目标波,产生离线补偿波;和一个在线补偿波发生器,根据基于在激励期间的激励波和再现波的数据确定的振动台在激励期间的逆特性和目标波,产生在线补偿波,并且在激励期间它把激励波切换到基于来自离线补偿波的在线补偿波的混合补偿波。
122 具有远程监控的 CN200380101058.5 2003-10-10 CN1703604A 2005-11-30 J·布罗德本特; R·赫伯特; E·詹宁斯; R·J·卡拉斯; K·G·凯利
具有电子监控设备的商业机器,所述电子监控设备捕获所述制冰机的操作状态和生产历史信息。该机器的冰生产历史信息通过电话和/或因特网以定期发生的方式被传输给远程计算机。所述生产历史信息被用来给所述制冰机的用户产生发票,这样用户基于他或者她的实际冰消费量而被收费。所述制冰机的故障可以由所述监控设备所检测,并且被立即传输给服务公司,这样,所述制冰机可以在终端用户意识到该机器已经发生故障之前被维修。
123 全自动机械振动台控制系统 CN200410026051.8 2004-05-21 CN1700126A 2005-11-23 王之均; 沈晓媛
发明是全自动机械振动台控制系统,它由计算控制单元、传感单元、执行单元和机械振动试验台组成,其特征是:计算控制单元的输入端与传感单元连接,计算控制单元的输出端与执行单元电连接,传感单元与执行单元与机械振动试验台连接构成闭合控制回路;机械振动试验台振动过程包括:保持机械振动试验台位移幅值、加速度不变,使其在设定的频率范围内振动,按线性扫频振动;保持机械振动试验台振动加速度不变,使其在设定的频率范围按线性扫频振动。这种全自动机械振动台控制系统,它完成振动试验台频率、位移、速度、加速度和失真度等重要参数的可靠测量。
124 光学传感器装置 CN200510009070.4 2005-02-17 CN1657905A 2005-08-24 汤川洋平
发明涉及一种光学传感器装置(100),它包括用于向所述车辆之挡玻璃(40)发射光线的发光元件(11),以及用于检测发射至其上的光线的感光元件(21)。所述装置中具有用于容纳所述感光元件(21)和所述发光元件(11)的传感器壳体,一个控制总成(30)根据预定的光照模式驱动所述发光元件。所述控制总成(30)基于所述发光元件(11)之所述预定的光照模式将所述感光元件(21)的输出转换成雨传感器或照明传感器的输出。因此,所述雨传感器和所述照明传感器可以共享相同的发光元件(21),从而使得所述光学传感器装置(100)的尺寸得以减小。
125 自控行程数控钻削动头及其控制方法 CN200410023425.0 2004-01-12 CN1640595A 2005-07-20 封学平; 黄玉新
一种数控钻床用自控行程数控钻削动头及其控制方法。自控行程数控钻削动力头由动力头的电机、减速器、钻头,与进给部分的运动导轨副、丝杠螺母副、伺服电机、传动件及控制部分的伺服驱动器控制器、进给行程自控部分组成。进给行程自控部分由伺服驱动器的转矩监视单元、电压检测和转换装置两部分组成。其控制方法是通过检测伺服驱动器的转矩监视电压、经信号转换,由控制器、伺服驱动器以伺服驱动方式实现钻削动力头进给行程自控,即进给方式为:当钻头未接触工件时为快进、接触工件后变为工进、钻透或钻至沉孔深度时变为快退。除沉孔深度值外,无需输入进给行程数据;既能钻通孔又能钻沉孔,加工效率高、维护成本低、结构简单,有利环保。
126 系统互连装置及其设定值设定方法、该装置用设定装置 CN200410056257.5 2004-08-06 CN1580984A 2005-02-16 加藤匡也; 豊浦信行; 马渕雅夫; 细身伸一
设定与使用国或电公司等使用地域对应的系统互连装置设定值的设定操作非常繁琐。而本发明提供一种可简单设定与使用国或电力公司等使用地域对应的互连保护值等设定值的系统互连装置及系统互连装置的设定值设定方法、系统互连装置用设定装置。系统互连装置具有设定有关各系统保护的设定值的设定值设定部;基于设定的设定值控制各系统保护的控制部,其中具有按每个国家预先存储有关系统保护的设定值的国别设定值管理表;通过国家代码输入部及GPS接收部识别系统互连装置使用国的国家代码识别部,当由国家代码识别部识别出国家代码时,设定值设定部从国别设定值管理表读取与该国家代码对应的有关系统保护的设定值,将读取的设定值设定在控制部。
127 复杂滞后过程的先进控制方法及其系统 CN03123876.9 2003-06-09 CN1567107A 2005-01-19 胡品慧; 阎峰; 袁璞
一种复杂滞后过程的先进控制方法及实现该方法的系统,至少包括:预测该复杂滞后过程输出的未来值;对该过程当前的输出进行预测;对该过程进行在线反馈校正;对该过程进行最优控制;依据约束限对计算得到的最优控制率判断,得到满足约束条件的控制增量,并将该控制增量施加到被控过程中去。本发明依据被控过程具体情况和测点情况,选取相关的过程变量为状态变量,使用实测的状态变量计算最优控制率;并通过选取可测干扰变量设计模型预测前馈来计算最优控制率,实现了实测状态变量反馈设计,增大了控制系统对被控过程工艺变化、操作控制变化的适应范围,提高了控制系统的鲁棒稳定性及抗干扰能
128 激励器的驱动装置及驱动方法 CN200310121762.9 2003-12-23 CN1548597A 2004-11-24 宫下达夫; 间所昭夫; 山田茂生
发明公开了一种激励器的驱动装置,旨在提供一种可按照驱动停止命令迅速使激励器为OFF,同时降低成本的激励器的驱动装置,其包含至少一个处理电路,该处理电路包括:第1开关,配置于激励器的励磁线圈与直流电源之间,按照对应于驱动期间中的过励磁期间及该过励磁期间以后的保持期间产生的脉宽调制信号进行开关操作;环流部,与励磁线圈并联,包括环流二极管及与此并联的第2开关;断开信号产生器,在驱动期间结束后的一定期间,输出断开信号至第2开关;其中,环流二极管在第1开关处于开状态时,可使自励磁线圈一端向另一端产生的电流环流;第2开关利用随驱动期间结束产生的断开信号的输入而处于开状态,阻止上述环流。
129 研磨浆臂自动控制装置及方法 CN200310103619.7 2003-10-29 CN1523461A 2004-08-25 林必窕; 黄循康
发明提供一种研磨浆臂(Slurry Arm)自动控制装置及方法。此研磨浆臂自动控制装置至少包括移动达、信号处理控制板、以及移除率接收器程序。此研磨浆臂自动控制方法为通过计算机整合制造(Computer Integrated Manufacturing;CIM)系统传输测试晶圆的厚度信息至信号处理控制板,再利用信号处理控制板内的移除率接收器程序计算出研磨浆臂的适当位置,然后利用移动马达将研磨浆臂移动至所计算出的适当位置以进行研磨。
130 半导体自动处理设备和方法 CN99808318.6 1999-06-25 CN1126610C 2003-11-05 杰弗里·A·戴维斯; 凯文·P·梅依尔; 科特·L·道尔契克
安装在净化室(54)中的自动半导体处理系统有一个垂直相对于处理舱(94)的度盘舱(75)。在度盘舱中的度盘(72)为处理过程中的半导体晶片提供堆放或存储功能。处理室(68、70)位于处理舱中。处理机械手(66)在度盘舱和处理舱间运动,以从处理室往返搬运半导体晶片。处理机械手有沿提升杆(254)垂直移动的机械臂(255)。半导体晶片偏离机械臂搬运以进一步避免污染。这是一款紧凑的,需要较小净化空间的自动系统。
131 台架定位及其控制、曝光装置和半导体器件的制造方法 CN03106393.4 2003-02-26 CN1441476A 2003-09-10 森贞雅博
驱动于面板上沿相互正交方向可分别移动的X移动体3与Y移动体4导引的台架2的同时,根据控制X移动体3的姿势的信号,控制移动体4的姿势。
132 实现最优化自抗扰反馈控制的方法和装置 CN01129433.7 2001-06-19 CN1333487A 2002-01-30 韩京清
发明涉及一种实现最优化自抗扰反馈控制的方法和装置。适用于通过控制对象的状态推定值和目标值的误差来算出被控对象的控制量的反馈控制,是一种控制目标值的过渡过程的过渡过程控制方法,它是根据上述的过渡过程变位加速度的变化类型,决定上述的过渡过程的类型,又,以上述决定的过渡过程的类型来控制上述目标值的过渡过程的包括其过渡过程作为特征的过渡过程控制方法。
133 过程控制装置 CN93118037.6 1993-10-08 CN1071912C 2001-09-26 広井和男
一种过程控制装置,主要特征是在控制量的反馈线路(控制对象和偏差运算电路之间)中插入具有超前/滞后元件的控制量滤波器,其超前/滞后时间与PI调节运算的积分时间T1成比例关系,从而能对控制量进行时间超前/滞后操作。该滤波器的传递函数为(1+α·β·T1·s)/(1+β·T1·s),式中,S为拉普拉斯算子,系数α、β的最佳值分别2.5、0.54,使该滤波器的稳态增益为1、过渡增益为1以上。
134 半导体自动处理系统 CN99808318.6 1999-06-25 CN1308565A 2001-08-15 杰弗里·A·戴维斯; 凯文·P·梅依尔; 科特·L·道尔契克
安装在净化室(54)中的自动半导体处理系统有一个垂直相对于处理舱(94)的度盘舱(75)。在度盘舱中的度盘(72)为处理过程中的半导体晶片提供堆放或存储功能。处理室(68、70)位于处理舱中。处理机械手(66)在度盘舱和处理舱间运动,以从处理室往返搬运半导体晶片。处理机械手有沿提升杆(254)垂直移动的机械臂(255)。半导体晶片偏离机械臂搬运以进一步避免污染。这是一款紧凑的,需要较小净化空间的自动系统。
135 用于振动台波形控制装置 CN00126851.1 2000-09-06 CN1292511A 2001-04-25 奥田幸人; 前川明宽; 广江隆治; 作野诚
一种振动台波形控制单元,包括:一个离线补偿波发生器,根据在进行激励之前确定的振动台的颠倒特性和目标波,产生离线补偿波;和一个在线补偿波发生器,根据基于在激励期间的激励波和复制波的数据确定的振动台在激励期间的颠倒特性和目标波,产生在线补偿波,并且在激励期间它把激励波切换到基于来自离线补偿波的在线补偿波的混合补偿波。
136 无模型控制技术 CN94112504.1 1994-09-08 CN1049051C 2000-02-02 侯忠生
发明涉及一种工业自动控制技术及用该技术研制控制器硬件构成,由无模型控制律,时变参数估计算法及受控系统组成,提出一种不用建立受控系统数字模型,而直接应用受控系统输入输出数据的自控技术及应用此技术所制成的无模型控制器,旨在满足工业过程控制中对低成本、高质量的控制技术及控制器的要求。
137 前馈校正不符合规格情况的方法 CN98107917.2 1998-04-27 CN1200501A 1998-12-02 J·M·柯兹伯格; M·拉华诺尼
在目前的制造实践中,如果工艺过程导致不符合其规格的零部件,后者或被返回重新加工,或被报废。这导致了无法接受的浪费。本发明包括通过对随后的工艺过程进行的校正操作,使此加工与材料浪费减至最少的方法。这种方法具有通用性,能校正不符合规格的制造工艺过程情况的影响,包括补救零部件,由此事先预防了重新加工或报废。
138 表针电接点控制装置 CN93114818.9 1993-12-01 CN1103492A 1995-06-07 张居平
发明表针电接点控制装置,特别适用于压表和温度表,包括两个控制针和两个限位针,其特征在于:控制针复位装置是安装在其上的小磁及对应安装在表针、限位针上的小磁块或可磁化材料小块。还装置有由继电器组件或晶闸管组件构成的控制组件。它克服了现有技术螺旋弹簧复位装置怕震、易断、制造复杂的缺陷,从而简化结构延长寿命。另外,装备了控制组件,扩大了控制功率,从而可直接用于大功率工业控制电路
139 高性能模糊逻辑处理方法 CN93121524.2 1993-12-30 CN1095168A 1994-11-16 崔圣国
一种改善模糊推理速度的方法,当多重控制规则建立一公共模糊标记时,由模糊控制规则的规则成分(RC)的址大一处理来避免重叠计算,该方法包括接收条件部分各通道的数据,确定各数据的条件元素数,根据各标记由选择该条件元素数中最小值来确定模糊控制规则的RC,由比较和选择各标记的RC中最大值执行最大一处理,对各模糊控制规则重复该操作,根据各标记的最终RC确定一结论元素数函数,和由该结论元素数函数确定一最终结论元素数函数。
140 过程控制装置 CN93118037.6 1993-10-08 CN1087184A 1994-05-25 広井和男
一种过程控制装置,主要特征是在控制量的反馈线路(控制对象和偏差运算电路之间)中插入具有超前/滞后元件的控制量滤波器,其超前/滞后时间与PI调节运算的积分时间T1成比例关系,从而能对控制量进行时间超前/滞后操作。该滤波器的传递函数为(1+α·β·T1·s)/(1+β·T1·s),式中,s为拉普拉斯算子,系数α、β的最佳值分别2.5、0.54,使该滤波器的稳态增益为1、过渡增益为1以上。
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