首页 / 专利分类库 / 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制 / 非机械方法去除表面上的金属材料(电浸蚀法加工金属入B23H;火焰法清除表层金属材料入B23K 7/00;用激光束加工金属入B23K 26/00);金属材料的缓蚀;一般防积垢(电解或电泳法处理金属表面或金属覆层入C25D,C25F);至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法之多步法金属材料表面处理
序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
41 表面硬化及其制造方法以及齿轮部件的制造方法 CN202410111883.7 2017-05-31 CN117888030A 2024-04-16 安藤佳祐; 岩本隆; 富田邦和; 长谷和邦; 西村公宏
申请提供一种表面硬化及其制造方法以及齿轮部件的制造方法,该表面硬化钢适合作为用于以较低成本制作具有高旋转弯曲疲劳强度和接触疲劳强度的机械结构用部件的原材料。
42 一种缓蚀剂、用于CO2输送环境的缓蚀组合物及其制备方法和应用 CN202211229520.0 2022-10-08 CN117886780A 2024-04-16 蒋秀; 于超; 花靖; 谷成林
发明涉及油气田用化学剂及金属材料的腐蚀与防护技术领域,具体涉及一种缓蚀剂、用于CO2输送环境的缓蚀组合物及其制备方法和应用。缓蚀剂的制备方法包括:在微波存在下,将苄基哌嗪、含有基的化合物和含有羟基的化合物进行反应;所述苄基哌嗪、含有醛基的化合物和含有羟基的化合物的用量的摩尔比为1‑1.7:1‑1.4:1。本发明所述的方法制备的缓蚀剂含有多个具有优异缓蚀功能的官能团,可在金属表面形成三键、N、O等多个吸附中心。利用该缓蚀剂、有改性剂、分散剂、溶剂等成分制备的用于CO2输送环境的缓蚀组合物可以达到高效耐高浓度CO2腐蚀的功能。
43 一种用于的绿色高效复配气相缓蚀剂制备方法 CN202110754894.3 2021-07-05 CN115584506B 2024-04-16 宋海燕; 郎济凤; 刘光发; 梁爽
发明公开了一种用于的绿色高效复配气相缓蚀剂制备方法,包括以下含量的复配缓蚀剂组分:苯甲酸钠11~13g/L、葡萄糖酸钠11~13g/L、植酸13~15g/L、柠檬酸钠3~5g/L。该气相缓蚀剂制备方法主要包括如下步骤:(1)测试苯甲酸钠、葡萄糖酸钠、植酸和柠檬酸钠四种缓蚀剂在烘干条件下的失重率;(2)将四种缓蚀剂用去离子配制成浓度0~15g/L的单组份缓蚀剂溶液;(3)通过电化学实验确定主缓蚀剂苯甲酸钠并筛选出各单组份缓蚀剂的优选浓度范围;(4)将苯甲酸钠与其余3种缓蚀剂依次进行二元复配、三元复配和四元复配实验;(5)通过电化学实验和湿热实验确定四元复配缓蚀剂的优选配方。本发明缓蚀效果好、安全环保、成本较低、具有较好的产业化应用前景。
44 蚀刻液组合物 CN202010646173.6 2020-07-07 CN113073327B 2024-04-16 金益儁; 朴相承; 金载烨; 李宝研; 金世训
发明涉及选择性地蚀刻用作TFT‑LCD显示器的电极膜和含钼膜的蚀刻液组合物,根据本发明,可以提供铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物,该蚀刻液组合物能够实现对铜膜和含钼膜的选择性的蚀刻,通过容易的蚀刻速度的控制,可以提供具有目标图案的直线性和锥的金属配线,实现稳定的蚀刻轮廓,从而不仅可实现高处理张数,而且对大面积处理有效。
45 蚀刻液组合物 CN202010646905.1 2020-07-07 CN112342547B 2024-04-16 朴相承; 金益儁; 金载烨; 李宝研; 金世训
发明涉及选择性地蚀刻用作TFT‑LCD显示器的电极膜和含钼膜的蚀刻液组合物,根据本发明,可以提供铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物,该蚀刻液组合物能够实现对铜膜和含钼膜的选择性的蚀刻,通过容易的蚀刻速度的控制,可以提供具有目标图案的直线性和锥的金属配线,实现稳定的蚀刻轮廓,从而不仅可实现高处理张数,而且对大面积处理有效。
46 一种光伏太阳能N型化物半导体ITO化学制作工艺 CN202410279898.4 2024-03-12 CN117878196A 2024-04-12 王运太; 王玉; 饶猛; 莫庆生; 赵子俊
发明公开了一种光伏太阳能N型化物半导体ITO化学制作工艺,包括以下步骤:采用阳离子型调整剂对ITO薄膜进行表面调整处理,随后将其放置于氯化钠盐酸的混合溶液中进行预浸处理,接着放置于胶体钯溶液中进行活化处理,再将ITO薄膜置于化学镀液中进行化学镀铜处理,洗烘干后,在ITO薄膜表面上贴干膜,并通过LDI曝光机对干膜进行曝光显影后,得到线路图案,再对其电镀铜处理以加厚铜层;蚀刻处理,以去除电镀铜层之外的部分铜,形成所需的线路图案;本发明采用化学镀铜工艺在ITO薄膜上形成铜镀层,相比于传统的浆印刷方式,不仅可避免产生银浆废料影响环境,还能避免在高温烘烤下对ITO薄膜的电转换率造成影响。
47 一种模具咬花加工设备 CN202310295945.X 2023-03-23 CN117867500A 2024-04-12 杨高博; 杨超华
发明公开了一种模具咬花加工设备,涉及模具咬花装置技术领域,包括工作台,所述工作台的顶端通过焊接固定有固定座,所述工作台的顶端通过焊接固定有两个限位轨,还包括有限位机构。本发明通过设置限位机构,第一电机的输出端转动通过机械传动带动带动放置座移动,放置座移动带动挤压向上移动,弹簧恢复原状并带动挤压块移动,挤压块移动通过机械传动带动挤压板移动,通过此结构有利于在模具进行咬花操作前,对模具外壁进行夹持限位的操作,避免模具在咬花时出现位置偏移的情况,同时工作人员手部不与加工中模具的外壁接触,进而避免了工作人员手部出现受伤的情况,安全性也相对增加。
48 一种耐温高缓蚀溶性缓蚀剂的制备方法及其应用 CN202311538699.2 2023-11-17 CN117512599B 2024-04-12 朱浩良; 潘勇
发明涉及金属缓蚀技术领域,且公开了一种耐温高缓蚀溶性缓蚀剂的制备方法及其应用,三羟乙基曼尼希季铵盐中间体与均苯四甲酸酐进行聚合反应,得到具有支化网络结构的耐温高缓蚀水溶性缓蚀剂。缓蚀剂含有亲水性的季铵盐、羧基基团,在水中具有良好的溶解性。缓蚀剂含有的曼尼希碱季铵盐和咪唑作为螯合配位体,含有的极性氮原子,其孤对电子表面原子形成配位键;使得缓蚀剂紧紧地吸附在钢金属表面,从而在盐酸腐蚀介质和钢之间自组装形成稳定的空间网络结构的阻隔层;阻止蚀介质中的H+和水与钢表面接触,降低腐蚀反应速率,起到很好的防腐缓蚀作用。
49 用于有机分析仪器的不锈耐磨纳米膜的制备方法 CN202210560765.5 2022-05-23 CN114807947B 2024-04-12 尹辉; 孙永利; 马麒; 蒋明玲; 谭清
发明公开了用于有机分析仪器的不锈耐磨纳米膜的制备方法,包括如下步骤:步骤1:表面预处理;步骤2:表面微结构生成;步骤3:表面网状层生成;步骤4:低表面能化学修饰。本发明首先,对不锈钢表面进行预处理,除油、酸活化;然后,进行表面预铬、着色氧化、电解固膜,形成致密金属氧化物层,并暴露缺陷与硅羟基活性点;随后配制一定浓度的封闭打底试剂,通过浸泡、加热固化、表面去有机基团等,形成与不锈钢表面硅羟基相连的均匀致密网状结构的二氧化硅亲水打底层;最后,浸泡在低表面能试剂溶液中进行化学修饰。本发明制备的不锈钢表面具有缺陷少、致密均匀、疏水性佳、低VOC残留的优点。
50 一种多羟基阳离子高温耐缓蚀剂的制备及应用 CN202011312097.1 2020-11-20 CN114516834B 2024-04-12 曾文广; 石鑫; 张江江; 冯一波; 郭玉洁; 秦飞; 李芳; 鄢宇杰; 魏晓静; 彭明旺; 陈友猛; 魏宏洋; 应海玲
发明提供了一种多羟基阳离子高温耐缓蚀剂的制备及应用,涉及缓蚀剂的合成技术领域,多羟基阳离子缓蚀剂通过以下步骤制备:(1)中间体A的合成:将醇胺和溶剂混合后,再滴加环氧化合物,滴加结束后加热并搅拌,反应得到中间体A;(2)将中间体A与3‑(氯甲基)喹啉混合后加入溶剂,加热回流,反应得到多羟基阳离子缓蚀剂。该缓蚀剂具有环境友好性、耐高温,耐氧腐蚀,能显著降低质管道的腐蚀险,延长其使用寿命,符合油田发展的需要。
51 薄膜晶体管及其制作方法和显示面板 CN202211209419.9 2022-09-30 CN117855043A 2024-04-09 孔曾杰; 高玉杰; 刘信; 郭会斌
发明提供了薄膜晶体管及其制作方法和显示面板。制作薄膜晶体管的方法包括:在基板的一侧依次形成栅极、栅绝缘层、半导体层、掺杂半导体层和金属层;在金属层的表面上形成光刻胶层,光刻胶层包括第一光刻胶层;通过第一光刻胶层依次进行第一次湿刻蚀、光刻胶灰化、干刻蚀和第二次湿刻蚀,得到源极、漏极、欧姆接触层和有源层,第一次湿刻蚀和第二次湿刻蚀中的至少之一所使用的刻蚀液为复合刻蚀液,复合刻蚀液包括刻蚀金属液和氟离子,复合刻蚀液可刻蚀金属层、杂半导体层和部分半导体层。上述制作工艺可以节省工艺流程,还可降低寄生电容和光照漏电流,进而可以有效改善显示面板波纹、串扰等信赖性不良的缺陷,还有利于实现极窄边框。
52 一种显示面板蚀刻液配方及其研制方法 CN202410257897.X 2024-03-07 CN117854615A 2024-04-09 王国洪; 王润杰; 许朱男; 颜禧历
发明蚀刻液的配方发现方法,特别是一种显示面板蚀刻液配方及其研制方法,通过模型读取成分属性信息和SEM图像的信息,综合了蚀刻速率,选择性和均匀性三个方面的目标来达到高效研发显示面板铜蚀刻液配方的目的。
53 一种石墨烯基油气酸化缓蚀剂的制备方法 CN202410071782.1 2024-01-18 CN117845223A 2024-04-09 王嵩滔; 赵媛; 黄晨洋; 刘雨蒙; 费茹惠
发明提出了一种石墨烯基油气酸化缓蚀剂的制备方法。本发明在模拟油气井酸化环境的条件下,评估了二基十烷功能化氧化石墨烯(DAD‑GO)和二氨基十二烷功能化氧化石墨烯(DADD‑GO)在盐酸环境下对的缓蚀效果,考察了浓度和温度抑制剂性能的影响。在室温下,DAD‑GO的抑菌率随浓度的增加而增加。在所研究的温度下,抑制剂表现良好,然而随着温度的升高,抑制剂的性能下降。钢在抑制溶液中浸泡24小时后,官能化的石墨烯氧化物分子吸附在钢上,形成一层保护层,表现出较好的抑制腐蚀效率,在油气井酸化领域有着很好的发展前景。
54 一种合金性化学抛光方法 CN202311502952.9 2023-11-13 CN117845220A 2024-04-09 李旭; 崔国昌; 宋微; 田尧; 刘洋; 李宁; 胡正彬; 张云海
发明涉及金属表面处理技术领域,尤其涉及一种合金性化学抛光方法。所述碱性化学抛光方法包括如下步骤:(1)取未抛光的铝合金,在含有4~6g/L表面活性剂溶液中浸泡10~15min,得到预处理的铝合金;(2)将预处理的铝合金浸泡至碱性抛光液中进行抛光,抛光温度为40~50℃,抛光时间为2.0~2.5min。发明通过在碱液抛光过程中使用超声处理,能使铝合金表面的凸出部分在被碱液腐蚀为瘦长状时,更容易折断为更短的部分,从而加快碱液抛光的效率,减少铝合金的失重;同时,通过考察合理的超声工艺参数,在满足铝合金凸出部分折断所需的强度,同时又不会加快碱液对铝合金原有平整部位的侵蚀,最终时铝合金表面趋于平坦,达到最佳的抛光效果。
55 一种基于硫酸-过化氢体系的微蚀液 CN202311633340.3 2023-11-30 CN117845218A 2024-04-09 曾祥健; 何念; 连纯燕; 孙宇曦; 曾庆明; 潘湛昌; 胡光辉
发明提供一种基于硫酸‑过化氢体系的微蚀液,包括过氧化氢、硫酸、硫酸铜、缓蚀剂、醇类和磷酸组成的过氧化氢稳定剂、去离子;本发明蚀刻溶液的蚀刻速率快、受氯离子干扰少、过氧化氢稳定性强、侧蚀量少,且蚀刻后的铜板粗糙度均匀;过氧化氢在酸性环境下是强氧化剂,能够和铜反应,将铜原子化成铜离子,硫酸的作用主要是提供酸性环境,与过氧化氢共同作用,完成对铜原子的氧化过程;硫酸铜的作用是提供Cu2+,与铜原子反应生成Cu+,含氮原子有机物和Cu+反应,在铜表面生成一层吸附膜,一定程度上阻碍了过氧化氢在酸性环境下对铜原子的快速氧化,避免蚀刻速率过快,起到了减缓蚀刻的作用,加入缓蚀剂得到的蚀刻后的铜面粗糙度比较均匀。
56 用于显示取向的原奥氏体晶界腐蚀液及腐蚀方法 CN202410257471.4 2024-03-07 CN117845217A 2024-04-09 刘朋成; 孙婷婷; 侯宏; 祁艳星; 杨文昆; 李艳霞; 吴忠旺; 冯海涛; 卢晓禹; 邬宇轩; 郝娟娟; 宋世明; 裴瑞东
发明属于材料检测技术领域,具体为一种用于显示取向钢的原奥氏体晶界腐蚀液及腐蚀方法,调整腐蚀液的组成为苦味酸、洁尔灭溶液、潘婷护发素与;在腐蚀时采用分次腐蚀的方式,腐蚀后取向硅钢的原奥氏体晶界清晰完整,在金相显微镜下能清楚地观察到取向硅钢的晶粒度,并适用于晶粒度的评级软件
57 一种加速透明基底表面液滴流动的石墨烯涂层制备方法 CN202311852041.9 2023-12-29 CN117839992A 2024-04-09 赵沛; 方佳媛
发明公开了一种加速透明基底表面液滴流动的石墨烯涂层制备方法,属于石墨烯应用领域。首先,将石墨烯‑箔放置在腐蚀溶液表面进行刻蚀。刻蚀过程中,在石墨烯‑铜箔的石墨烯侧滴加庚烷,使得庚烷完全覆盖石墨烯表面,形成保护层。待铜箔刻蚀完毕后,将透明基底平置于石墨烯‑铜箔上方,使透明基底与石墨烯侧接触。将透明基底缓慢压向石墨烯使得石墨烯与透明基底充分接触,得到石墨烯‑透明基底复合层。最后捞出石墨烯‑透明基底复合层,清洗去除残留物质并干燥,得到附着于透明基底表面洁净的石墨烯涂层。该方法制备得到的透明基底能够借宿液滴流动,有望应用于监控设备防潮、影像设备镜头防雾等领域。
58 一种用于油田污的阻垢剂及其制备方法 CN202310240949.8 2023-03-14 CN116199825B 2024-04-09 孙永强; 孙春同; 任平平; 任海宁; 齐海花
发明属于污处理技术领域,具体涉及一种用于油田污水的阻垢剂及其制备方法。所述制备方法如下:用氮气吹扫反应器及管路,反应器中加入1‑烯丙基‑3‑甲基咪唑甲苯磺酸盐、(S)‑2‑基‑2‑甲基‑4‑戊烯酸、2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸、去离子水,搅拌均匀,调节pH;将反应器中的大部分混合溶液转移到第一高位槽中;在第二高位槽中加入引发剂,将部分引发剂投加到反应器中,同时反应器维持反应后,第一高位槽和第二高位槽的液体同时滴加到反应釜,滴加完毕后,升温搅拌,得到产品阻垢剂。本发明的阻垢剂成本低廉、制备方法简单,适合推广应用,且具有阻垢、缓蚀效果好的优点。
59 一种小型化快速激活热电池用加热材料及其制备方法 CN202310062253.0 2023-01-18 CN116162008B 2024-04-09 罗莉; 唐军; 唐立成; 王京亮; 杨子恒; 潘志鹏; 李云伟; 赵洪楷; 袁再芳
申请公开了一种小型化快速激活热电池用加热材料及其制备方法,该加热材料按质量分数计由75%~80%微蚀刻法制备的多孔粉、12%~18%高氯酸、5%~10%微纳粉组成;具体制备过程:按照1L微蚀刻液:1kg微纳铁粉的比例对微纳铁粉进行微蚀,在35℃条件下处理30s~60s后清洗2次~3次,在60℃~80℃惰性干燥箱干燥后与高氯酸钾、微纳硼粉混合,球磨30min~2h;本发明通过对微纳铁粉改性和添加微纳硼粉,极大地提高了加热材料的燃烧速度和单克发热量,实现了电池的小型化和快速激活。
60 一种变形的金相腐蚀剂及其晶粒显示方法 CN202210408165.7 2022-04-19 CN114774921B 2024-04-09 周健; 董樑; 芮云鹏; 王赞; 薛烽; 白晶
发明公开了一种变形的金相腐蚀剂及其晶粒显示方法。属于金相制备技术领域,其由以下组分按体积百分比配制:18~24%浓硝酸,46~52%醋酸,余为无乙醇,其晶粒显示方法的操作步骤:将制取的变形锡青铜试样打磨至表面光滑平整且划痕方向一致后,用1.5~2.5μm的金刚石抛光剂进行抛光,控制转速为400~600rpm;先后用水和无水乙醇冲净并吹干;用胶头滴管吸取所述金相腐蚀剂并滴于抛光后的试样表面,静置10~20s后洗净并吹干;在金相显微镜下观察试样的显微组织并拍照记录。本发明制备的变形锡青铜金相试样,晶粒边界和晶粒内部组织清晰可见,腐蚀过程易于把控,有利于生产实践中调控变形锡青铜的显微组织。
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