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| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 181 | 用于生产含SiO2的芯片用绝缘层的硅化合物 | CN200480041912.8 | 2004-12-22 | CN1918323A | 2007-02-21 | E·米; H·劳勒德; H·克莱因; J·蒙基维茨; I·萨沃普洛斯 |
| 本发明涉及一种制备含SiO2的芯片用绝缘层以及用于该目的的特定前体的应用。本发明还涉及可以这种方式获得的绝缘层，以及用这种绝缘层获得的芯片。 | ||||||
| 182 | 用于提高室内空气质量的多层光催化剂/热催化剂 | CN200480041757.X | 2004-12-09 | CN1917966A | 2007-02-21 | D·魏; T·H·范德斯普尔特; R·拉德哈克里什南; S·O·海; T·N·奥比; W·R·施密德特 |
| 一种层状的光催化/热催化涂层，其将吸附到该涂层上的杂质氧化为水、二氧化碳和其它物质。所述层状涂层包括氧化挥发性有机化合物的二氧化钛的光催化外层。所述涂层进一步包括氧化低极性有机分子的VIII族贵金属掺杂的二氧化钛的中间层。在二氧化钛上的金的内层将一氧化碳氧化为二氧化碳。当紫外光的光子被所述涂层吸收时，形成反应性羟基。当杂质被吸附到所述涂层上时，羟基将杂质氧化为水、二氧化碳和其它物质。 | ||||||
| 183 | 液晶显示器的制造方法 | CN03155153.X | 2003-08-22 | CN1295028C | 2007-01-17 | 盛培华; 李俊贤; 施俊安; 林伯宣; 许博义 |
| 一种液晶显示器的制造方法，该方法通过加工条件的配合来提高光阻材料的利用率，同时加快生产速度、降低制造成本，并具有较佳涂布均匀性。本发明的制造方法首先以一流延涂布机将动态表面张力介于25～35dyne/cm之间的感旋光性树脂组成物经由狭长模头涂布在至少一边的边长大于800mm的基板上，以形成一膜厚L1的湿涂膜，然后对湿涂膜进行预烤以蒸发溶媒，并形成一膜厚L2的预烤涂膜。其中膜厚L1大于8μm，但小于25μm，且膜厚L1/膜厚L2＝3.2～15，该基板及狭长模头并以50～120mm/sec的相对速度移动，且上述感旋光性树脂组成物与基板的接触角介于8～25度之间。 | ||||||
| 184 | 药液涂敷装置及药液涂敷方法 | CN200610091758.6 | 2006-06-12 | CN1876243A | 2006-12-13 | 立石文则 |
| 本发明旨在提供一种通过可以均匀且没有偏差地涂敷药液的旋转涂敷法来进行涂敷的药液涂敷装置及药液涂敷方法。本发明的技术方案的要点是：配置有多个用于将药液涂敷在固定在基台上的涂敷对象物上的喷嘴。各喷嘴可以分别独立沿着上下左右方向移动。因此，可以控制喷出点，并且可以进行对应更广的粘度范围的药液的涂敷。通过实施本发明，可以获得在整个衬底上膜厚差异小且厚度均匀的涂敷膜，并且可以获得使用消除了被喷出的药液的浪费并提高了使用效率的药液喷出方法的药液涂敷装置。 | ||||||
| 185 | 涂敷装置和涂敷方法 | CN200510051229.9 | 2002-03-21 | CN1799705A | 2006-07-12 | 菅家伸 |
| 一种涂敷装置和涂敷方法，包括：一个用于传送被涂物体的设备；一个涂敷设备，被设置在被涂物体的传送表面附近，并排放涂敷液体，并在该涂敷设备与由传送被涂物体的设备所传送的被涂物体之间形成液体的桥接，并把涂敷液体涂敷到被涂物体的至少一个表面上；一个吹气设备，在开始涂敷之后，从一个大致与被涂物体传送方向相反的方向朝开始涂敷处的被涂物体的一部分立即吹气。 | ||||||
| 186 | 用于制备含溶剂的低介电材料的组合物 | CN200510065651.X | 2005-03-02 | CN1757445A | 2006-04-12 | S·J·维格; S·N·克霍特; J·E·马道加尔; T·A·布拉梅; J·F·基尔纳; B·K·彼得森 |
| 本文公开了介电常数为3.7或更低的二氧化硅基材料和薄膜以及用于制备它们的组合物和方法以及使用它们的方法。一方面，提供了一种用于制备二氧化硅基材料的组合物，其含有至少一种二氧化硅源、溶剂、至少一种气孔源、任选的催化剂和任选的流动添加剂，其中溶剂在90℃－170℃的温度范围内沸腾，并且选自由下式表示的化合物：HO－CHR8－CHR9－CH2－CHR10R11，其中R8，R9，R10和R11可以独立地为1－4个碳原子的烷基基团或氢原子；和R12－CO－R13，其中R12是具有3－6个碳原子的烃基；R13是具有1－3个碳原子的烃基；以及它们的混合物。 | ||||||
| 187 | 纳米薄膜成形机 | CN200510094138.3 | 2005-08-31 | CN1736616A | 2006-02-22 | 廖恒成; 丁历; 田琼 |
| 本发明公开了一种用于制备纳米功能薄膜的纳米薄膜成形机，由真空舱舱体和电机组成，真空舱舱体由座舱和上盖组成，上盖设在座舱上，电机设在座舱内且由设在座舱上的固定法兰固定，在电机的转轴上连接有基底托盘，在上盖上设有进液口且进液口位于基底托盘的上方，在真空舱舱体上设有用于抽真空的真空接头，在真空舱舱体内设有热解用热源和光解用光源，且热源和光源安放位置高于基底托盘；本发明具有集薄膜成形、热解或光解及高温相变于一体、有助于提高或保证纳米薄膜质量等优点。 | ||||||
| 188 | 在资讯显示器上形成电磁遮蔽及抗反射涂层的方法 | CN01116106.X | 2001-05-09 | CN1236864C | 2006-01-18 | 胡俊民; 王国柱 |
| 一种在资讯显示器上形成电磁遮蔽及抗反射涂层的方法，在含有导电材料的抗静电涂布溶液中，加入折射率在1.8-2.7的高折射率的金属氧化物，混合均匀之后，于其中加入一定比例的溶剂加以稀释，形成抗静电涂布溶液，该抗静电涂布溶液中的导电材料及金属氧化物均匀混合，再将抗静电涂布溶液均匀地涂布在资讯显示器的显示面板表面上，形成抗静电涂层，在抗静电涂层上均匀涂布含有二氧化硅成分的溶液，形成具有低折射率的二氧化硅薄膜，并形成抗反射涂层。具有制程简单及低成本的优点。 | ||||||
| 189 | 被处理物搬送装置及被处理物的装饰方法 | CN200510005606.5 | 2005-01-21 | CN1695821A | 2005-11-16 | 菅野三男; 松本圣司 |
| 提供一种在将复数的被处理物，凭介主轴安装在长尺状物体上的状态下，一边使该长尺状物体与长尺状小车共同做环绕动作等，一边能够进行表面处理的被处理物搬送装置，以及使用了该装置的被处理物的装饰方法。是具备：装有用于安装被处理物的主轴的长尺状物体；可拆下该长尺状物体的接合用长尺状小车；用于使该长尺状小车移动的移动手段的被处理物搬送装置，在长尺状小车与移动手段之间设置复数的接合处的同时，设置用于随着长尺状小车的非直行行进，变换该复数的接合处之间的距离的可变部件。 | ||||||
| 190 | 糊剂涂布机和涂布方法 | CN200410083326.1 | 2004-09-29 | CN1651153A | 2005-08-10 | 石田茂; 川隅幸宏; 松井淳一; 山间伸也; 圆山勇; 神田广造; 赤塚一义 |
| 在制造液晶面板时，存在利用尺寸为2m的玻璃板进行制造的方法。在这种情况下，在基板面上涂布糊剂(粘结剂)的装置会大型化。因此，当为了缩短生产时间而提高涂布速度时，在拐角部等处会发生振动，由于这种振动的影响，会发生涂布精度降低的问题。因此，在本发明中，为了解决上述问题，在涂布拐角部时，进行分两级切换基板与喷嘴的相对速度变化的速度控制，同时，为了使涂布量恒定，设置两个压力调整器和高速的切换阀，以便能够高速地分两级切换控制涂布量的气动回路。 | ||||||
| 191 | 流体涂敷装置及其方法 | CN02127341.3 | 2002-08-01 | CN1204978C | 2005-06-08 | 山内大; 西川英信; 园田孝司; 丸山照雄; 大野修治 |
| 提供一种在流体排出开始部分和结束部分也可以得到涂敷流体的涂敷量稳定化的流体涂敷装置和涂敷方法。本发明的涂敷装置包括涂敷头100和控制装置180，进行动作控制以便在排出流体时，旋转排出用部件的同时，使该排出用部件沿着其轴向作排出方向移动，另一方面，停止排出时，停止上述排出用部件的旋转，还使上述排出用部件作与上述排出方向相反方向171b的移动。因此，在流体排出开始和结束部分谋求涂敷流体的涂敷量稳定化。 | ||||||
| 192 | 油漆或清漆的涂布方法 | CN03802546.9 | 2003-01-22 | CN1622861A | 2005-06-01 | 贝克哈德·巴斯特金斯 |
| 本发明涉及一种在涂布装置帮助下油漆或清漆的涂布方法和装置，其目的在于通过对先前已记录的数码表面物体，运用数码影像模型进行处理，将处理后的数码表面物体表示真实物体表面，以在建筑物和公共建筑物以及民用工程建筑物的表面进行彩色涂布。按照本发明，涂布装置在与物体表面接触时在其表面移动，涂布装置的位置可用运动传感器进行连续测量计算，并且以测定的位置为基础，按照所述的处理涂布油漆。如果涂布装置的位置不能按照预定的位置误差容许极限值进行足够精确地确定，或者如果油漆或清漆已经完全涂布在了油漆涂布元素的位置，涂布装置将自动停止油漆的涂布。 | ||||||
| 193 | 掩膜坯及掩膜坯的制造方法 | CN200410011872.4 | 2004-09-24 | CN1605397A | 2005-04-13 | 小林英雄; 樋口孝雄 |
| 一种掩膜坯的制造方法，该方法包括保护膜形成过程，该过程将包含抗蚀材料和溶剂的抗蚀溶液分配到方形衬底上，旋转衬底以能在衬底上散布分配过的抗蚀溶液，并干燥散布在衬底上的抗蚀溶液，由此在衬底上形成包括抗蚀材料的保护膜。在保护膜形成过程中旋转衬底时，排气件执行排气操作，以能沿着衬底的上表面从衬底的中心到衬底的外周缘部产生气流，以便能够抑制通过旋转衬底在衬底的外周缘部形成的抗蚀溶液的浆液移向衬底的中心。 | ||||||
| 194 | 圆筒状基体的涂液的涂布方法及涂布装置及电子照相感光体的制造方法及由该方法制造的电子照相感光体 | CN200410082504.9 | 2004-09-20 | CN1597138A | 2005-03-23 | 小幡孝嗣; 内海久幸; 和所纯一 |
| 提供对圆筒状基体涂布涂液的涂布方法及涂布装置，以简单的控制，抑制分离涂布辊和圆筒状基体的时候的接缝的发生，在圆筒状基体上高效率的形成均一厚度的涂膜。通过镀金属辊(13)从盘向涂布辊(2)供给涂液(3)，使供给了涂液(3)的涂布辊(2)和与涂布辊(2)靠近或接触配置的圆筒状基体(5)分别旋转。从涂布辊(2)向圆筒状基体(5)转印涂液(3)，使圆筒状基体(5)只旋转规定的次数。其后，涂布辊(2)和圆筒状基体(5)分离的时候，控制使涂布辊(2)和圆筒状基体(5)的任一个的圆周速度V1比另一个的圆周速度V2快速。 | ||||||
| 195 | 旋转雾化涂装装置及利用该涂装装置的涂装方法 | CN200410089941.3 | 2004-09-10 | CN1597133A | 2005-03-23 | 谷真二; 榊原正人; 三井三千雄; 小林博; 永井公好; 细田俊男 |
| 本发明涉及旋转雾化涂装装置及利用该涂装装置的涂装方法。用作旋转雾化涂装装置的涂装机(3)包括设置在用作其旋转轴的电机轴(10)的中央的中空非旋转涂料喷嘴轴(5)。涂料喷嘴轴(5)在其顶端处设置有喷枪式涂料喷嘴(5g)，沿径向位于喷枪式涂料喷嘴(5g)外侧上的喷枪式空气喷嘴(5f)，并且针阀轴(21)设置在涂料喷嘴轴(5)中的涂料通道(5b)中，以便用作将涂料选择性地供应给钟形杯(4)或喷枪式涂料喷嘴(5g)。 | ||||||
| 196 | 涂布方法和涂布装置 | CN200410078406.8 | 2004-09-10 | CN1593787A | 2005-03-16 | 河野幸弘; 田中志信 |
| 本发明提供一种涂布方法，在长条形涂布喷嘴上经常稳定地得到良好的浸润线，从而在被处理基板上形成一定厚度且没有涂布斑的涂布膜。浸润线打底处理部(125)，由多功能单元(172)内的抗蚀液供给部将抗蚀液或稀释抗蚀液供给至从前面渗出抗蚀液那样构成的涂布垫(162)中，并且由多功能单元(172)内的按压部以规定的压力将涂布垫(162)压在喷嘴部背面(160)的下半部，同时，通过直进驱动部(176)的一直前进地驱动，使涂布垫(162)沿着喷嘴纵向(Y方向)从抗蚀液喷嘴(120)的一端按照直线一直地滑动到另一端。 | ||||||
| 197 | 液晶显示器的制造方法 | CN03155153.X | 2003-08-22 | CN1583287A | 2005-02-23 | 盛培华; 李俊贤; 施俊安; 林伯宣; 许博义 |
| 一种液晶显示器的制造方法，该方法通过加工条件的配合来提高光阻材料的利用率，同时加快生产速度、降低制造成本，并具有较佳涂布均匀性。本发明的制造方法首先以一流延涂布机将动态表面张力介于25～35dyne/cm之间的感旋光性树脂组成物经由狭长模头涂布在至少一边的边长大于800mm的基板上，以形成一膜厚L1的湿涂膜，然后对湿涂膜进行预烤以蒸发溶媒，并形成一膜厚L2的预烤涂膜。其中膜厚L1大于8μm，但小于25μm，且膜厚L1/膜厚L2＝3.2～15，该基板及狭长模头并以50～120mm/sec的相对速度移动，且上述感旋光性树脂组成物与基板的接触角介于8～25度之间。 | ||||||
| 198 | 正型光致抗蚀剂层及其制备方法 | CN00126840.6 | 2000-09-06 | CN1184534C | 2005-01-12 | 周振豪; 李有京; 朴弘植; 罗允静; 金玑洙; 姜圣哲; 康升镇 |
| 本发明提供了一种正型光致抗蚀剂层的制备方法。在该方法中，将所述光致抗蚀剂组合物滴加到形成于基片上的绝缘层或导电性金属层上。所述光致抗蚀剂组合物包含聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光剂及溶剂。将上述涂敷了光致抗蚀剂组合物的基片以1250至1350rpm的转速旋转4.2至4.8秒。然后，干燥上述涂覆了光致抗蚀剂组合物的基片并将上述干燥的基片进行曝光。接着，利用碱性显像液清除曝光部位。所述溶剂包括乙酸3-甲氧基丁酯和γ-丁内酯，或者包括乙酸3-甲氧基丁酯、2-庚酮和γ-丁内酯。 | ||||||
| 199 | 光记录介质及其制造方法 | CN200310118134.5 | 2003-11-25 | CN1521749A | 2004-08-18 | 柴田路弘 |
| 一种光记录介质的制造方法，是具有用旋涂法在基板上喷出涂布色素溶液形成色素记录层的工序的光记录介质的制造方法，所述的色素溶液从喷出开始至结束为止使基板的旋转速度处于400rpm以上。另一种光记录介质的制造方法，是具有用旋涂法在基板上喷出涂布色素溶液，涂布后使之干燥形成色素记录层的工序的光记录介质的制造方法，其中包括以所述的色素溶液从喷出开始至干燥结束的顺序，使基板的旋转速度比所述的色素溶液喷出开始时和喷出结束时的旋转速度低的低速旋转阶段。 | ||||||
| 200 | 尺寸稳定的复合制品及其制造方法 | CN02811135.4 | 2002-04-01 | CN1512920A | 2004-07-14 | T·R·威廉姆斯; O·小本森 |
| 具有大面积可预测尺寸稳定性的复合制品，它包括金属箔背衬，其上附着一层固化聚合物，所述聚合物具有外露的正表面，此正表面上具有精确成形和定位的功能性不平坦微结构。所述制品如下制造：在金属箔背衬上沉积一层可辐射固化的组合物，使可辐射固化组合物层与一母版接触，所述母版带有包括远极表面部分和相邻凹进表面部分的精确成形和定位的功能性三维不平坦微结构图案，趁可辐射固化组合物层与母版的带图案表面接触时，使可固化组合物接受足够量的辐射，使所述组合物固化，将金属箔背衬上的固化聚合物层与母版表面分离。金属箔背衬或者母版是透辐射的。 | ||||||
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