子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 一种复合材料电池箱及其制备方法 | CN202411654335.5 | 2024-11-19 | CN119764702A | 2025-04-04 | 陈宏达; 刘昊南; 柯斌; 李超; 李书欣 |
| 本发明公开了一种复合材料电池箱及其制备方法，属于动力电池技术领域。复合材料电池箱包括箱体和上盖，箱体和上盖的内壁上均设有耐烧蚀涂层，耐烧蚀涂层选自熔化型耐烧蚀涂层、树脂基耐烧蚀涂层或陶瓷基耐烧蚀涂层；熔化型耐烧蚀涂层包括熔融石英和/或玻璃类材料，树脂基耐烧蚀涂层包括硅橡胶、酚醛类和/或环氧类材料，陶瓷基耐烧蚀涂层包括RCG涂层材料；本专利使用一种耐烧蚀涂层材料涂覆于电池箱的内部，用于防护因短路、高温等因素所产生的危害。当电芯发生燃烧时，耐烧蚀涂层材料不仅可以提高电池箱燃烧温度，同时有效的减少氧气含量，延缓了热蔓延速度，为乘客的安全撤离提供了宝贵的时间，提高了电池包的保护效果和热安全性。 | ||||||
| 2 | 带有功能膜的晶片的制造方法 | CN202180069636.X | 2021-10-01 | CN116348208B | 2024-12-24 | 大桥智也; 佐佐卓 |
| 本发明提供一种实用上有效的晶片表面的外周部呈环状露出的带有功能膜的晶片的制造方法，在带有功能膜的晶片的制造方法中，即使将高粘度涂布型材料用作包含功能膜构成成分的涂布型材料的情况下，也将晶片的表面的外周部的功能膜去除干净，经去除的功能膜的端面具有良好的形状，能形成平坦的功能膜，而且在晶片的斜面部、背面也没有由涂膜残留引起的污垢。一种带有功能膜的晶片的制造方法，所述晶片的表面的外周部呈环状露出，所述制造方法包括：工序(A)，在晶片的表面旋涂包含功能膜构成成分的高粘度涂布型材料，形成涂膜；工序(B－1)，在所述工序(A)之后，一边使所述晶片旋转，一边向形成有所述涂膜的所述晶片的表面的外周部供给清洗液，去除所述晶片的表面的外周部的所述涂膜；工序(C)，在所述工序(B－1)之后，对所述晶片上的所述涂膜进行加热，形成抑制了涂膜的流动性的流动性抑制膜；工序(D－1)，在所述工序(C)之后，一边使所述晶片旋转，一边向形成有所述流动性抑制膜的所述晶片的表面的外周部供给清洗液，去除所述晶片的表面的所述流动性抑制膜；以及工序(E)，在所述工序(D－1)之后，对所述晶片上的所述流动性抑制膜进行加热，使所述功能膜构成成分发挥功能，制成功能膜。 | ||||||
| 3 | 涂布膜形成装置、涂布膜形成方法以及存储介质 | CN202380017360.X | 2023-01-11 | CN118556278A | 2024-08-27 | 福冈哲夫 |
| 本公开的涂布膜形成装置具备：旋转保持部，其保持基板并使所述基板旋转；涂布液喷嘴，其向旋转的所述基板的周缘部的第一位置喷出涂布液，来形成沿着该基板的整周的环状的涂布膜；以及气体喷嘴，其是为了向旋转的所述基板中的比所述第一位置靠该基板的旋转中心且在该基板的旋转方向的下游侧的第二位置喷出气体、来通过从该第二位置去向所述基板的周端的所述气体的流动对所述涂布膜进行整形而设置的。 | ||||||
| 4 | 基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 | CN201980012129.5 | 2019-02-04 | CN111684569B | 2024-04-05 | 稻田博一; 梶原英树; 永金拓; 水篠真一 |
| 涂布/显影装置(2)具备：去除液供给部(50)，其具有用于向晶圆(W)的周缘部喷出去除液的去除液喷嘴(52)；驱动部(60)，其使包括去除液喷嘴(52)的移动体(51)移动；传感器(70)，其检测与移动体(51)的位置有关的信息；以及控制部(100)，其构成为执行以下控制：向驱动部(60)输出用于使移动体(51)从将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘(Wc)外的第一位置(P1)移动至将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘部上的第二位置(P2)的控制指令；以及基于在移动体(51)从第一位置(P1)向第二位置(P2)移动的中途由传感器(70)检测出的信息同控制指令的关系来校正控制指令，以使移动体(51)的移动完成位置与第二位置(P2)的偏差缩小。 | ||||||
| 5 | 一种控制极片中涂层宽度的涂布装置及其涂布方法与极片 | CN202310595154.9 | 2023-05-23 | CN116618225A | 2023-08-22 | 杨立华; 熊亮; 彭先政; 王小慧 |
| 本发明提供了一种控制极片中涂层宽度的涂布装置及其涂布方法与极片，所述涂布装置包括沿集流体移动方向依次设置的涂布组件与激光加热组件；所述激光加热组件包括激光加热器与气体吸收器，所述集流体表面的陶瓷浆料与活性材料浆料之间的交界区位于所述吸光加热器的激光加热区内；所述气体吸收器的气体吸收口朝向所述交界区，所述气体吸收器用于吸收所述交界区中经所述激光加热器加热后挥发的气体。本发明提供的涂布装置能够有效地提升极片中涂层宽度的精度、结构简单、操作难度较低、制造成本较低且易于大规模推广使用。 | ||||||
| 6 | 涂敷处理方法、计算机存储介质和涂敷处理装置 | CN201780078574.2 | 2017-11-24 | CN110088880B | 2023-08-18 | 稻叶翔吾; 吉原孝介; 畠山真一 |
| 一种在基片上涂敷涂敷液的方法，其中，在形成于基片上的涂敷液的液膜干燥之前，一边使该基片以规定的转速旋转，一边对基片上的涂敷液的该液膜上的周边部供给涂敷液的溶剂，以在该周边部形成涂敷液与溶剂的混合层，然后，使基片以比规定的转速快的转速旋转，将混合层赶到外周侧，来控制干燥后的涂敷液的膜厚。 | ||||||
| 7 | 带有功能膜的晶片的制造方法 | CN202180069636.X | 2021-10-01 | CN116348208A | 2023-06-27 | 大桥智也; 佐佐卓 |
| 本发明提供一种实用上有效的晶片表面的外周部呈环状露出的带有功能膜的晶片的制造方法，在带有功能膜的晶片的制造方法中，即使将高粘度涂布型材料用作包含功能膜构成成分的涂布型材料的情况下，也将晶片的表面的外周部的功能膜去除干净，经去除的功能膜的端面具有良好的形状，能形成平坦的功能膜，而且在晶片的斜面部、背面也没有由涂膜残留引起的污垢。一种带有功能膜的晶片的制造方法，所述晶片的表面的外周部呈环状露出，所述制造方法包括：工序(A)，在晶片的表面旋涂包含功能膜构成成分的高粘度涂布型材料，形成涂膜；工序(B－1)，在所述工序(A)之后，一边使所述晶片旋转，一边向形成有所述涂膜的所述晶片的表面的外周部供给清洗液，去除所述晶片的表面的外周部的所述涂膜；工序(C)，在所述工序(B－1)之后，对所述晶片上的所述涂膜进行加热，形成抑制了涂膜的流动性的流动性抑制膜；工序(D－1)，在所述工序(C)之后，一边使所述晶片旋转，一边向形成有所述流动性抑制膜的所述晶片的表面的外周部供给清洗液，去除所述晶片的表面的所述流动性抑制膜；以及工序(E)，在所述工序(D－1)之后，对所述晶片上的所述流动性抑制膜进行加热，使所述功能膜构成成分发挥功能，制成功能膜。 | ||||||
| 8 | 衬底处理装置及衬底处理方法 | CN201880025759.1 | 2018-07-27 | CN110537245B | 2023-05-02 | 和食雄大; 佐川栄寿 |
| 本发明的衬底处理装置具备旋转保持部、涂布液喷出系统、第1喷出速率调整部及第2喷出速率调整部。旋转保持部将衬底以水平姿势保持并使它旋转。涂布液喷出系统将涂布液喷出到通过旋转保持部而旋转的衬底的一面的中心部。第1喷出速率调整部在第1期间，将从涂布液喷出系统的涂布液的喷出速率调整为第1速率，以使从涂布液喷出系统喷出到衬底的一面的中心部的涂布液在衬底的一面上扩展。第2喷出速率调整部在第1期间之后的第2期间，将从涂布液喷出系统的涂布液的喷出速率调整为高于第1速率的第2速率，以使扩展到衬底的一面的整体的涂布液的厚度增加。 | ||||||
| 9 | 基板处理方法及基板处理装置 | CN201780034148.9 | 2017-05-29 | CN109219865B | 2023-04-25 | 中井仁司 |
| 在基板处理装置的基板(9)的处理中，首先，向基板(9)的上表面(91)供给填充剂溶液。由此，在基板(9)的上表面(91)上形成填充剂溶液的膜即涂布膜，基板(9)的上表面(91)上的构造体的间隙被填充剂溶液填满。接着，在涂布膜形成后，在使基板(9)以中心轴(J1)为中心进行旋转的状态下，通过向基板(9)的上表面(91)的周缘区域(93)赋予剥离液，由此涂布膜中的周缘区域(93)上的部位被从基板(9)上剥离。此外，在涂布膜形成后，通过向基板(9)的上表面(91)的周缘区域(93)与内侧区域(94)的交界部喷射气体，由此促进内侧区域(94)上的涂布膜的外缘部的固化。由此，能够抑制内侧区域(94)上的涂布膜扩展至周缘区域(93)上。 | ||||||
| 10 | 液供给机构、基板处理装置以及基板处理方法 | CN202180033454.7 | 2021-04-30 | CN115516607A | 2022-12-23 | 竹口博史; 中岛幹雄; 大塚贵久; 小宫洋司 |
| 液供给机构具有：喷嘴，其对基板喷出处理液；供给流路，其向所述喷嘴供给所述处理液；阀，其对所述供给流路中的流动进行调整；以及缓冲部，其在从所述阀朝向所述喷嘴的中途将所述处理液暂时积存在该缓冲部的内部空间中。 | ||||||
| 11 | 一种薄型吸波玄武岩鳞片聚氨酯涂料及其涂覆方法 | CN202111281598.2 | 2021-11-01 | CN113956775B | 2022-10-14 | 张新新; 王立春; 刘希帅; 王军; 张琦; 白兆起; 王怡翔 |
| 本发明公开了一种薄型吸波玄武岩鳞片聚氨酯涂料，包括以下重量份数的组分：二异氰酸酯50‑100份、多元醇30‑120份、玄武岩鳞片20‑40份、四氧化三铁10‑40份。本发明在玄武岩鳞片聚氨酯涂料中添加四氧化三铁颗粒，并对其进行表面改性，使其均匀分散，涂覆后用条状磁铁在涂料未凝固前对涂料进行单方向重复刮试可以使其中的四氧化三铁颗粒定向移动，从而带动玄武岩鳞片的定向移动，使玄武岩鳞片平行移动，从而实现使用相对较少含量的玄武岩鳞片任然能够达到相同的增加涂料防腐性能的目的。 | ||||||
| 12 | 将组合物施加至管的方法及装置 | CN202210393825.9 | 2017-10-02 | CN114836118A | 2022-08-02 | 彼得·格斯特; 杰夫·昆顿 |
| 提供了将组合物施加至管的方法及装置。提供了用于施加至基底的组合物。所述组合物包含基础组分和活化剂组分。所述基础组分包含羟基官能预聚物，所述活化剂包含异氰酸酯预聚物。所述组合物还包含一定量的碳纤维。所述羟基官能预聚物被配制成与所述异氰酸酯预聚物聚合以形成包含碳纤维的聚合物。 | ||||||
| 13 | 印刷和制造系统中的精确位置对准、校准和测量 | CN201880012062.0 | 2018-02-05 | CN110505926B | 2022-05-31 | 大卫·C·达罗; 克里斯托弗·布彻勒; 罗伯特·B·劳伦斯; 凯文·约翰·李 |
| 本公开提供一种用于快速、精确地确定沉积源相对于沉积目标基材的高度的高精度测量系统。在一个实施方式中，工业印刷机的两个传送路径中的每一个均安装摄像机和高精度传感器。使用这些摄像机来实现分离传送轴之间的记录，以及依据xy位置分别精确地确定高精度传感器的位置。使用高精度传感器中的之一来测量沉积源的高度，而另一个传感器测量目标基材的高度。识别这些传感器之间的相对z轴位置，以便提供两种源和目标基材的精确z坐标标识。所公开的实施方式能够实现动态、实时且高精度的高度测量，达到微米或亚微米的精确度。 | ||||||
| 14 | 全氢聚硅氮烷组合物和用于使用其形成氮化物膜的方法 | CN201980022629.7 | 2019-02-21 | CN111918905B | 2022-05-24 | 安东尼奥·桑切斯; 根纳迪·伊多; 马尼什·坎德尔沃; 科尔·里特; 张鹏; 让-马克·吉拉尔; 宛志文; 格伦·库肯贝塞尔; 大卫·奥尔班; 肖恩·克里根; 里诺·佩萨雷西; 马修·达米安·斯蒂芬斯; 王洋; 纪尧姆·哈森; 格里戈里·尼基福罗夫 |
| 一种含Si膜形成组合物，包含催化剂和/或聚硅烷以及不含N‑H、不含C且富含Si的全氢聚硅氮烷，该全氢聚硅氮烷具有在从大约332道尔顿至大约100,000道尔顿范围内的分子量并且包含具有式[‑N(SiH3)x(SiH2‑)y]的不含N‑H的重复单元，其中x＝0、1或2并且y＝0、1或2，并且x+y＝2；并且x＝0、1或2，并且y＝1、2或3，并且x+y＝3。还披露了合成方法和使用其的应用。 | ||||||
| 15 | 腐殖酸衍生的传导性泡沫和装置 | CN201780059527.3 | 2017-07-24 | CN109803820B | 2022-05-17 | 阿茹娜·扎姆; 张博增 |
| 一种腐殖酸衍生的泡沫，其由多个孔和孔壁构成，其中所述孔壁含有单层或少层腐殖酸衍生的六方碳原子平面或片，所述少层六方碳原子平面或片具有2‑10层堆叠的六方碳原子平面，所述堆叠的六方碳原子平面具有如通过X射线衍射测量的从0.3354nm至0.40nm的平面间间距d？002#191，并且所述单层或少层六方碳原子平面含有按重量计0.01％至25％的非碳元素，并且其中所述腐殖酸选自氧化的腐殖酸、还原的腐殖酸、氟化的腐殖酸、氯化的腐殖酸、溴化的腐殖酸、碘化的腐殖酸、氢化的腐殖酸、氮化的腐殖酸、掺杂的腐殖酸、化学官能化的腐殖酸、或其组合。 | ||||||
| 16 | 用于衬底涂层的底漆材料 | CN202111234698.X | 2016-01-27 | CN113956706A | 2022-01-21 | 刘朕与; 张庆裕 |
| 提供了涂布技术和底漆材料。在示例性实施例中，涂布技术包括接收衬底和识别其上将形成层的衬底的材料。底漆材料分配在衬底的材料上，以及将成膜材料施加至底漆材料。底漆材料包括包含基于衬底材料的属性的第一基团和基于成膜材料的属性的第二基团的分子。衬底材料和成膜材料的合适的属性包括水亲和力和极性程度，并且第一基团和第二基团可以选择为具有分别与衬底材料和成膜材料的水亲和力或极性程度对应的水亲和力或极性程度。本发明的实施例还涉及用于衬底涂层的底漆材料。 | ||||||
| 17 | 用于对剃刀刀刃进行改性的方法和设备 | CN202080034218.2 | 2020-05-11 | CN113795361A | 2021-12-14 | N·索南伯格; J·查德威克; J·L·马齐亚兹; W·N·于 |
| 本发明提供了一种在初次使用之前对剃刀刀刃进行改性的方法，该方法包括提供具有经涂覆的剃刀刀刃的至少一个剃刀刀片，以及对所述经涂覆的剃刀刀刃的至少一个涂层进行机械改性。还提供了一种用于对一个或多个经涂覆的剃刀刀刃进行改性的设备，该设备包括支撑构件和施用装置，该支撑构件用于保持具有所述经涂覆的剃刀刀刃的多个剃刀刀片，该施用装置用于使机械改性材料与所述经涂覆的剃刀刀刃的至少一个节段接触。 | ||||||
| 18 | 一种可真空/气体改性处理的自动刮膜设备及其操作方法 | CN202010751669.X | 2020-07-30 | CN111889323B | 2021-07-27 | 侯林涛; 管威; 蔡婉珠; 吴俊涛 |
| 本发明公开一种可真空/气体改性处理的自动刮膜设备及其控制方法，所述自动刮膜设备包括刮膜单元、真空低压/特殊气体改性处理单元、固定成膜单元、控制单元、传动单元和温度控制单元。本发明将真空/特殊气体改性处理与刮膜技术相结合，通过优化刮膜速度、成膜温度、薄膜改性和舱内压强等，实现单一溶液或共混溶液刮涂成膜形貌、厚度及物化性质等有效调控，进而形成最优薄膜质量，实现多种类型器件性能大幅度提升，显著提高其光电性能。本设备自动化操作可保持刮涂成膜的可重复性，可广泛应用于各种不同类型有机/无机半导体光电子器件大面积制备领域。 | ||||||
| 19 | 已涂布对象物的制造方法及涂布物质延伸装置 | CN201880062011.9 | 2018-11-21 | CN111194243B | 2021-04-06 | 筱原信一; 大久保达生; 铃木隆之; 山崎美弥; 小泽直人 |
| 本发明的目的在于提供在具有曲面的涂布对象面尽可能将涂布物质均匀地涂布的已涂布对象物的制造方法及涂布物质延伸装置。本发明为制造在对象物(T)中具有曲面的涂布对象面(Tf)涂布有涂布物质的已涂布对象物的已涂布对象物的制造方法，具备下述步骤：对涂布对象面(Tf)供给涂布物质的供给步骤；及令对涂布对象面(Tf)供给有涂布物质的对象物(T)绕着与对象物(T)隔有距离的公转轴线(13a)的公转步骤。涂布物质延伸装置(1)具备令对象物(T)绕着与对象物(T)隔有距离的公转轴线(13a)旋转的公转部(10)。通过如上述的构成，能够使作用在涂布对象面(Tf)各部分的带动涂布物质的力接近于与离公转轴线(13a)的距离成比例的大小，从而能够抑制涂布在涂布对象面(Tf)的涂布物质的厚度的变异。 | ||||||
| 20 | 教师数据生成方法以及吐出状态的判断方法 | CN201980055179.1 | 2019-08-21 | CN112601617A | 2021-04-02 | 沖田有史; 犹原英司; 增井达哉; 角间央章 |
| 本发明提供一种可生成与吐出喷嘴的吐出状态相应的教师数据的教师数据生成方法。生成教师数据的方法，包括：保持步骤、处理液吐出步骤、摄像步骤及教师数据生成步骤。在保持步骤中，将基板大致水平地保持于基板保持机构。在处理液吐出步骤中，自吐出喷嘴向基板的主表面吐出处理液。在摄像步骤中，利用相机在包含处理液吐出步骤的至少一部分期间内，对以包含吐出喷嘴、及处理液吐出步骤中所吐出的处理液的至少一部分的方式被调整的摄像区域进行摄像，取得多个图像数据。在教师数据生成步骤中，针对多个图像数据中的至少一个，将与该图像数据中所映现的处理液吐出状态相应的标签赋予至该图像数据，生成教师数据。 | ||||||
QQ群二维码
意见反馈
意见反馈