真空高速发射装置
专利汇可以提供真空高速发射装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且一种 真空 高速发射装置，它包括冲头（1），密封 法兰 （2），滑 块 （3）， 支架 （4），发射管（5），顶柱法兰（6），高压 气缸 （7），发射 活塞 （8），密封塞（9）， 支撑 法兰（10），真空装置（11）。滑块（3）位于发射管（5）内。冲头（1）与安装在发射管（5）左侧的密封法兰（2）形成密封；高压气缸（7）安装在发射管（5）的右侧，并与发射活塞（8）、密封塞（9）在发射管（5）的右侧形成密封。发射管（5）内腔在两侧被密封，形成真空腔。滑块（3）发射时，打开发射活塞（8）和密封塞（9）的密封，用外界 大气压 推动滑块（3） 加速 ，最后滑块（3）撞击冲头（1），对冲头（1）传递速度，加速冲头（1）完成冲击成形。本 发明 装置可以解决现有高压发射装置滑块不能匀加速的问题，提高冲击效果。此外利用气压控制发射，使得控制更加简单。，下面是真空高速发射装置专利的具体信息内容。
1.一种真空高速发射装置，它包括发射管（5）、滑块（3）和真空发生装置（11），其特征是所述的发射管（5）的发射端密封连接有密封法兰（2），密封法兰（2）的内腔中加工有与发射管（5）相连通的轴向台阶状通孔，冲头（1）安装有密封法兰（2）的轴向台阶状态通孔中，冲头（1）的一端与密封法兰（2）中的台阶面相抵而实现单向定位，同时使密封法兰（2）实现端面密封，冲头（1）的另一端呈自动状态并与空气相接触，在密封法兰（2）上还加工有径向通孔，该径向通孔通过连接管道与真空发生装置（11）相连通以实现对发射管（5）的一端抽真空；发射管（5）的击发端安装有顶柱法兰（6），顶柱法兰（6）的中心设有凸起的顶柱（601），顶柱（601）的周边设有轴向通孔（602），在顶柱法兰（6）上还加工有与轴向通孔（602）连通的、用于连接真空发生装置（11）的径向抽真空孔（603），在顶柱法兰（6）的外侧安装有高压气缸（7），高压气缸（7）的内腔呈台阶状结构，发射活塞（8）的内端安装在高压气缸（7）的小内径腔中，发射活塞（8）的外端设有一个只能在高压气缸（7）的大内径腔中移动的端面凸台（801），高压气缸（7）的大直径内腔面、台阶面、发射活塞（8）的外表面及端面凸台（801）之间形成一个阻尼腔（B），阻尼腔（B）与控制阀（A）相连通；在发射活塞（8）的内端面上设有供顶柱法兰（6）上的顶柱（601）通过的端面通孔（802），密封塞（9）的一端与该端面通孔（802）相配合，密封塞（9）的另一端插装在支撑法兰（10）的导向孔柱（101）中，支撑法兰（10）固定在高压气缸（7）的外端面上，在支撑法兰（10）上加工有连通发射活塞（8）内腔与大气的轴向通孔（102）；所述的滑块（3）位于发射管（5）并与顶柱法兰（6）的端面相抵。
2.根据权利要求1所述的真空高速发射装置，其特征是所述的顶柱法兰（6）上的轴向通孔（602）的数量为三个，它们均布在顶柱（601）的周围。
3.根据权利要求1所述的真空高速发射装置，其特征是所述的支撑法兰（10）上均布加工有三个轴向通孔（102）。
4.根据权利要求1所述的真空高速发射装置，其特征是所述的发射管靠近密封法兰（2）的一端支承在支架（4）中。
5.根据权利要求1所述的真空高速发射装置，其特征是所述的高压气缸（7）加工有连通顶柱法兰（6）上的径向抽真空孔（603）的通孔，该通孔与真空发生装置（11）的抽真空管相连通。
6.根据权利要求1所述的真空高速发射装置，其特征是所述的发射管（5）的长度不小于10米。
真空高速发射装置
技术领域
背景技术
发明内容
具体实施方式
6上还加工有与轴向通孔602连通的、用于连接真空发生装置11的径向抽真空孔603，在顶柱法兰6的外侧安装有高压气缸7，高压气缸7的内腔呈台阶状结构，发射活塞8的内端安装在高压气缸7的小内径腔中，发射活塞8的外端设有一个只能在高压气缸7的大内径腔中移动的端面凸台801，高压气缸7的大直径内腔面、台阶面、发射活塞8的外表面及端面凸台801之间形成一个阻尼腔B，阻尼腔B与控制阀A相连通；在发射活塞8的内端面上设有供顶柱法兰6上的顶柱601通过的端面通孔802，密封塞9的一端与该端面通孔802相配合，密封塞9的另一端插装在支撑法兰10的导向孔柱101中，支撑法兰10固定在高压气缸
7的外端面上，在支撑法兰10上加工有连通发射活塞8内腔与大气的轴向通孔102；所述的滑块3位于发射管5并与顶柱法兰6的端面相抵。
11。由图1、2可知，本发明在功能上可分为左侧的密封部分，中间的加速部分和右侧的密封部分。
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