防眩光玻璃基板
阅读：535发布：2020-05-12
专利汇可以提供防眩光玻璃基板专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种防 眩光 玻璃 基板 ，其为具有第一主面和与所述第一主面相反的第二主面的玻璃基板，在所述第一主面的表面上实施了防眩光处理并且还层叠有作为防污膜的含氟有机 硅 化合物覆膜，其中，在所述第一主面的一部分具有未实施所述防眩光处理的非防眩光处理部分，所述非防眩光处理部分的表面粗糙度Ra小于10nm，实施了所述防眩光处理的防眩光处理部分与非防眩光处理部分的玻璃基板的板厚方向上的高度之差为10μm以上且200μm以下。，下面是防眩光玻璃基板专利的具体信息内容。
1.一种防眩光玻璃基板，其为具有第一主面和与所述第一主面相反的第二主面的玻璃基板，在所述第一主面的表面上实施了防眩光处理并且还层叠有作为防污膜的含氟有机硅化合物覆膜，其中，
在所述第一主面的一部分具有未实施所述防眩光处理的非防眩光处理部分，所述非防眩光处理部分的表面粗糙度Ra小于10nm，实施了所述防眩光处理的防眩光处理部分与非防眩光处理部分的玻璃基板的板厚方向上的高度之差为10μm以上且200μm以下。
2.根据权利要求1所述的防眩光玻璃基板，其中，
所述防眩光处理部分的可见光区域的透射光的雾度为2％以上且30％以下。
3.根据权利要求1或2所述的防眩光玻璃基板，其中，
所述非防眩光处理部分的表面粗糙度Ra为5nm以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的防眩光玻璃基板，其中，
所述非防眩光处理部分的玻璃基板的板厚方向上的高度大于所述防眩光处理部分的玻璃基板的板厚方向上的高度。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的防眩光玻璃基板，其中，
所述非防眩光处理部分的玻璃基板的板厚方向上的高度小于所述防眩光处理部分的玻璃基板的板厚方向上的高度。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的防眩光玻璃基板，其中，
所述非防眩光处理部分与斜面部位形成了锥台形状，在玻璃基板的板厚方向的截面形状中，所述锥台形状的侧面与玻璃基板的所述第一主面所成的角度X为90°＜X≤150°。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的防眩光玻璃基板，其中，
在所述第一主面的表面上依次层叠有低反射膜、含氟有机硅化合物覆膜。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的防眩光玻璃基板，其中，
所述玻璃基板为铝硅酸盐玻璃。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的防眩光玻璃基板，其中，
所述玻璃基板为化学强化玻璃。
防眩光玻璃基板
技术领域
[0001] 本发明涉及赋予了防眩光性的玻璃基板、即防眩光玻璃基板。
背景技术
[0002] 近年来，例如在LCD(液晶显示器(Liquid Crystal Display))装置等显示装置的显示面侧，为了保护该显示装置而配置由透明基体构成的盖板(カバー)。从外观上的观点
出发，经常使用玻璃基板作为该透明基体。但是，在显示装置上设置有这样的玻璃基板的情况下，在隔着玻璃基板观察显示装置的显示面时，经常存在发生放置于周边的物体的映射
(映り込み)的情况。当在玻璃基板中发生这样的映射时，显示面的观察者不仅难以观察显示面，而且感受到不愉快的印象。
出发，经常使用玻璃基板作为该透明基体。但是，在显示装置上设置有这样的玻璃基板的情况下，在隔着玻璃基板观察显示装置的显示面时，经常存在发生放置于周边的物体的映射
(映り込み)的情况。当在玻璃基板中发生这样的映射时，显示面的观察者不仅难以观察显示面，而且感受到不愉快的印象。
[0003] 因此，为了抑制这样的映射，例如尝试在玻璃基板的表面上实施形成凹凸形状的防眩光处理。
[0004] 另外，对于这样的显示装置而言，人的手指等触碰形成盖板的玻璃基板表面的机会较多，在人的手指等触碰时，油脂等容易附着于玻璃基板表面。而且，在附着有油脂等时，对可视性产生影响，因此使用在实施了防眩光处理的玻璃基板的表面上实施了防污处理的
玻璃基板。
玻璃基板。
[0006] 在LCD(液晶显示器)装置等普及的过程中，不断要求新的功能。例如，作为应对汽车、电车等的驾驶员的瞌睡的对策，有时将利用照相机监视驾驶员的状态的系统等搭载在
仪表板上、尤其是收容设置在驾驶员前的仪表等的仪表组(クラスター)等上，在此情况下，需要在作为盖板的玻璃基板中处于照相机视野的部分不实施防眩光处理。
仪表板上、尤其是收容设置在驾驶员前的仪表等的仪表组(クラスター)等上，在此情况下，需要在作为盖板的玻璃基板中处于照相机视野的部分不实施防眩光处理。
[0007] 在这样的具有实施了防眩光处理的区域和未实施该防眩光处理的区域的玻璃基板上实施防污处理的情况下，存在防污剂聚集在这些区域的边界从而得不到充分的效果的
问题。
问题。
[0008] 现有技术文献
[0009] 专利文献
[0010] 专利文献1：国际公开第2014/119453号
发明内容
[0012] 发明所要解决的问题
[0013] 本发明的目的在于提供一种防眩光玻璃基板，其在实施了防眩光处理的表面的一部分具有未实施防眩光处理的非防眩光区域，并且防污效果优良。
[0014] 用于解决问题的手段
[0015] 本发明的一个实施方式的防眩光玻璃基板为具有第一主面和与所述第一主面相反的第二主面的玻璃基板，在所述第一主面的表面上实施了防眩光处理并且还层叠有作为
防污膜的含氟有机硅化合物覆膜，其特征在于，在所述第一主面的一部分具有未实施所述
防眩光处理的非防眩光处理部分，所述非防眩光处理部分的表面粗糙度Ra小于10nm，实施
了所述防眩光处理的防眩光处理部分与非防眩光处理部分的玻璃基板的板厚方向上的高
度之差为10μm以上且200μm以下。
防污膜的含氟有机硅化合物覆膜，其特征在于，在所述第一主面的一部分具有未实施所述
防眩光处理的非防眩光处理部分，所述非防眩光处理部分的表面粗糙度Ra小于10nm，实施
了所述防眩光处理的防眩光处理部分与非防眩光处理部分的玻璃基板的板厚方向上的高
度之差为10μm以上且200μm以下。
[0017] 图1是示意性地示出本发明的一个实施方式的防眩光玻璃基板的立体图。
[0018] 图2是沿图1中的A-A’线切割的剖视图。
[0019] 图3是示意性地示出本发明的另一个实施方式的防眩光玻璃基板的立体图。
[0020] 图4是沿图3中的B-B’线切割的剖视图。
[0021] 图5是示意性地示出本发明的又一个实施方式的防眩光玻璃基板的立体图。
[0022] 图6是沿图5中的C-C’线切割的剖视图。
[0023] 附图标记
[0024] 10、40、70防眩光玻璃基板
[0025] 11、41、71玻璃基板
[0026] 12、43、73防污膜
[0027] 20、50、80防眩光处理部分
[0028] 30、60、90非防眩光处理部分
[0029] 42防眩光膜
具体实施方式
[0030] 以下，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明，但是本发明不限于下述实施方式，可以在不脱离本发明的范围的情况下对下述实施方式施加各种变形和替换。
[0031] [第一实施方式]
[0032] 使用图1对本实施方式的防眩光玻璃基板进行说明。图1是示意性地示出本实施方式的防眩光玻璃基板的立体图。图1中所示的防眩光玻璃基板10为在玻璃基板11的第一主
面上实施了防眩光处理的构成。在图1所示的玻璃基板11中，上表面为第一主面，与第一主面相反的下表面为第二主面。本实施方式的防眩光玻璃基板10具有在玻璃基板11的第一主
面的表面上实施了防眩光处理的防眩光处理部分20以及在玻璃基板11的第一主面的表面
上未实施防眩光处理的非防眩光处理部分30。另外，在玻璃基板11的第一主面上设置有防
污膜12。
面上实施了防眩光处理的构成。在图1所示的玻璃基板11中，上表面为第一主面，与第一主面相反的下表面为第二主面。本实施方式的防眩光玻璃基板10具有在玻璃基板11的第一主
面的表面上实施了防眩光处理的防眩光处理部分20以及在玻璃基板11的第一主面的表面
上未实施防眩光处理的非防眩光处理部分30。另外，在玻璃基板11的第一主面上设置有防
污膜12。
[0033] 在本实施方式中，在玻璃基板11的第一主面上实施表面处理从而形成凹凸形状，由此形成防眩光玻璃基板10的防眩光处理部分20。以上述目的实施的表面处理方法没有特
别限制，可以利用在玻璃基板的主面上实施表面处理从而形成所期望的凹凸形状的方法，
通常使用蚀刻。
别限制，可以利用在玻璃基板的主面上实施表面处理从而形成所期望的凹凸形状的方法，
通常使用蚀刻。
[0034] 在本实施方式的防眩光玻璃基板10中，通过在玻璃基板11的第一主面上实施表面处理而形成凹凸形状，防眩光处理部分20的雾度高于非防眩光处理部分30。对于防眩光处
理部分20的雾度而言，例如，可见光区域的透射光的雾度为0.5％～70％。另一方面，对于非防眩光处理部分30而言，例如，可见光区域的透射光的雾度小于0.5％。在非防眩光处理部分30未形成如前所述的利用表面处理形成的凹凸。以下，在本说明书中，在记载为雾度的情况下，是指可见光区域的透射光的雾度。需要说明的是，雾度可以基于JIS K 7136(2000年)进行测定。
理部分20的雾度而言，例如，可见光区域的透射光的雾度为0.5％～70％。另一方面，对于非防眩光处理部分30而言，例如，可见光区域的透射光的雾度小于0.5％。在非防眩光处理部分30未形成如前所述的利用表面处理形成的凹凸。以下，在本说明书中，在记载为雾度的情况下，是指可见光区域的透射光的雾度。需要说明的是，雾度可以基于JIS K 7136(2000年)进行测定。
[0035] 通过防眩光处理部分20的雾度在上述范围内，本实施方式的防眩光玻璃基板具有充分的防眩光特性，能够更优选地作为与显示装置等的覆盖构件、触控面板一体化的基板
使用。另外，防眩光处理部分20的雾度优选为2％以上且30％以下。如果雾度为2％以上，则与未实施防眩光处理的基板相比，能够目视确认并显著地抑制光的映射。雾度为30％以下
时，能够抑制光的漫反射，在作为与显示装置的覆盖构件、触控面板一体化的基板使用时，能够充分确保显示装置的显示的可视性。雾度更优选为2％以上且28％以下，进一步优选为
5％以上且26％以下。
使用。另外，防眩光处理部分20的雾度优选为2％以上且30％以下。如果雾度为2％以上，则与未实施防眩光处理的基板相比，能够目视确认并显著地抑制光的映射。雾度为30％以下
时，能够抑制光的漫反射，在作为与显示装置的覆盖构件、触控面板一体化的基板使用时，能够充分确保显示装置的显示的可视性。雾度更优选为2％以上且28％以下，进一步优选为
5％以上且26％以下。
[0036] 为了取得上述效果，非防眩光处理部分30在玻璃基板11的第一主面的表面中所占的面积比优选为20％以下，更优选为15％以下，进一步优选为10％以下。
[0037] 图2是沿图1中的A-A’线切割的剖视图。如图2所示，在本实施方式中，在着眼于玻璃基板11的板厚方向上的高度的情况下，非防眩光处理部分30高于防眩光处理部分20，成为凸起。
[0038] 在本实施方式中，防眩光处理部分20与非防眩光处理部分30的玻璃基板11的板厚方向上的高度差h为10μm以上且200μm以下。需要说明的是，在本说明书中，防眩光处理部分
20与非防眩光处理部分30的玻璃基板的板厚方向上的高度差h是指在玻璃基板11的第一主
面上设置有防污膜12的状态下的两者的高度差。在高度差h小于10μm的情况下，在防眩光处理部分20与非防眩光处理部分30的边界处高度不足，防眩光处理部分20与非防眩光处理部
分30的连接区域的角度变得平缓。因此，在防眩光玻璃基板10的顶视图中，边界区域的外观看起来与其它的防眩光处理部分20和非防眩光处理部分30不同，有时观察到像污渍一样的
白色混浊(白曇り)。该白色混浊可能是由于防眩光处理的时间短，用于防眩光处理的试剂与玻璃基板11的反应不均匀而产生的。在该连接区域上进一步涂布防污剂时，由于防污剂与
连接区域的反应性的不均匀，有时发生防污剂的聚集。当防污剂聚集时，在连接区域中防污剂的疎水基团彼此键合，有可能不再充分发挥作为防污剂的功能。此外，还担心由防污剂聚集而导致的外观变差。通过将高度差h设定为10μm以上，能够避免上述问题。但是，当高度差h大于200μm时，用手指触碰时的触感差，边界显眼，因此产生外观变差等问题。高度差h优选为10μm以上且100μm以下。
20与非防眩光处理部分30的玻璃基板的板厚方向上的高度差h是指在玻璃基板11的第一主
面上设置有防污膜12的状态下的两者的高度差。在高度差h小于10μm的情况下，在防眩光处理部分20与非防眩光处理部分30的边界处高度不足，防眩光处理部分20与非防眩光处理部
分30的连接区域的角度变得平缓。因此，在防眩光玻璃基板10的顶视图中，边界区域的外观看起来与其它的防眩光处理部分20和非防眩光处理部分30不同，有时观察到像污渍一样的
白色混浊(白曇り)。该白色混浊可能是由于防眩光处理的时间短，用于防眩光处理的试剂与玻璃基板11的反应不均匀而产生的。在该连接区域上进一步涂布防污剂时，由于防污剂与
连接区域的反应性的不均匀，有时发生防污剂的聚集。当防污剂聚集时，在连接区域中防污剂的疎水基团彼此键合，有可能不再充分发挥作为防污剂的功能。此外，还担心由防污剂聚集而导致的外观变差。通过将高度差h设定为10μm以上，能够避免上述问题。但是，当高度差h大于200μm时，用手指触碰时的触感差，边界显眼，因此产生外观变差等问题。高度差h优选为10μm以上且100μm以下。
[0039] 防眩光处理部分20与非防眩光处理部分30的玻璃基板的板厚方向上的高度差h例如使用株式会社基恩士制造的激光显微镜VK-X来求出。使用所述激光显微镜，以包含防眩
光玻璃基板10中的防眩光处理部分20和非防眩光处理部分30的方式获取高度映射数据，并
对该数据实施倾斜校正。从该倾斜校正后的高度映射数据求出非防眩光处理部分30的平均
高度，接着，对距离非防眩光处理部分30的端面1mm的防眩光处理部分20求出平均高度，最终求出它们的平均高度的差值，从而求出高度差h。需要说明的是，对于高度差h而言，不限于此，也可以使用触针式测量仪等。对于实施方式中的高度h的计算而言，在下文中是相同的。
光玻璃基板10中的防眩光处理部分20和非防眩光处理部分30的方式获取高度映射数据，并
对该数据实施倾斜校正。从该倾斜校正后的高度映射数据求出非防眩光处理部分30的平均
高度，接着，对距离非防眩光处理部分30的端面1mm的防眩光处理部分20求出平均高度，最终求出它们的平均高度的差值，从而求出高度差h。需要说明的是，对于高度差h而言，不限于此，也可以使用触针式测量仪等。对于实施方式中的高度h的计算而言，在下文中是相同的。
[0040] 另外，如图2所示，非防眩光处理部分30的玻璃基板11的板厚方向上的截面形状形成作为最外表面侧的上边比作为第一主面侧的底边短的梯形形状。非防眩光处理部分30与
斜面部位形成了锥台形状(錐台形状)。斜面部位是夹在防眩光处理部分20与平滑部分(非
防眩光处理部分30)之间的区域。该锥台形状的侧面与玻璃基板11的第一主面所成的角度X
优选为90°＜X≤150°。由此能够抑制防污剂的聚集。此外，当X＞90°时，用手指触碰时的不适感少、触感良好，当X≤150°时，非防眩光处理部分30的周围的高差不显眼，因此优选。角度X更优选为90°＜X≤140°，更优选为100°≤X≤140°，进一步优选为120°≤X≤140°。角度X可以如后述的实施例中所述，通过将夹在防眩光处理部分与平滑部分之间的区域定义为斜
面部位，测定其长度Y并计算出得到h/Y＝tan(X/180×π)的X而计算出。
斜面部位形成了锥台形状(錐台形状)。斜面部位是夹在防眩光处理部分20与平滑部分(非
防眩光处理部分30)之间的区域。该锥台形状的侧面与玻璃基板11的第一主面所成的角度X
优选为90°＜X≤150°。由此能够抑制防污剂的聚集。此外，当X＞90°时，用手指触碰时的不适感少、触感良好，当X≤150°时，非防眩光处理部分30的周围的高差不显眼，因此优选。角度X更优选为90°＜X≤140°，更优选为100°≤X≤140°，进一步优选为120°≤X≤140°。角度X可以如后述的实施例中所述，通过将夹在防眩光处理部分与平滑部分之间的区域定义为斜
面部位，测定其长度Y并计算出得到h/Y＝tan(X/180×π)的X而计算出。
[0041] 需要说明的是，在本实施方式中，可以根据需要在玻璃基板11的第一主面与防污膜12之间设置各种功能膜(未图示)。在此情况下，防眩光处理部分20与非防眩光处理部分
30的玻璃基板的板厚方向上的高度差h为在玻璃基板11的第一主面上设置有各种功能膜和
防污膜12的状态下的两者的高度差。
30的玻璃基板的板厚方向上的高度差h为在玻璃基板11的第一主面上设置有各种功能膜和
防污膜12的状态下的两者的高度差。
[0042] 作为这样的功能膜，可举出例如低反射膜。低反射膜的材料没有特别限制，只要是能够抑制反射的材料就可以使用各种材料。例如作为低反射膜，可以为层叠高折射率层和低折射率层而得到的构成。
[0043] 可以是包含一层高折射率层和一层低折射率层的形态，也可以是包含两层以上高折射率层和两层以上低折射率层的构成。在包含两层以上高折射率层和两层以上低折射率
层的情况下，优选为交替地层叠高折射率层和低折射率层的形态。
层的情况下，优选为交替地层叠高折射率层和低折射率层的形态。
[0044] 为了得到充分的减反射性能，低反射膜优选为层叠多个膜(层)而得到的层叠体。例如，该层叠体整体上优选为两层以上且六层以下的膜的层叠，更优选为两层以上且四层
以下的膜的层叠。此处的层叠体优选为如上所述将高折射率层和低折射率层层叠而得到的
层叠体，优选高折射率层和低折射率层的层数的总和在上述范围内。
以下的膜的层叠。此处的层叠体优选为如上所述将高折射率层和低折射率层层叠而得到的
层叠体，优选高折射率层和低折射率层的层数的总和在上述范围内。
[0045] 高折射率层、低折射率层的材料没有特别限制，可以考虑所要求的减反射的程度、生产率等进行选择。作为构成高折射率层的材料，可以优选使用选自例如氧化铌(Nb2O5)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氮化硅(SiN)、氧化钽(Ta2O5)中的1种以上。作为构成低折射率层的材料，可以优选使用氧化硅(SiO2)。作为高折射率层，从生产率、折射率的程度出发，可以特别优选使用氧化铌。因此，低反射膜更优选氧化铌层与氧化硅层的层叠体。膜厚优选为40nm以上且500nm以下，更优选为100nm以上且300nm以下。
[0046] 另外，出于提高玻璃基板11与防污膜12的粘附性的目的，可以在玻璃基板11与防污膜12之间插入粘附层(未图示)。在插入粘附层的情况下，只要在形成防污膜12之前预先
在玻璃基板11的第一主面上形成粘附层即可。作为粘附层，可以优选使用氧化硅膜。膜厚优选为2nm以上且50nm以下，更优选为5nm以上且20nm以下。
在玻璃基板11的第一主面上形成粘附层即可。作为粘附层，可以优选使用氧化硅膜。膜厚优选为2nm以上且50nm以下，更优选为5nm以上且20nm以下。
[0047] 对于非防眩光处理部分30而言，例如在将本实施方式的防眩光玻璃基板用作便携式电子设备的保护玻璃时，设置于将要设置在照相机正面的区域、将要设置指纹传感器的
区域；在将本实施方式的防眩光玻璃基板用作其它传感器用保护构件时，设置在用于感应
的可见光、电磁波透射的区域。因此，在本实施方式中，非防眩光处理部分30的表面粗糙度Ra小于10nm。这是因为不会对照相机功能、指纹传感器功能等造成障碍。非防眩光处理部分
30的表面粗糙度Ra优选为5nm以下。非防眩光处理部分30的表面粗糙度Ra的下限值没有特
别限定，优选为0.5nm以上，更优选为1nm以上。
区域；在将本实施方式的防眩光玻璃基板用作其它传感器用保护构件时，设置在用于感应
的可见光、电磁波透射的区域。因此，在本实施方式中，非防眩光处理部分30的表面粗糙度Ra小于10nm。这是因为不会对照相机功能、指纹传感器功能等造成障碍。非防眩光处理部分
30的表面粗糙度Ra优选为5nm以下。非防眩光处理部分30的表面粗糙度Ra的下限值没有特
别限定，优选为0.5nm以上，更优选为1nm以上。
[0048] 非防眩光处理部分30例如可以通过以下方式形成：在为了在玻璃基板11的第一主面的表面上形成凹凸形状而实施表面处理时，在成为非防眩光处理部分的部分粘贴保护
膜。所粘贴的保护膜可以使用在聚乙烯类膜、丙烯酸类树脂膜上涂布丙烯酸类粘合剂而得
到的保护膜等。此外，可以通过印刷进行聚丙烯、聚乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚氯乙烯、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸丁二醇酯、乙烯乙酸乙烯酯聚合物等树脂的掩蔽。在形成防眩光处理部分20后，将这些保护膜、掩蔽剥离。成为非防眩光处理部分的部分的顶视图中的形状没有特别限制，可以适当选择圆形、椭圆形、三角形、长方形、正方形、梯形等。为了使非防眩光处理部分成为所期望的形状，适当调节粘贴在非防眩光处理部分的保护膜的形状即
可。对于非防眩光处理部分的大小而言，例如在圆形的情况下，优选为1mmφ以上且50mmφ以下，在长方形等多边形的情况下，一边的长度优选为1mm以上且50mm以下。
膜。所粘贴的保护膜可以使用在聚乙烯类膜、丙烯酸类树脂膜上涂布丙烯酸类粘合剂而得
到的保护膜等。此外，可以通过印刷进行聚丙烯、聚乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚氯乙烯、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸丁二醇酯、乙烯乙酸乙烯酯聚合物等树脂的掩蔽。在形成防眩光处理部分20后，将这些保护膜、掩蔽剥离。成为非防眩光处理部分的部分的顶视图中的形状没有特别限制，可以适当选择圆形、椭圆形、三角形、长方形、正方形、梯形等。为了使非防眩光处理部分成为所期望的形状，适当调节粘贴在非防眩光处理部分的保护膜的形状即
可。对于非防眩光处理部分的大小而言，例如在圆形的情况下，优选为1mmφ以上且50mmφ以下，在长方形等多边形的情况下，一边的长度优选为1mm以上且50mm以下。
[0049] 对于防眩光处理部分20而言，例如可以通过物理处理或化学处理而在玻璃基板11的第一主面的表面上形成凹凸形状。具体而言，可举出在玻璃基板11的第一主面上实施磨
砂处理(フロスト処理)的方法。磨砂处理例如可以通过以下方式实施：将作为被处理物的玻璃基板11的第一主面的表面浸渍在氟化氢和氟化铵的混合溶液中，对浸渍面进行化学表面
处理。尤其是，对于实施使用氟化氢等化学溶液进行化学表面处理的磨砂处理的方法而言，在被处理面中不易产生微裂纹，不易发生机械强度的降低，因此可以优选用作在玻璃基板
11的第一主面的表面上形成凹凸形状的表面处理方法。
砂处理(フロスト処理)的方法。磨砂处理例如可以通过以下方式实施：将作为被处理物的玻璃基板11的第一主面的表面浸渍在氟化氢和氟化铵的混合溶液中，对浸渍面进行化学表面
处理。尤其是，对于实施使用氟化氢等化学溶液进行化学表面处理的磨砂处理的方法而言，在被处理面中不易产生微裂纹，不易发生机械强度的降低，因此可以优选用作在玻璃基板
11的第一主面的表面上形成凹凸形状的表面处理方法。
[0050] 另外，除了利用这样的化学处理的方法以外，还可以利用例如利用如下处理的方法：将结晶二氧化硅粉末、碳化硅粉末等利用压缩空气喷吹到玻璃基板11的第一主面的表
面上的所谓的喷砂处理；使用将附着有结晶二氧化硅粉末、碳化硅粉末等的刷子用水润湿
后的刷子进行摩擦等物理处理。
面上的所谓的喷砂处理；使用将附着有结晶二氧化硅粉末、碳化硅粉末等的刷子用水润湿
后的刷子进行摩擦等物理处理。
[0051] 在以这样的方式形成凹凸后，为了调整表面形状，通常对玻璃基板11主面的表面进行化学蚀刻。通过如此操作，能够利用蚀刻量将雾度调节至所期望的值，能够除去因喷砂处理等而产生的裂纹，还能够抑制闪光(ギラツキ)。蚀刻可以在带有保护膜、掩模的状态下进行，也可以在除去保护膜、掩模之后进行，可以根据进行磨砂处理时的玻璃的除去量而任意选择。
[0052] 作为蚀刻，优选使用将作为被处理物的玻璃基板浸渍在以氟化氢作为主要成分的溶液中的方法。作为除氟化氢以外的成分，可以含有盐酸、硝酸、柠檬酸等。通过含有这些成分，抑制了进入玻璃的碱成分与氟化氢发生反应从而局部地引起析出反应的情况，能够使
蚀刻在面内均匀地进行。
蚀刻在面内均匀地进行。
[0053] 防污膜12可以使用含氟有机硅化合物等。作为在本实施方式中使用的含氟有机硅化合物，只要是赋予防污性、拒水性、拒油性的含氟有机硅化合物就可以不受特别限制地使用。例如，作为市售的具有选自由多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基构成的组中的一种以上基团的含氟有机硅化合物，可以优选使用：KP-801(商品名，信越化学公司制)、KY178(商品名，信越化学公司制)、KY-130(商品名，信越化学公司制)、KY-185(商品名，信越化学公司制)、OPTOOL(注册商标)DSX和OPTOOL AES(均为商品名，大金公司制)、S-550(旭硝子公司
制)等。防污膜12的膜厚没有特别限制，优选为1nm～20nm，更优选为2nm～10nm。
制)等。防污膜12的膜厚没有特别限制，优选为1nm～20nm，更优选为2nm～10nm。
[0054] 对于本实施方式的防眩光玻璃基板10而言，防眩光处理部分20与非防眩光处理部分30的玻璃基板11的板厚方向上的高度差h为10μm以上且200μm以下，因此在防眩光处理部分20与非防眩光处理部分30的边界不会聚集防污剂，得到良好的防污效果。另外，在高差部产生的颜色不均不显眼，因此优选。
[0055] 在本实施方式中，例如，作为玻璃基板11，可以根据用途使用包含各种形状、材料的玻璃基板。
[0056] 作为形状，可以为具有平坦部和弯曲部两者的板，不限于板，也可以为膜状。
[0057] 玻璃基板11只要是透明的即可，只要不损害确保可视性等功能，也可以为带有颜色的基材。
[0058] 在使用无机玻璃作为玻璃基板11的情况下，其板厚优选为0.5mm以上且5mm以下。如果是具有该下限值以上的板厚的玻璃，则具有可以得到兼具高强度和良好的质感的防眩
光玻璃基板10的优点。其板厚优选为0.7mm以上且3mm以下，进一步优选为1mm以上且3mm以
下。玻璃基板11的板厚可以是均匀的也可以是不均匀的。在厚度不均匀的情况下，例如，在板厚方向的剖视图中，可以为梯形、三角形、C字形、S字形等形状，并没有特别限制。
光玻璃基板10的优点。其板厚优选为0.7mm以上且3mm以下，进一步优选为1mm以上且3mm以
下。玻璃基板11的板厚可以是均匀的也可以是不均匀的。在厚度不均匀的情况下，例如，在板厚方向的剖视图中，可以为梯形、三角形、C字形、S字形等形状，并没有特别限制。
[0059] 作为玻璃基板11和防眩光玻璃基板10的玻璃组成的具体例，可列举：以由氧化物基准的摩尔％表示的组成计，含有50％～80％的SiO2、0.1％～25％的Al2O3、3％～30％的Li2O+Na2O+K2O、0％～25％的MgO、0％～25％的CaO和0％～5％的ZrO2的玻璃，并没有特别限制。更具体而言，可以列举以下的玻璃组成。需要说明的是，例如，“含有0％～25％的MgO”是指：MgO不是必要成分，但是可以含有至多25％。
[0060] (i)以由氧化物基准的摩尔％表示的组成计，含有63％～73％的SiO2、0.1％～5.2％的Al2O3、10％～16％的Na2O、0％～1.5％的K2O、0％～5％的Li2O、5％～13％的MgO和
4％～10％的CaO的玻璃。
4％～10％的CaO的玻璃。
[0061] (ii)以由氧化物基准的摩尔％表示的组成计，含有50％～74％的SiO2、1％～10％的Al2O3、6％～14％的Na2O、3％～11％的K2O、0％～5％的Li2O、2％～15％的MgO、0％～6％的CaO和0％～5％的ZrO2，SiO2和Al2O3的含量的合计为75％以下，Na2O和K2O的含量的合计为
12％～25％，MgO和CaO的含量的合计为7％～15％的玻璃。
12％～25％，MgO和CaO的含量的合计为7％～15％的玻璃。
[0062] (iii)以由氧化物基准的摩尔％表示的组成计，含有68％～80％的SiO2、4％～10％的Al2O3、5％～15％的Na2O、0％～1％的K2O、0％～5％的Li2O、4％～15％的MgO和0％～
1％的ZrO2的玻璃。
1％的ZrO2的玻璃。
[0063] (iv)以由氧化物基准的摩尔％表示的组成计，含有67％～75％的SiO2、0％～4％的Al2O3、7％～15％的Na2O、1％～9％的K2O、0％～5％的Li2O、6％～14％的MgO和0％～1.5％的ZrO2，SiO2和Al2O3的含量的合计为71％～75％，Na2O和K2O的含量的合计为12％～20％，在含有CaO的情况下其含量小于1％的玻璃。
[0064] (v)以由氧化物基准的摩尔％表示的组成计，含有50％～80％的SiO2、2％～25％的Al2O3、0％～10％的Li2O、0％～18％的Na2O、0％～10％的K2O、0％～15％的MgO、0％～5％的CaO和0％～5％的ZrO2的玻璃。
[0065] (vi)以由氧化物基准的摩尔％表示的组成计，含有50％～74％的SiO2、1％～10％的Al2O3、6％～14％的Na2O、3％～11％的K2O、2％～15％的MgO、0％～6％的CaO和0％～5％的ZrO2，SiO2和Al2O3的含量的合计为75％以下，Na2O和K2O的含量的合计为12％～25％，MgO和CaO的含量的合计为7％～15％的玻璃。
[0066] (vii)以由氧化物基准的摩尔％表示的组成计，含有68％～80％的SiO2、4％～10％的Al2O3、5％～15％的Na2O、0％～1％的K2O、4％～15％的MgO和0％～1％的ZrO2，SiO2和Al2O3的含量的合计为80％以下的玻璃。
[0067] (viii)以由氧化物基准的摩尔％表示的组成计，含有67％～75％的SiO2、0％～4％的Al2O3、7％～15％的Na2O、1％～9％的K2O、6％～14％的MgO、0％～1％的CaO和0％～
1.5％的ZrO2，SiO2和Al2O3的含量的合计为71％～75％、Na2O和K2O的含量的合计为12％～
20％的玻璃。
1.5％的ZrO2，SiO2和Al2O3的含量的合计为71％～75％、Na2O和K2O的含量的合计为12％～
20％的玻璃。
[0068] (ix)以由氧化物基准的摩尔％表示的组成计，含有60％～75％的SiO2、0.5％～8％的Al2O3、10％～18％的Na2O、0％～5％的K2O、6％～15％的MgO、0％～8％的CaO的玻璃。
[0069] (x)以由氧化物基准的质量％表示的组成计，含有63％～75％的SiO2、3％～12％的Al2O3、3％～10％的MgO、0.5％～10％的CaO、0％～3％的SrO、0％～3％的BaO、10％～18％的Na2O、0％～8％的K2O、0％～3％的ZrO2、0.005％～0.25％的Fe2O3，并且R2O/Al2O3(式中，R2O为Na2O+K2O)为2.0以上且4.6以下的玻璃。
[0070] (xi)以由氧化物基准的质量％表示的组成计，含有66％～75％的SiO2、0％～3％的Al2O3、1％～9％的MgO、1％～12％的CaO、10％～16％的Na2O、0％～5％的K2O的玻璃。
[0071] 此外，在对玻璃进行着色后使用时，可以在不损害实现所期望的化学强化特性的范围内添加着色剂。可以列举例如：在可见区域具有吸收的、作为Co、Mn、Fe、Ni、Cu、Cr、V、Bi、Se、Ti、Ce、Er和Nd的金属氧化物的Co3O4、MnO、MnO2、Fe2O3、NiO、CuO、Cu2O、Cr2O3、V2O5、Bi2O3、SeO2、TiO2、CeO2、Er2O3、Nd2O3等。
[0072] 另外，在使用着色玻璃作为玻璃的情况下，以氧化物基准的摩尔百分率表示，在玻璃中可以以7％以下的范围含有着色成分(选自由Co、Mn、Fe、Ni、Cu、Cr、V、Bi、Se、Ti、Ce、Er和Nd的金属氧化物构成的组中的至少一种成分)。着色成分超过7％时，玻璃容易失透。着色成分的含量优选为5％以下，更优选为3％以下，进一步优选为1％以下。另外，玻璃基材可以适当含有SO3、氯化物、氟化物等作为熔融时的澄清剂。
[0073] 对于玻璃基板11而言，可以进行化学强化处理、物理强化处理中的任一者，也可以两者均不进行，但是优选进行化学强化处理。在对如上所述比较薄的无机玻璃进行强化处理的情况下，由于容易赋予所期望的强度，因此优选制成进行了化学强化处理的化学强化
玻璃。在对玻璃基板11进行化学强化处理的情况下，优选铝硅酸盐玻璃。
玻璃。在对玻璃基板11进行化学强化处理的情况下，优选铝硅酸盐玻璃。
[0074] 化学强化处理为在玻璃的表面实施离子交换处理从而形成具有压应力的表面层的处理。具体而言，在化学强化用玻璃的玻璃化转变温度以下的温度下进行离子交换处理，将存在于玻璃板表面附近的离子半径小的金属离子(典型地为Li离子或Na离子)置换为离
子半径较大的离子(典型地，对于Li离子而言为Na离子或K离子，对于Na离子而言为K离子)。
子半径较大的离子(典型地，对于Li离子而言为Na离子或K离子，对于Na离子而言为K离子)。
[0075] [第二实施方式]
[0076] 使用图3对本实施方式的防眩光玻璃基板进行说明。图3是示意性地示出本实施方式的防眩光玻璃基板的立体图。图3中所示的防眩光玻璃基板40为在玻璃基板41的第一主
面上实施了防眩光处理的构成。在图3所示的玻璃基板41中，上表面是第一主面，与第一主面相反的下表面是第二主面。本实施方式的防眩光玻璃基板40具有在玻璃基板41的第一主
面的表面上实施了防眩光处理的防眩光处理部分50以及在玻璃基板41的第一主面的表面
上未实施防眩光处理的非防眩光处理部分60。在本实施方式中，通过在玻璃基板41的第一
主面上设置防眩光膜42而形成防眩光处理部分50，在这一点与前述第一实施方式不同。在
本实施方式中，在玻璃基板41的第一主面上未设置有防眩光膜42的部分成为非防眩光处理
部分60。
面上实施了防眩光处理的构成。在图3所示的玻璃基板41中，上表面是第一主面，与第一主面相反的下表面是第二主面。本实施方式的防眩光玻璃基板40具有在玻璃基板41的第一主
面的表面上实施了防眩光处理的防眩光处理部分50以及在玻璃基板41的第一主面的表面
上未实施防眩光处理的非防眩光处理部分60。在本实施方式中，通过在玻璃基板41的第一
主面上设置防眩光膜42而形成防眩光处理部分50，在这一点与前述第一实施方式不同。在
本实施方式中，在玻璃基板41的第一主面上未设置有防眩光膜42的部分成为非防眩光处理
部分60。
[0077] 本实施方式中的防眩光膜42广泛包括在表面上形成有凹凸形状的有机材料膜和无机材料膜。对于防眩光膜42而言，优选与玻璃基板41的第一主面的表面的粘附性良好。另外，为了提高防眩光玻璃基板40的减反射功能，优选所述防眩光膜42的折射率低于玻璃基
板41。
板41。
[0078] 在本实施方式中，在玻璃基板41的第一主面上设置有防污膜43。需要说明的是，在防眩光玻璃基板40的防眩光处理部分50，在设置于玻璃基板41的第一主面上的防眩光膜42上设置有防污膜43。在防眩光玻璃基板40的非防眩光处理部分60，在玻璃基板41的第一主
面上直接设置有防污膜43。
面上直接设置有防污膜43。
[0079] 在本实施方式的防眩光玻璃基板40中，通过在玻璃基板41的第一主面上设置防眩光膜42，防眩光处理部分50的雾度高于非防眩光处理部分60。防眩光处理部分50的雾度例
如为0.5％～70％。另一方面，非防眩光处理部分60的雾度例如小于0.5％。
如为0.5％～70％。另一方面，非防眩光处理部分60的雾度例如小于0.5％。
[0080] 图4是从规定方向观察图3中的B-B’面的剖视图。在本实施方式中，在着眼于玻璃基板41的板厚方向上的高度的情况下，非防眩光处理部分60低于防眩光处理部分50，成为
凹陷。
凹陷。
[0081] 在本实施方式中，防眩光处理部分50与非防眩光处理部分60的玻璃基板41的板厚方向上的高度差h为10μm以上且200μm以下。需要说明的是，在本说明书中，防眩光处理部分
50与非防眩光处理部分60的玻璃基板的板厚方向上的高度差h是指在玻璃基板41的第一主
面上设置有防污膜43的状态下的两者的高度差。在高度差h小于10μm的情况下，在防眩光处理部分50与非防眩光处理部分60的边界处高度不足，防眩光处理部分50与非防眩光处理部
分60的连接区域的角度变得平缓。因此，在防眩光玻璃基板40的顶视图中边界区域的外观
看起来与其它的防眩光处理部分50和非防眩光处理部分60不同，有时观察到像污渍一样的
白色混浊。该白色混浊可能是由于防眩光处理的时间短，用于防眩光处理的试剂与玻璃基
板41的反应不均匀而产生的。在该连接区域上进一步涂布防污剂时，由于防污剂与连接区
域的反应性的不均匀，因此有时发生防污剂的聚集。当防污剂聚集时，在连接区域中防污剂的疎水基团彼此键合，有可能不再充分发挥作为防污剂的功能。此外，还担心由防污剂聚集而导致的外观变差。通过将高度差h设定为10μm以上，能够避免上述问题。但是，当高度差h大于200μm时，用手指触碰时的触感差，边界显眼，因此产生外观变差等问题。高度差h优选为10μm以上且100μm以下。
50与非防眩光处理部分60的玻璃基板的板厚方向上的高度差h是指在玻璃基板41的第一主
面上设置有防污膜43的状态下的两者的高度差。在高度差h小于10μm的情况下，在防眩光处理部分50与非防眩光处理部分60的边界处高度不足，防眩光处理部分50与非防眩光处理部
分60的连接区域的角度变得平缓。因此，在防眩光玻璃基板40的顶视图中边界区域的外观
看起来与其它的防眩光处理部分50和非防眩光处理部分60不同，有时观察到像污渍一样的
白色混浊。该白色混浊可能是由于防眩光处理的时间短，用于防眩光处理的试剂与玻璃基
板41的反应不均匀而产生的。在该连接区域上进一步涂布防污剂时，由于防污剂与连接区
域的反应性的不均匀，因此有时发生防污剂的聚集。当防污剂聚集时，在连接区域中防污剂的疎水基团彼此键合，有可能不再充分发挥作为防污剂的功能。此外，还担心由防污剂聚集而导致的外观变差。通过将高度差h设定为10μm以上，能够避免上述问题。但是，当高度差h大于200μm时，用手指触碰时的触感差，边界显眼，因此产生外观变差等问题。高度差h优选为10μm以上且100μm以下。
[0082] 另外，如图4所示，非防眩光处理部分60的玻璃基板41的板厚方向上的截面形状形成作为最外表面侧的上边比玻璃基板41的第一主面侧的底边长的梯形形状。非防眩光处理
部分60与斜面部位形成了倒锥台形状。该倒锥台形状的侧面与玻璃基板41的第一主面所成
的角度X优选为90°＜X≤150°，更优选为90°＜X≤140°。由此能够抑制防污剂的聚集。此外，当X＞90°时，用手指触碰时的不适感少、触感良好，当X≤150°时，非防眩光处理部分60的周围的高差不显眼，因此优选。
部分60与斜面部位形成了倒锥台形状。该倒锥台形状的侧面与玻璃基板41的第一主面所成
的角度X优选为90°＜X≤150°，更优选为90°＜X≤140°。由此能够抑制防污剂的聚集。此外，当X＞90°时，用手指触碰时的不适感少、触感良好，当X≤150°时，非防眩光处理部分60的周围的高差不显眼，因此优选。
[0083] 需要说明的是，在本实施方式中，可以根据需要在玻璃基板41的第一主面与防污膜43之间设置各种功能膜(未图示)。在防眩光处理部分50，在玻璃基板41的第一主面上设
置有防眩光膜42，各种功能膜可以设置在防眩光膜42上，也可以设置在玻璃基板41的第一
主面与防眩光膜42之间。在设置各种功能膜的情况下，防眩光处理部分50与非防眩光处理
部分60的玻璃基板41的板厚方向上的高度差h为在玻璃基板41的第一主面上设置有防眩光
膜42、各种功能膜和防污膜43的状态下的两者的高度差。
置有防眩光膜42，各种功能膜可以设置在防眩光膜42上，也可以设置在玻璃基板41的第一
主面与防眩光膜42之间。在设置各种功能膜的情况下，防眩光处理部分50与非防眩光处理
部分60的玻璃基板41的板厚方向上的高度差h为在玻璃基板41的第一主面上设置有防眩光
膜42、各种功能膜和防污膜43的状态下的两者的高度差。
[0084] 作为这样的功能膜，可举出例如低反射膜。低反射膜的材料没有特别限制，只要是能够抑制反射的材料就可以使用各种材料。例如作为低反射膜，可以为层叠高折射率层和低折射率层而得到的构成。
[0085] 可以是包含一层高折射率层和一层低折射率层的形态，也可以是包含两层以上高折射率层和两层以上低折射率层的构成。在包含两层以上高折射率层和两层以上低折射率
层的情况下，优选为交替地层叠高折射率层和低折射率层的形态。
层的情况下，优选为交替地层叠高折射率层和低折射率层的形态。
[0086] 为了得到充分的减反射性能，低反射膜优选层叠多个膜(层)而得到的层叠体。例如，该层叠体整体上优选为两层以上且六层以下的膜的层叠，更优选为两层以上且四层以
下的膜的层叠。此处的层叠体优选为如上所述将高折射率层和低折射率层层叠而得到的层
叠体，优选高折射率层和低折射率层的层数的总和在上述范围内。
下的膜的层叠。此处的层叠体优选为如上所述将高折射率层和低折射率层层叠而得到的层
叠体，优选高折射率层和低折射率层的层数的总和在上述范围内。
[0087] 高折射率层、低折射率层的材料没有特别限制，可以考虑所要求的减反射的程度、生产率等进行选择。作为构成高折射率层的材料，可以优选使用例如选自氧化铌(Nb2O5)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氮化硅(SiN)、氧化钽(Ta2O5)中的1种以上。作为构成低折射率层的材料，可以优选使用氧化硅(SiO2)。
[0088] 作为高折射率层，从生产率、折射率的程度出发，可以特别优选使用氧化铌。因此，低反射膜更优选为氧化铌层与氧化硅层的层叠体。膜厚优选为40nm以上且500nm以下，更优选为100nm以上且300nm以下。
[0089] 对于非防眩光处理部分60而言，例如在将本实施方式的防眩光玻璃基板用作便携式电子设备的保护玻璃时，设置于将要设置在照相机正面的区域、将要设置指纹传感器的
区域；在将本实施方式的防眩光玻璃基板用作其它传感器用保护构件时，设置在用于感应
的可见光、电磁波透射的区域。因此，在本实施方式中，非防眩光处理部分60的表面粗糙度Ra小于10nm。这是因为不会对照相机功能、指纹传感器功能等造成障碍。非防眩光处理部分
60的表面粗糙度Ra优选为5nm以下。
区域；在将本实施方式的防眩光玻璃基板用作其它传感器用保护构件时，设置在用于感应
的可见光、电磁波透射的区域。因此，在本实施方式中，非防眩光处理部分60的表面粗糙度Ra小于10nm。这是因为不会对照相机功能、指纹传感器功能等造成障碍。非防眩光处理部分
60的表面粗糙度Ra优选为5nm以下。
[0090] 非防眩光处理部分60例如可以通过以下方式形成：在玻璃基板41的第一主面上设置防眩光膜42时，在成为非防眩光处理部分60的部分粘贴保护膜。所粘贴的保护膜可以使
用在聚乙烯类膜、丙烯酸类树脂膜上涂布丙烯酸类粘合剂而得到的保护膜等。此外，可以通过印刷进行树脂的掩蔽。成为非防眩光处理部分的部分的顶视图中的形状没有特别限制，
可以适当选择圆形、椭圆形、三角形、长方形、正方形、梯形等。为了使非防眩光处理部分成为所期望的形状，适当调节粘贴在非防眩光处理部分的保护膜的形状即可。对于非防眩光
处理部分的大小而言，例如在圆形的情况下，优选为1mmφ以上且50mmφ以下，在长方形等多边形的情况下，一边的长度优选为1mm以上且50mm以下。
用在聚乙烯类膜、丙烯酸类树脂膜上涂布丙烯酸类粘合剂而得到的保护膜等。此外，可以通过印刷进行树脂的掩蔽。成为非防眩光处理部分的部分的顶视图中的形状没有特别限制，
可以适当选择圆形、椭圆形、三角形、长方形、正方形、梯形等。为了使非防眩光处理部分成为所期望的形状，适当调节粘贴在非防眩光处理部分的保护膜的形状即可。对于非防眩光
处理部分的大小而言，例如在圆形的情况下，优选为1mmφ以上且50mmφ以下，在长方形等多边形的情况下，一边的长度优选为1mm以上且50mm以下。
[0091] 对于防眩光处理部分50而言，例如通过涂敷而在玻璃基板41的第一主面上形成防眩光膜42。防眩光膜42的折射率可以通过防眩光膜42的基质的材质、防眩光膜42的孔隙率、向基质中添加具有任意折射率的物质等来调节。例如，可以通过提高防眩光膜42的孔隙率
而降低折射率。另外，可以通过在基质中添加折射率低的物质(实心二氧化硅粒子、中空二氧化硅粒子等)而降低防眩光膜42的折射率。
而降低折射率。另外，可以通过在基质中添加折射率低的物质(实心二氧化硅粒子、中空二氧化硅粒子等)而降低防眩光膜42的折射率。
[0092] 防眩光膜42优选将二氧化硅作为主要成分，但是不限于此。如果将二氧化硅作为主要成分，则防眩光膜42的折射率(反射率)容易变低。另外，防眩光膜42的化学稳定性等也良好。另外，与玻璃基板的粘附性良好。在本说明书中，将二氧化硅作为主要成分是指包含
50质量％以上的SiO2，优选包含90质量％以上的SiO2。
50质量％以上的SiO2，优选包含90质量％以上的SiO2。
[0093] 在将二氧化硅作为主要成分的情况下，防眩光膜42可以仅由二氧化硅构成，也可以包含少量除二氧化硅以外的成分。作为该成分，可举出：选自Li、B、C、N、F、Na、Mg、Al、P、S、K、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Sr、Y、Zr、Nb、Ru、Pd、Ag、In、Sn、Hf、Ta、W、Pt、Au、Bi和镧系元素中的一种或多种元素的离子和/或氧化物等化合物。
[0094] 作为以二氧化硅作为主要成分的防眩光膜42，可举出：由包含二氧化硅前体的涂布组合物形成的防眩光膜、由包含二氧化硅粒子作为粒子的涂布组合物形成的防眩光膜、
以及由不以二氧化硅作为主要成分的树脂膜等形成的防眩光膜。
以及由不以二氧化硅作为主要成分的树脂膜等形成的防眩光膜。
[0095] 另外，在本实施方式中，可以在设置防眩光膜42之后形成非防眩光处理部分60。具体而言，可以通过进行激光处理、利用圆柱磨石的研磨，或者在掩蔽成为防眩光处理部分50的部分的状态下进行利用抛光轮(バフ)或刷子等的研磨而除去防眩光膜42，由此形成非防眩光处理部分60。但是，需要注意的是，当非防眩光处理部分60的表面粗糙度Ra大时，不再充分得到照相机功能、指纹传感器功能等。
[0096] 防污膜43可以使用含氟有机硅化合物等。作为在本实施方式中使用的含氟有机硅化合物，只要是赋予防污性、拒水性、拒油性的含氟有机硅化合物就可以不受特别限制地使用。例如，作为市售的具有选自由多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基构成的组中的一种以上基团的含氟有机硅化合物，可以优选使用：KP-801(商品名，信越化学公司制)、KY178(商品名，信越化学公司制)、KY-130(商品名，信越化学公司制)、KY-185(商品名，信越化学公司制)、OPTOOL(注册商标)DSX和OPTOOL AES(均为商品名，大金公司制)、S-550(AGC制)等。防污膜43的膜厚没有特别限制，优选为1nm～20nm，更优选为2nm～10nm。
[0097] 对于本实施方式的防眩光玻璃基板40而言，防眩光处理部分50与非防眩光处理部分60的玻璃基板41的板厚方向上的高度差h为10μm以上且200μm以下，因此在防眩光处理部分50与非防眩光处理部分60的边界处不会聚集防污剂，得到良好的防污效果。另外，在高差部产生的颜色不均不显眼，因此优选。
[0098] 另外，作为玻璃基板41，可以使用与上述相同的玻璃基板。
[0099] [第三实施方式]
[0100] 使用图5对本实施方式的防眩光玻璃基板进行说明。图5是示意性地示出本实施方式的防眩光玻璃基板的立体图。图5中所示的防眩光玻璃基板70为在玻璃基板71的第一主
面上实施了防眩光处理的构成。在图5所示的玻璃基板71中，上表面是第一主面，与第一主面相反的下表面是第二主面。本实施方式的防眩光玻璃基板70具有在玻璃基板71的第一主
面的表面上实施了防眩光处理的防眩光处理部分80以及在玻璃基板71的第一主面的表面
上未实施防眩光处理的非防眩光处理部分90。另外，在玻璃基板71的第一主面上设置有防
污膜73。
面上实施了防眩光处理的构成。在图5所示的玻璃基板71中，上表面是第一主面，与第一主面相反的下表面是第二主面。本实施方式的防眩光玻璃基板70具有在玻璃基板71的第一主
面的表面上实施了防眩光处理的防眩光处理部分80以及在玻璃基板71的第一主面的表面
上未实施防眩光处理的非防眩光处理部分90。另外，在玻璃基板71的第一主面上设置有防
污膜73。
[0101] 在本实施方式中，防眩光处理部分80和非防眩光处理部分90的形成步骤没有特别限制，例如可以利用以下步骤形成。在玻璃基板71的整个第一主面上实施表面处理而形成
凹凸形状。在此状态下，玻璃基板71的整个第一主面成为防眩光处理部分。在此状态下，对成为非防眩光处理部分的部位实施研磨处理，具体而言，可以通过进行激光处理、利用圆柱磨石的研磨、或者在掩蔽成为防眩光处理部分的部分的状态下进行利用抛光轮或刷子等的
研磨而形成非防眩光处理部分。但是，需要注意的是，当非防眩光处理部分的表面粗糙度Ra大时，不再充分得到照相机功能、指纹传感器功能等。
凹凸形状。在此状态下，玻璃基板71的整个第一主面成为防眩光处理部分。在此状态下，对成为非防眩光处理部分的部位实施研磨处理，具体而言，可以通过进行激光处理、利用圆柱磨石的研磨、或者在掩蔽成为防眩光处理部分的部分的状态下进行利用抛光轮或刷子等的
研磨而形成非防眩光处理部分。但是，需要注意的是，当非防眩光处理部分的表面粗糙度Ra大时，不再充分得到照相机功能、指纹传感器功能等。
[0102] 在本实施方式的防眩光玻璃基板70中，防眩光处理部分80的雾度高于非防眩光处理部分90的雾度。防眩光处理部分80的雾度例如为0.5％～70％。另一方面，非防眩光处理部分90的雾度例如小于0.5％。
[0103] 图6是从规定方向观察图5中的C-C’面的剖视图。在本实施方式中，在着眼于玻璃基板71的板厚方向上的高度的情况下，非防眩光处理部分90低于防眩光处理部分80，成为
凹陷。
凹陷。
[0104] 在本实施方式中，防眩光处理部分80与非防眩光处理部分90的玻璃基板71的板厚方向上的高度差h为10μm以上且200μm以下。需要说明的是，在本说明书中，防眩光处理部分
80与非防眩光处理部分90的玻璃基板的板厚方向上的高度差h是指在玻璃基板71的第一主
面上设置有防污膜73的状态下的两者的高度差。在高度差h小于10μm的情况下，在防眩光处理部分80与非防眩光处理部分90的边界处高度不足，防眩光处理部分80与非防眩光处理部
分90的连接区域的角度变得平缓。因此，在防眩光玻璃基板70的顶视图中，边界区域的外观看起来与其它的防眩光处理部分80和非防眩光处理部分90不同，有时观察到像污渍一样的
白色混浊。该白色混浊可能是由于防眩光处理的时间短，用于防眩光处理的试剂与玻璃基
板71的反应不均匀而产生的。在该连接区域上进一步涂布防污剂时，由于防污剂与连接区
域的反应性的不均匀，因此有时发生防污剂的聚集。当防污剂聚集时，在连接区域中防污剂的疎水基团彼此键合，有可能不再充分发挥作为防污剂的功能。此外，还担心由防污剂聚集而导致的外观变差。通过将高度差h设定为10μm以上，能够避免上述问题。但是，当高度差h大于200μm时，用手指触碰时的触感差，边界显眼，因此产生外观变差等问题。高度差h优选为10μm以上且100μm以下。
80与非防眩光处理部分90的玻璃基板的板厚方向上的高度差h是指在玻璃基板71的第一主
面上设置有防污膜73的状态下的两者的高度差。在高度差h小于10μm的情况下，在防眩光处理部分80与非防眩光处理部分90的边界处高度不足，防眩光处理部分80与非防眩光处理部
分90的连接区域的角度变得平缓。因此，在防眩光玻璃基板70的顶视图中，边界区域的外观看起来与其它的防眩光处理部分80和非防眩光处理部分90不同，有时观察到像污渍一样的
白色混浊。该白色混浊可能是由于防眩光处理的时间短，用于防眩光处理的试剂与玻璃基
板71的反应不均匀而产生的。在该连接区域上进一步涂布防污剂时，由于防污剂与连接区
域的反应性的不均匀，因此有时发生防污剂的聚集。当防污剂聚集时，在连接区域中防污剂的疎水基团彼此键合，有可能不再充分发挥作为防污剂的功能。此外，还担心由防污剂聚集而导致的外观变差。通过将高度差h设定为10μm以上，能够避免上述问题。但是，当高度差h大于200μm时，用手指触碰时的触感差，边界显眼，因此产生外观变差等问题。高度差h优选为10μm以上且100μm以下。
[0105] 另外，如图6所示，非防眩光处理部分90的玻璃基板71的板厚方向上的截面形状为形成于玻璃基板71的第一主面侧的凹部，并且形成与玻璃基板71的第一主面相同高度的上
边比高度低于第一主面的底边长的倒锥台形状。非防眩光处理部分90与斜面部位形成了倒
锥台形状。该倒锥台形状的侧面与玻璃基板71的第一主面所成的角度X优选为90°＜X≤
150°，更优选为90°＜X≤140°。由此能够抑制防污剂聚集。此外，当X＞90°时，用手指触碰时的不适感少、触感良好，当X≤140°时，非防眩光处理部分90的周围的高差不显眼，因此优选。
边比高度低于第一主面的底边长的倒锥台形状。非防眩光处理部分90与斜面部位形成了倒
锥台形状。该倒锥台形状的侧面与玻璃基板71的第一主面所成的角度X优选为90°＜X≤
150°，更优选为90°＜X≤140°。由此能够抑制防污剂聚集。此外，当X＞90°时，用手指触碰时的不适感少、触感良好，当X≤140°时，非防眩光处理部分90的周围的高差不显眼，因此优选。
[0106] 需要说明的是，在本实施方式中，可以根据需要在玻璃基板71的第一主面与防污膜73之间设置各种功能膜(未图示)。在设置各种功能膜的情况下，防眩光处理部分80与非
防眩光处理部分90的玻璃基板71的板厚方向上的高度差h为在玻璃基板71的第一主面上设
置有各种功能膜和防污膜73的状态下的两者的高度差。
防眩光处理部分90的玻璃基板71的板厚方向上的高度差h为在玻璃基板71的第一主面上设
置有各种功能膜和防污膜73的状态下的两者的高度差。
[0107] 作为这样的功能膜，可举出例如低反射膜。低反射膜的材料没有特别限制，只要是能够抑制反射的材料就可以使用各种材料。例如作为低反射膜，可以为层叠高折射率层和低折射率层而得到的构成。
[0108] 可以是包含一层高折射率层和一层低折射率层的形态，也可以是包含两层以上高折射率层和两层低折射率层的构成。在包含两层以上高折射率层和两层以上低折射率层的
情况下，优选为交替地层叠高折射率层和低折射率层的形态。
情况下，优选为交替地层叠高折射率层和低折射率层的形态。
[0109] 为了获得充分的减反射性能，低反射膜优选层叠多个膜(层)而得到的层叠体。例如，该层叠体整体上优选为两层以上且六层以下的膜的层叠，更优选为两层以上且四层以
下的膜的层叠。此处的层叠体优选为如上所述将高折射率层和低折射率层层叠而得到的层
叠体，优选高折射率层和低折射率层的层数的总和在上述范围内。
下的膜的层叠。此处的层叠体优选为如上所述将高折射率层和低折射率层层叠而得到的层
叠体，优选高折射率层和低折射率层的层数的总和在上述范围内。
[0110] 高折射率层、低折射率层的材料没有特别限制，可以考虑所要求的减反射的程度、生产率等进行选择。作为构成高折射率层的材料，可以优选使用选自例如氧化铌(Nb2O5)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氮化硅(SiN)、氧化钽(Ta2O5)中的1种以上。作为构成低折射率层的材料，可以优选使用氧化硅(SiO2)。
[0111] 作为高折射率层，从生产率、折射率的程度出发，可以特别优选使用氧化铌。因此，低反射膜更优选氧化铌层与氧化硅层的层叠体。膜厚优选为40nm以上且500nm以下，更优选为100nm以上且300nm以下。
[0112] 对于非防眩光处理部分90而言，例如在将本实施方式的防眩光玻璃基板用作便携式电子设备的保护玻璃时，设置于将要设置在照相机正面的区域、将要设置指纹传感器的
区域；在将本实施方式的防眩光玻璃基板用作其它传感器用保护构件时，设置在用于感应
的可见光、电磁波透射的区域。因此，在本实施方式中，非防眩光处理部分90的表面粗糙度Ra小于10nm。这是因为不会对照相机功能、指纹传感器功能等造成障碍。非防眩光处理部分
90的表面粗糙度Ra优选为5nm以下。
区域；在将本实施方式的防眩光玻璃基板用作其它传感器用保护构件时，设置在用于感应
的可见光、电磁波透射的区域。因此，在本实施方式中，非防眩光处理部分90的表面粗糙度Ra小于10nm。这是因为不会对照相机功能、指纹传感器功能等造成障碍。非防眩光处理部分
90的表面粗糙度Ra优选为5nm以下。
[0113] 防污膜73可以使用含氟有机硅化合物等。作为在本实施方式中使用的含氟有机硅化合物，只要是赋予防污性、拒水性、拒油性的含氟有机硅化合物就可以不受特别限制地使用。例如，作为市售的具有选自由多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基构成的组中的一种以上基团的含氟有机硅化合物，可以优选使用：KP-801(商品名，信越化学公司制)、KY178(商品名，信越化学公司制)、KY-130(商品名，信越化学公司制)、KY-185(商品名，信越化学公司制)、OPTOOL(注册商标)DSX和OPTOOL AES(均为商品名，大金公司制)、S-550(AGC制)等。防污膜73的膜厚没有特别限制，优选为1nm～20nm，更优选为2nm～10nm。
[0114] 对于本实施方式的防眩光玻璃基板70而言，防眩光处理部分80与非防眩光处理部分90的玻璃基板71的板厚方向上的高度差h为10μm以上且200μm以下，因此在防眩光处理部分80与非防眩光处理部分90的边界处不会聚集防污剂，得到良好的防污效果。另外，在高差部产生的颜色不均不显眼，因此优选。
[0115] (实施例)
[0116] 以下，列举具体的实施例进行说明，但是本发明并不限定于这些实施例。需要说明的是，例1～4、6、7、13、14是实施例、例5、8～12、15～17是比较例。
[0117] (1)试样制作
[0118] [例1]
[0119] 按照以下步骤制造防眩光玻璃样品1。
[0120] 在该例中，使用未强化的化学强化用玻璃(旭硝子株式会社制，商品名：Dragontrail(注册商标)尺寸：300mm×300mm，厚度1.3mm)作为玻璃基板。
[0121] 首先，将耐酸性保护膜贴合在玻璃基板的不形成防眩光处理部分一侧的主面(第二主面)上。另外，在玻璃基板的主面中将要形成防眩光处理部分一侧的主面(第一主面)的大致中央部粘贴切成φ20mm的耐酸性保护膜作为掩模。
[0122] 接着，将该玻璃基板浸渍在3重量％的氟化氢溶液中3分钟，将附着在玻璃基板的第一主面中的未形成掩模的区域的污渍除去，并且将玻璃基板的厚度除去10μm作为前加
工。然后，将玻璃基板浸渍于8重量％氟化氢和8重量％氟化钾的混合溶液中3分钟，对玻璃基板的第一主面中的未形成掩模的区域进行磨砂处理。将磨砂处理后的玻璃基板浸渍在10
重量％氟化氢溶液中3分钟(蚀刻时间3分钟)而进行蚀刻处理，由此将雾度调节至15％。需
要说明的是，玻璃基板的第一主面中，粘贴有φ20mm的掩模的中央部为平滑部分，除此以外的部分为防眩光处理部分。由此得到了未强化防眩光玻璃基板。
工。然后，将玻璃基板浸渍于8重量％氟化氢和8重量％氟化钾的混合溶液中3分钟，对玻璃基板的第一主面中的未形成掩模的区域进行磨砂处理。将磨砂处理后的玻璃基板浸渍在10
重量％氟化氢溶液中3分钟(蚀刻时间3分钟)而进行蚀刻处理，由此将雾度调节至15％。需
要说明的是，玻璃基板的第一主面中，粘贴有φ20mm的掩模的中央部为平滑部分，除此以外的部分为防眩光处理部分。由此得到了未强化防眩光玻璃基板。
[0123] 然后，将得到的未强化防眩光玻璃基板的保护膜和掩模剥离并进行化学强化处理。将蚀刻处理后的未强化防眩光玻璃基板浸渍在加热至450℃并熔化的硝酸钾盐中1小
时，然后将玻璃基板从熔融盐中提起，用1小时缓慢冷却至室温，由此得到进行了化学强化的防眩光玻璃基板。
时，然后将玻璃基板从熔融盐中提起，用1小时缓慢冷却至室温，由此得到进行了化学强化的防眩光玻璃基板。
[0124] 接着，在进行了化学强化的防眩光玻璃基板的第一主面上形成低反射膜。以下述方式在防眩光玻璃基板的第一主面上形成低反射膜。首先，在引入在氩气中混合了10体
积％氧气的混合气体的同时，使用氧化铌靶材(AGC陶瓷公司制，商品名NBO target)在压力
0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm2、反向脉冲宽度5μsec的条件下进行脉冲溅射，从而在玻璃基板的第一主面上形成厚度13nm的包含氧化铌(氧化铌)的高折射率层。
积％氧气的混合气体的同时，使用氧化铌靶材(AGC陶瓷公司制，商品名NBO target)在压力
0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm2、反向脉冲宽度5μsec的条件下进行脉冲溅射，从而在玻璃基板的第一主面上形成厚度13nm的包含氧化铌(氧化铌)的高折射率层。
[0125] 接着，在引入在氩气中混合了40体积％氧气的混合气体的同时，使用硅靶在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm2、反向脉冲宽度5μsec的条件下进行脉冲溅射，从而在所述高折射率层上形成厚度30nm的包含氧化硅(二氧化硅)的低折射率层。
[0126] 接着，在引入在氩气中混合了10体积％氧气的混合气体的同时，使用氧化铌靶材(AGC陶瓷公司制，商品名NBO target)在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm2、反向脉冲宽度5μsec的条件下进行脉冲溅射，从而在所述低折射率层上形成厚度110nm的包含氧化铌(氧化铌)的高折射率层。
[0127] 接着，在引入在氩气中混合了40体积％氧气的混合气体的同时，使用硅靶在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm2、反向脉冲宽度5μsec的条件下进行脉冲溅射，从而形成厚度90nm的包含氧化硅(二氧化硅)的低折射率层。
[0128] 以这样的方式，在进行了化学强化的防眩光玻璃基板上形成了氧化铌(氧化铌)和氧化硅(二氧化硅)总计四层的低反射膜。
[0129] 接着，进行防污膜形成处理。首先，将含氟有机硅化合物覆膜(防污膜)材料(信越化学公司制，商品名：KY-185)引入加热容器内。然后，利用真空泵对加热容器内进行10小时以上的脱气而进行溶液中的溶剂除去，从而制成含氟有机硅化合物覆膜形成用组合物。
[0130] 接着，将装有上述含氟有机硅化合物覆膜形成用组合物的加热容器加热至270℃。达到270℃后，保持该状态10分钟直至温度稳定。然后，在设置在真空室内的层叠有上述低反射膜的进行了化学强化的防眩光玻璃基板的低反射膜上，从与装有所述含氟有机硅化合
物覆膜形成用组合物的加热容器连接的喷嘴供给含氟有机硅化合物覆膜形成用组合物并
进行成膜。
物覆膜形成用组合物的加热容器连接的喷嘴供给含氟有机硅化合物覆膜形成用组合物并
进行成膜。
[0131] 在成膜时，在利用设置在真空室内的石英晶体振荡器监测器测定膜厚的同时进行成膜，进行成膜直至在进行了化学强化的防眩光玻璃基板的低反射膜上形成的含氟有机硅
化合物膜的膜厚达到10nm。在含氟有机硅化合物膜的膜厚达到10nm的时刻停止从喷嘴的原
料供给，然后从真空室中取出制造的防眩光玻璃样品1。将取出的防眩光玻璃样品1以使膜
面朝上的方式设置在热板上，在大气中、150℃下进行60分钟热处理。
化合物膜的膜厚达到10nm。在含氟有机硅化合物膜的膜厚达到10nm的时刻停止从喷嘴的原
料供给，然后从真空室中取出制造的防眩光玻璃样品1。将取出的防眩光玻璃样品1以使膜
面朝上的方式设置在热板上，在大气中、150℃下进行60分钟热处理。
[0132] [例2]
[0133] 在前加工中将玻璃基板的厚度除去80μm，并调节蚀刻处理中的蚀刻条件以使得达到与例1相同的雾度，除此以外，在与例1相同的条件下制作了防眩光玻璃样品2。
[0134] [例3]
[0135] 在前加工中将玻璃基板的厚度除去15μm，在不剥离掩模而剥离保护膜的状态下进行磨砂处理，然后剥离掩模，在氟化氢溶液中进行蚀刻处理，除此以外，在与例1相同的条件下制作了防眩光玻璃样品3。
[0136] [例4]
[0137] 不实施前加工，调节蚀刻处理中的蚀刻条件以使得达到与例1相同的雾度，除此以外，在与例1相同的条件下制作了防眩光玻璃样品4。
[0138] [例5]
[0139] 在前加工中将玻璃基板的厚度除去5μm，调节蚀刻处理中的蚀刻条件以使得达到与例3相同的雾度，除此以外，在与例3相同的条件下制作了防眩光玻璃样品5。
[0140] [例6]
[0141] 除了将雾度调节至25％以外，在与例1相同的条件下制作了防眩光玻璃样品6。
[0142] [例7]
[0143] 在前加工中将玻璃基板的厚度除去15μm，进行磨砂处理后剥离掩模，在氟化氢溶液中进行蚀刻处理，除此以外，在与例6相同的条件下制作了防眩光玻璃样品7。
[0144] [例8]
[0145] 在前加工中将玻璃基板的厚度除去5μm，调节蚀刻处理中的蚀刻条件以使得达到与例7相同的雾度，除此以外，在与例7相同的条件下制作了防眩光玻璃样品8。
[0146] [例9]
[0147] 与例1同样地，使用未强化的化学强化用玻璃(旭硝子株式会社制，商品名：Dragontrail(注册商标)尺寸：300mm×300mm，厚度1.3mm)作为玻璃基板。在玻璃基板的不
形成防眩光处理部分一侧的主面(第二主面)上贴合耐酸性保护膜。接着，将该玻璃基板浸
渍在3重量％的氟化氢溶液中，除去附着在玻璃基板表面上的污渍。然后，将玻璃基板浸渍在15重量％氟化氢和15重量％氟化钾的混合溶液中3分钟，对玻璃基板的未贴合保护膜一
侧的主面(第一主面)进行磨砂处理。将上述磨砂处理后的玻璃基板浸渍在10重量％氟化氢
溶液中4分钟(蚀刻时间4分钟)而进行蚀刻处理，由此将雾度调节至15％。然后，对蚀刻处理后的表面的大致中央部，使用φ5mm的圆柱状的磨石、努氏硬度为3000的氧化铈磨粒进行研磨，对φ20mm的范围以15μm的深度进行蚀刻处理后的表面的除去。然后，与例1同样地进行化学强化、低反射膜形成处理、防污膜形成处理。需要说明的是，在蚀刻处理后的主面(第一主面)中，通过研磨而除去经过蚀刻处理的表面的中央部(玻璃除去部)为平滑部分，除此以外的部分为防眩光处理部分。由此得到了防眩光玻璃样品9。
形成防眩光处理部分一侧的主面(第二主面)上贴合耐酸性保护膜。接着，将该玻璃基板浸
渍在3重量％的氟化氢溶液中，除去附着在玻璃基板表面上的污渍。然后，将玻璃基板浸渍在15重量％氟化氢和15重量％氟化钾的混合溶液中3分钟，对玻璃基板的未贴合保护膜一
侧的主面(第一主面)进行磨砂处理。将上述磨砂处理后的玻璃基板浸渍在10重量％氟化氢
溶液中4分钟(蚀刻时间4分钟)而进行蚀刻处理，由此将雾度调节至15％。然后，对蚀刻处理后的表面的大致中央部，使用φ5mm的圆柱状的磨石、努氏硬度为3000的氧化铈磨粒进行研磨，对φ20mm的范围以15μm的深度进行蚀刻处理后的表面的除去。然后，与例1同样地进行化学强化、低反射膜形成处理、防污膜形成处理。需要说明的是，在蚀刻处理后的主面(第一主面)中，通过研磨而除去经过蚀刻处理的表面的中央部(玻璃除去部)为平滑部分，除此以外的部分为防眩光处理部分。由此得到了防眩光玻璃样品9。
[0148] [例10]
[0149] 除了将利用研磨的除去量设定为600μm的深度以外，在与例9同样的条件下制作了防眩光玻璃样品10。
[0150] [例11]
[0151] 除了将利用研磨的除去量设定为5μm的深度、并使用使得玻璃除去部的底面与侧面的角度为160°的磨石以外，在与例9同样的条件下制作了防眩光玻璃样品11。
[0152] [例12]
[0153] 利用与例9相同的方法进行至蚀刻处理。然后，除去实施了蚀刻处理的面(第一主面)的大致中央部的φ20mm的范围，粘贴保护膜，使用#10000的陶瓷磨粒并且利用砂带(テ
ープ)进行研磨，以10μm的深度进行实施了蚀刻处理的面的除去。然后，与例1同样地进行化学强化、低反射膜形成处理、防污膜形成处理。需要说明的是，蚀刻处理后的主面中未粘贴保护膜的φ20mm的中央部为非防眩光处理部分，除此以外的部分为防眩光处理部分。由此
得到了防眩光玻璃样品12。
ープ)进行研磨，以10μm的深度进行实施了蚀刻处理的面的除去。然后，与例1同样地进行化学强化、低反射膜形成处理、防污膜形成处理。需要说明的是，蚀刻处理后的主面中未粘贴保护膜的φ20mm的中央部为非防眩光处理部分，除此以外的部分为防眩光处理部分。由此
得到了防眩光玻璃样品12。
[0154] [例13]
[0155] 利用与例1相同的方法使用预先进行了化学强化的玻璃基板(旭硝子株式会社制，商品名：Dragontrail(注册商标)尺寸：300mm×300mm，厚度1.3mm)。在玻璃基板的将要形成防眩光处理部分一侧的主面(第一主面)的大致中央部粘贴切成φ20mm的耐酸性掩模。接
着，将该玻璃基板的表面用碳酸氢钠水溶液进行清洗，然后用离子交换水进行冲洗，并进行干燥。接着，用烘箱加热玻璃基板以使得表面温度达到80℃，利用喷雾法将中空二氧化硅微粒分散液在喷雾压力：0.4MPa、涂布液量：7mL/分钟、喷嘴移动速度：750mm/分钟、喷雾间距：
22mm、喷嘴前端与玻璃基板的距离：115mm、液滴直径：6.59μm的条件下在璃基板上进行涂布以使得膜厚达到10μm，从而形成雾度为10％的防眩光膜。然后，除去掩模，利用与例1相同的方法进行低反射膜形成处理、防污膜形成处理。需要说明的是，在形成了防眩光膜一侧的主面中，粘贴有掩模的φ20mm的中央部为平滑部分，除此以外的部分为防眩光处理部分。由此得到了防眩光玻璃样品13。
着，将该玻璃基板的表面用碳酸氢钠水溶液进行清洗，然后用离子交换水进行冲洗，并进行干燥。接着，用烘箱加热玻璃基板以使得表面温度达到80℃，利用喷雾法将中空二氧化硅微粒分散液在喷雾压力：0.4MPa、涂布液量：7mL/分钟、喷嘴移动速度：750mm/分钟、喷雾间距：
22mm、喷嘴前端与玻璃基板的距离：115mm、液滴直径：6.59μm的条件下在璃基板上进行涂布以使得膜厚达到10μm，从而形成雾度为10％的防眩光膜。然后，除去掩模，利用与例1相同的方法进行低反射膜形成处理、防污膜形成处理。需要说明的是，在形成了防眩光膜一侧的主面中，粘贴有掩模的φ20mm的中央部为平滑部分，除此以外的部分为防眩光处理部分。由此得到了防眩光玻璃样品13。
[0156] [例14]
[0157] 将防眩光膜的膜厚调节为50μm并将雾度调节为8％，除此以外，在与例13同样的条件下制作了防眩光玻璃样品14。
[0158] [例15]
[0159] 将防眩光膜的膜厚调节为5μm并将雾度调节为12％，除此以外，在与例13同样的条件下制作了防眩光玻璃样品15。
[0160] [例16]
[0161] 不粘贴掩模，与例13的方法同样地进行防眩光膜的形成、低反射膜形成处理和防污膜形成处理。然后，利用与例9同样的方法进行研磨，从而制作了防眩光玻璃样品16。
[0162] [例17]
[0163] 利用与例16同样的方法进行防眩光处理、低反射膜形成处理和防污膜形成处理。然后，利用与例12同样的方法进行研磨，从而制作了防眩光玻璃样品17。
[0164] (2)评价方法
[0165] 以下对例1～例17中得到的防眩光玻璃基板的特性评价方法进行说明。
[0166] (表面形状的测定)
[0167] 对于例1～例17中制作的防污膜成膜后的试样的平滑部分的表面形状，使用激光显微镜(基恩士公司制，商品名：VK-9700)以1000倍的倍数测定平面轮廓。然后，从得到的平面轮廓基于JIS B 0601(2001)计算出表面粗糙度Ra、RMS的值。将平滑部分中Ra＜10nm的部分定义为非防眩光处理部分。需要说明的是，对于防眩光玻璃样品9～12、16、17而言，平滑部分的Ra未达到小于10nm，未得到非防眩光处理部分。
[0168] 另外，将距离平滑部分的端点2mm的区域设为防眩光处理部分的代表部位，得到与平滑部分的高低差(高度差h)。接着，在相当于防眩光处理部分的代表部位的RSm二倍的区
域中分割成栅格形并对整个测定视野计算出Rz，将具有与防眩光处理部分的代表部位同等
的Rz的区域定义为防眩光处理部位。将夹在防眩光处理部分与平滑部分之间的区域定义为
斜面部位，并测定其长度Y。然后，计算得到h/Y＝tan(X/180×π)的X，并定义为角度X。
域中分割成栅格形并对整个测定视野计算出Rz，将具有与防眩光处理部分的代表部位同等
的Rz的区域定义为防眩光处理部位。将夹在防眩光处理部分与平滑部分之间的区域定义为
斜面部位，并测定其长度Y。然后，计算得到h/Y＝tan(X/180×π)的X，并定义为角度X。
[0169] (雾度)
[0170] 测定例1～例17中制作的防污膜成膜后的试样的防眩光处理部分的透射雾度。雾度的测定使用雾度仪(Suga Test Instruments株式会社制，型号：HZ-V3)来进行。
[0171] (透射率测定)
[0172] 进行例1～例17中制作的防污膜成膜后的试样的平滑部分的透射率的测定。透射率的测定利用岛津制作所制造的紫外可见分光光度计SolidSpec-3700实施。
[0173] (指纹擦除测试)
[0174] 通过以下步骤对防眩光处理部分的防污膜进行指纹擦除性的确认。对各试样的高差部以同等的按压力使用人工汗液附上指纹。然后，使用带有乙醇的纱布，实施用于确认直至指纹消失为止的擦除次数的擦除试验。将在10次以内指纹被擦除的情况设为○，将通过
11次～50次的擦除而被除去的情况设为△，将即使实施50次擦除也未被除去的情况设为
×。
11次～50次的擦除而被除去的情况设为△，将即使实施50次擦除也未被除去的情况设为
×。
[0175] (触感)
[0176] 对防眩光处理部分与平滑部分的边界附近进行触感的评价。利用10人的1：非常好、2：良好、3：没有问题、4：差、5：非常差这5个等级评价的平均值来进行评价。
[0177] 将例1～17的评价结果示于下表。
[0178] 表1
[0179]
[0180] 表2
[0181]
[0182] ※AG：防眩光
[0183] 由表1和表2可知，能够确认：在防眩光处理部分与平滑部分(非防眩光处理部分)的高低差小于10μm的情况下，在相同条件下进行擦除试验的情况下，通过10次的擦除而无法擦除指纹，尤其是在防眩光处理部分与平滑部分(非防眩光处理部分)的连接区域附近得
不到优良的防污性能。另外，防眩光处理部分与平滑部分(非防眩光处理部分)的高低差小
于10μm的防眩光玻璃样品的连接区域确认到像污渍一样的白色混浊。另一方面，可知在角度X大于150°的情况下，虽然与通常相比较差，但是得到了防污性能。
不到优良的防污性能。另外，防眩光处理部分与平滑部分(非防眩光处理部分)的高低差小
于10μm的防眩光玻璃样品的连接区域确认到像污渍一样的白色混浊。另一方面，可知在角度X大于150°的情况下，虽然与通常相比较差，但是得到了防污性能。
[0185] 本申请基于2017年3月23日申请的日本专利申请2017-057280和2018年3月22日申请的日本专利申请2018-053797，其内容作为参考并入本申请中。
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