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一种柔性电极层及其制备方法、显示基板、显示装置

阅读:514发布:2023-03-05

专利汇可以提供一种柔性电极层及其制备方法、显示基板、显示装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 实施例 提供了一种柔性 电极 层及其制备方法、显示 基板 、显示装置,涉及显示技术领域,通过降低柔性电极层材料的 电阻 率 ,使其应用于电极结构时的 方 块 电阻 较小,满足显示器件 对电极 结构低电阻值的要求,有利于 柔性显示器 的进一步发展。该柔性电极层的制备方法包括:在基板上形成第一电极层,所述第一电极层由 碳 纳米管 和/或 石墨 烯材料构成;采用 氧 化性材料,对所述第一电极层进行掺杂改性,形成第二电极层。用于柔性电极层及包括该柔性电极层的显示基板的制备。,下面是一种柔性电极层及其制备方法、显示基板、显示装置专利的具体信息内容。

1.一种柔性电极层的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
基板上形成第一电极层,所述第一电极层由纳米管石墨烯材料构成;
所述在基板上形成第一电极层包括:构成所述基板的材料与石墨烯晶格常数匹配较好,采用化学气相沉积法或外延生长方式在所述基板上形成所述第一电极层;或者,构成所述基板的材料与石墨烯晶格常数匹配较差,采用图案转印的方式将形成在中间载体上的具有一定图案的所述第一电极层转印至所述基板上;
采用化性材料,对所述第一电极层进行掺杂改性,形成第二电极层,具体包括:使所述第一电极层的上表面与氧化性材料溶液相接触;对接触有所述氧化性材料溶液的所述第一电极层进行清洗、干燥,获得第二电极层;
所述使所述第一电极层的上表面与氧化性材料溶液相接触包括:在所述第一电极层的表面喷淋氧化性材料溶液。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述氧化性材料由二氧化氮、溴单质、硝酸、亚硫酰氯、全氟聚苯二酸磺酸、四氟四氰基醌二甲烷中的至少一种材料构成。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述采用氧化性材料,对所述第一电极层进行掺杂改性,形成第二电极层之后,所述制备方法还包括:
在形成的所述第二电极层的上表面上形成透明导电保护层。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述在形成的所述第二电极层的上表面上形成透明导电保护层,具体包括:
在形成的所述第二电极层的上表面上形成由透明导电聚合物溶液构成的导电聚合物溶液膜;
固化所述导电聚合物溶液膜,形成透明导电保护层。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述导电聚合物溶液的溶质包括导电聚合物,溶剂包括室温离子液体
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,
所述导电聚合物由聚乙炔、聚噻吩、聚吡咯、聚苯胺、聚苯撑、聚苯撑乙炔、聚双炔中的至少一种材料构成;
所述室温离子液体由1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-辛基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑四氟酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲基磺酸盐、氯化1-丁基-3-甲基咪唑盐中的至少一种材料构成。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述导电聚合物溶液的溶质还包括:
零维纳米导电材料和/或一维纳米导电材料。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述零维纳米导电材料和/或所述一维纳米导电材料由金、、镍、中的至少一种材料构成。
9.一种柔性电极层,其特征在于,所述柔性电极层采用上述权利要求1至8任一项所述的制备方法获得。
10.一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
对如权利要求1至8任一项所述的制备方法获得的柔性电极层进行构图工艺的处理,获得图案化的显示用电极;
其中,所述显示用电极包括:像素电极、公共电极、触控驱动电极、触控感应电极中的至少一种。
11.根据权利要求10所述的制备方法,其特征在于,对所述柔性电极层进行构图工艺的处理,获得图案化的显示用电极,具体包括:
采用激光烧蚀,对所述柔性电极层进行构图工艺的处理,获得图案化的显示用电极。
12.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板采用上述权利要求10或11所述的制备方法获得。
13.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求12所述的显示基板。

说明书全文

一种柔性电极层及其制备方法、显示基板、显示装置

技术领域

[0001] 本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种柔性电极层及其制备方法、显示基板、显示装置。

背景技术

[0002] 柔性显示器(Flexible Display)由柔性材料制成,具有可变型可弯曲的特性。用户在使用柔性显示器时,可以实现传统刚性显示器无法实现的多种功能。例如,可以将柔性显示器折叠起来放进口袋里随身携带;或者“卷开”柔性显示器,当作地图使用;柔性显示器还可以被嵌入眼镜、衣服、手表、头盔等日常用品成为可穿戴电子设备。因此,柔性显示器具有巨大的市场潜,成为了当下显示技术发展的主流趋势。
[0003] 柔性显示器实现的难点之一是形成具有可挠性的像素电极等柔性电极。其中,应用于传统刚性显示器中电极结构的ITO(Indium Tin Oxide、化铟)、IZO(Indium Zinc Oxide,氧化铟锌)材料的机械强度较大、可挠性较小,难以很好地应用于柔性显示器。因此,现有技术提出采用柔性较优的纳米管(carbon nanotubes,简称CNT)等碳材料替代ITO、IZO作为电极结构的材料。
[0004] 由于柔性显示器中的像素电极等电极结构的厚度很小,通常仅为 并且,为了减薄柔性显示器的整体厚度,同时提高其透光率,像素电极等电极结构的厚度应尽可能地减薄。这样一来,导致CNT应用于像素电极等电极结构时的电阻(符号为Rs,表达式为Rs=ρ/t;其中,ρ为电极材料的电阻率,t为电极的厚度)的阻值Rs较大,能耗较高,不能满足像素电极对低电阻值的要求,不利于柔性显示器的进一步发展。

发明内容

[0005] 本发明的实施例提供一种柔性电极层及其制备方法、显示基板、显示装置,通过降低柔性电极层材料的电阻率,使其应用于电极结构时的方块电阻较小,满足显示器件对电极结构低电阻值的要求,有利于柔性显示器的进一步发展。
[0006] 为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
[0007] 一方面、本发明实施例提供了一种柔性电极层的制备方法,所述制备方法包括:在基板上形成第一电极层,所述第一电极层由碳纳米管和/或石墨烯材料构成;采用氧化性材料,对所述第一电极层进行掺杂改性,形成第二电极层。
[0008] 可选的,所述采用氧化性材料,对所述第一电极层进行掺杂改性,形成第二电极层,具体包括:使所述第一电极层的上表面与氧化性材料溶液相接触;对接触有所述氧化性材料溶液的所述第一电极层进行清洗、干燥,获得第二电极层。
[0009] 进一步优选的,所述氧化性材料由二氧化氮、溴单质、硝酸、亚硫酰氯、全氟聚苯二酸磺酸、四氟四氰基醌二甲烷中的至少一种材料构成。
[0010] 可选的,所述采用氧化性材料,对所述第一电极层进行掺杂改性,形成第二电极层之后,所述制备方法还包括:在形成的所述第二电极层的上表面上形成透明导电保护层。
[0011] 进一步优选的,所述在形成的所述第二电极层的上表面上形成透明导电保护层,具体包括:在形成的所述第二电极层的上表面上形成由透明导电聚合物溶液构成的导电聚合物溶液膜;固化所述导电聚合物溶液膜,形成透明导电保护层。
[0012] 进一步优选的,所述导电聚合物溶液的溶质包括导电聚合物,溶剂包括室温离子液体
[0013] 进一步优选的,所述导电聚合物由聚乙炔、聚噻吩、聚吡咯、聚苯胺、聚苯撑、聚苯撑乙炔、聚双炔中的至少一种材料构成;所述室温离子液体由1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-辛基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑四氟酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲基磺酸盐、氯化1-丁基-3-甲基咪唑盐中的至少一种材料构成。
[0014] 进一步优选的,所述导电聚合物溶液的溶质还包括:零维纳米导电材料和/或一维纳米导电材料。
[0015] 进一步优选的,所述零维纳米导电材料和/或所述一维纳米导电材料由金、、镍、锡中的至少一种材料构成。
[0016] 另一方面、本发明实施例提供了一种柔性电极层,所述柔性电极层采用上述任一项所述的制备方法获得。
[0017] 再一方面、本发明实施例提供了一种显示基板的制备方法,所述制备方法包括:对如上述任一项所述的制备方法获得的柔性电极层进行构图工艺的处理,获得图案化的显示用电极;其中,所述显示用电极包括:像素电极、公共电极、触控驱动电极、触控感应电极中的至少一种。
[0018] 优选的,对所述柔性电极层进行构图工艺的处理,获得图案化的显示用电极,具体包括:采用激光烧蚀,对所述柔性电极层进行构图工艺的处理,获得图案化的显示用电极。
[0019] 又一方面、本发明实施例提供了一种显示基板,所述显示基板采用上述所述的制备方法获得。
[0020] 进一步的,本发明实施例还提供了一种显示装置,所述显示装置包括上述的所述的显示基板。
[0021] 基于此,通过本发明实施例提供的上述制备方法,对由碳纳米管(CNT)和/或石墨烯(Graphene)材料构成的第一电极层进行掺杂改性,在其结构内形成p-π共轭,提高了碳纳米管和/或石墨烯材料结构中的共轭度,降低了电子π-π*跃迁的能量,使电导率σ)增大,由于电导率的倒数为电阻率ρ,从而使得改性处理后的第二电极层的电阻率显著降低,使其应用于像素电极、公共电极、触控电极等电极结构时的方块电阻较小,满足显示器件对电极结构低电阻值的要求,有利于柔性显示器的进一步发展。附图说明
[0022] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023] 图1为本发明实施例提供的一种柔性电极层的制备流程示意图一;
[0024] 图2为图1中步骤S01的示意图;
[0025] 图3为图1中步骤S02的示意图;
[0026] 图4为图1中步骤S02分步流程示意图;
[0027] 图5为本发明实施例提供的一种柔性电极层的制备流程示意图二;
[0028] 图6为图5中步骤S03分步流程示意图;
[0029] 图7为图6中步骤S31分步示意图;
[0030] 图8为图6中步骤S32分步示意图。
[0031] 附图标记:
[0032] 01-柔性电极层;10-基板;11-第一电极层;11a-第一电极层的上表面;12-第二电极层;12a-第二电极层的上表面;13-透明导电保护层;130-导电聚合物溶液膜。

具体实施方式

[0033] 下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0034] 本发明实施例提供了一种柔性电极层01的制备方法,如图1所示,该制备方法包括:
[0035] S01、在基板10上形成第一电极层11,第一电极层11由碳纳米管(CNT)和/或石墨烯(Graphene)材料构成;
[0036] S02、采用氧化性材料,对第一电极层11进行掺杂改性,形成第二电极层12。
[0037] 需要说明的是,第一、上述基板10可以为由不锈、聚酯膜等柔性材料构成的衬底基板;还可以是在衬底基板上形成包括有TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)阵列结构层等的基板,具体不作限定,可根据形成的第二电极层12的功能,灵活选用合适的上述基板10。
[0038] 第二、在上述步骤S01中,根据构成第一电极层11的材料的不同,可以有多种工艺形成上述的第一电极层11。
[0039] 例如,当第一电极层11采用碳纳米管材料构成时,可以采用将碳纳米管分散液涂布在上述基板10上,经清洗-干燥-成膜的方式,形成上述的第一电极层11;或者,也可在上述基板10上首先涂布固化层,之后采用拉膜的成膜工艺将碳纳米管制作在固化层上,根据固化层材料的固化性能采用相应的固化工艺将碳纳米管进行固化,形成上述的第一电极层11。
[0040] 这里,碳纳米管分散液是指包含了经分散处理后的碳纳米管的液体。
[0041] 当第一电极层11采用石墨烯材料构成时,若构成上述基板10的材料与石墨烯晶格常数匹配较好,可以采用化学气相沉积法或外延生长等方式在上述基板10上形成第一电极层11;或者,若构成上述基板10的材料与石墨烯晶格常数匹配较差,难以在基板10上直接成膜时,也可以采用图案转印的方式,将已经在衬底层上形成好的第一电极层11转印至上述基板10上。
[0042] 这里,上述的图案转印工艺,是指将形成在中间载体(如上述的衬底层)上的具有一定图案的膜层转移到目标载体(如上述的基板10)上的工艺。
[0043] 第三、在上述步骤S02中,氧化性材料即具有氧化性的材料,也即具有得电子能力的材料,例如可以包括但不限于二氧化氮(NO2)、溴单质(Br2)、硝酸(HNO3)、亚硫酰氯(SOCl2)、全氟聚苯二酸磺酸(Nafion)、四氟四氰基醌二甲烷(TCNQF4)中的至少一种材料构成。
[0044] 通过上述的氧化性材料,对第一电极层11进行掺杂改性后,可使形成的第二电极层12的电阻率小于第一电极层11的电阻率。具体原理如下所述:
[0045] 由于上述的材料均具有强氧化性,对第一电极层11进行掺杂改性后可在碳纳米管和/或石墨烯材料的表面产生离子附着,在第一电极层11的结构内形成p-π共轭,提高了碳纳米管和/或石墨烯材料结构中的共轭度,降低了电子π-π*跃迁的能量,使电导率(符号为σ,单位为s/cm)增大,由于电导率的倒数为电阻率(σ=1/ρ),即电阻率ρ降低。
[0046] 示例的,以第一电极层11由CNT材料构成、氧化性材料为HNO3为例,未经HNO3掺杂改性前的第一电极层11的电导率为几十至几百s/cm,掺杂改性后的第二电极层12的电导率可高达1.2×104~9.0×104s/cm;相应地,掺杂改性后的第二电极层12的方块电阻可减小至10Ω/□。
[0047] 这里,“Ω/□”是指通过探针法测量出的方块电阻的单位,用于表示薄层材料上的任一个方块(即正方形,边长任意)中一个边到对边之间的电阻;其中,“Ω/□”中的“□”表示方块。
[0048] 基于此,通过本发明实施例提供的上述制备方法,对由碳纳米管(CNT)和/或石墨烯(Graphene)材料构成的第一电极层11进行掺杂改性,在其结构内形成p-π共轭,提高了碳纳米管和/或石墨烯材料结构中的共轭度,降低了电子π-π*跃迁的能量,使电导率σ)增大,由于电导率的倒数为电阻率ρ,从而使得改性处理后的第二电极层12的电阻率显著降低,使其应用于像素电极、公共电极、触控电极等电极结构时的方块电阻较小,满足显示器件对电极结构低电阻值的要求,有利于柔性显示器的进一步发展。
[0049] 在上述基础上,如图4所述,上述步骤S02具体可包括以下子步骤:
[0050] S21、参考图2所示,使第一电极层的上表面11a与氧化性材料溶液相接触;
[0051] S22、对接触有氧化性材料溶液的第一电极层11进行清洗、干燥,获得第二电极层12。
[0052] 这里,第一电极层的上表面11a即指第一电极层11远离基板10一侧的表面。
[0053] 以氧化性材料为HNO3为例,上述步骤S21具体可采用以下方式进行:
[0054] 将形成有第一电极层11的基板10浸入HNO3溶液中进行反应,反应条件可为室温、5~30min。由于第一电极层11是浸入HNO3溶液中的,故第一电极层11除靠近基板10的面上均接触有上述的氧化性材料溶液,即HNO3溶液;
[0055] 取出表面浸渍有上述HNO3溶液的第一电极层11,采用去离子对其进行清洗,去除第一电极层11表面未反应的HNO3;之后,采用刀等装置对其进行干燥处理,获得第二电极层12。
[0056] 这里,风刀是指可通过一定的压缩空气,将物体表面的水分吹干的装置。
[0057] 或者,上述步骤S21也可采用以下方式进行:
[0058] 在第一电极层11的表面喷淋氧化性材料溶液,即HNO3溶液,反应条件同样可为室温、5~30min。由于此种方式是采用喷淋的工艺,故仅有上述第一电极层的上表面11a与HNO3溶液相接触;
[0059] 采用去离子水对第一电极层的上表面11a进行清洗,去除未反应的HNO3;之后,采用风刀等装置对其进行干燥处理,获得第二电极层12。
[0060] 由于第二电极层12经过上述的掺杂改性的处理,其稳定性较差。而上述的柔性电极层01应用于显示器件中的电极结构后,在后续制备显示器件中的其他结构时,会涉及到使用酸性、性的溶剂处理的工艺;并且,形成的第二电极层12有可能会暴露在高温、高湿、紫外线照射等工艺条件下。
[0061] 因此,为了使上述的柔性电极层01具有更可靠的稳定性,满足显示器件对电极结构信赖性的要求。进一步优选的,如图5所示,在上述步骤S02之后,该制备方法还包括:
[0062] S03、在形成的第二电极层的上表面12a上形成透明导电保护层13。
[0063] 这里,第二电极层的上表面12a是指第二电极层12远离第一电极层11一侧的表面。
[0064] 透明导电保护层13是由透明、且导电的材料构成的,可在对第二电极层12的上表面12a进行保护的同时,不影响上述柔性电极层01作为显示器件中的电极结构时对透过率和导电性的要求。
[0065] 进一步的,如图6所述,上述步骤S03具体可包括以下子步骤:
[0066] S31、如图7所示,在形成的第二电极层的上表面12a上形成由透明导电聚合物溶液构成的导电聚合物溶液膜130;
[0067] S32、如图8所示,固化导电聚合物溶液膜130(图中未标示出),形成透明导电保护层13。
[0068] 其中,上述步骤S31例如可以采用涂布、喷涂、挂膜的方式在第二电极层的上表面12a上形成上述的导电聚合物溶液膜;之后,可通过干燥处理固化导电聚合物溶液膜,形成透明导电保护层13。
[0069] 这里,上述的透明导电聚合物溶液的溶质可包括导电聚合物,溶剂可包括室温离子液体。
[0070] 需要说明的是,“室温”,也称为常温或者一般温度,通常来说,室温有3种范围的定义,即:(1)、23℃±2℃;(2)、25℃±5℃;(3)、20℃±5℃。
[0071] 离子液体是指全部由离子组成的液体,如高温下的KCI(氯化)、KOH(氢氧化钾)呈液体状态,此时它们就是离子液体。在室温或室温附近温度下呈液态的由离子构成的物质,称为室温离子液体。选择室温离子液体作为溶剂,可使上述的导电聚合物溶液的成膜在室温条件下进行,不需要通过额外的高温或低温反应条件。
[0072] 这里,导电聚合物可以由聚乙炔、聚噻吩、聚吡咯、聚苯胺、聚苯撑、聚苯撑乙炔、聚双炔中的至少一种材料构成;
[0073] 相应的,室温离子液体可以由1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐(简称[EMIM]PF6)、1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐(简称[BMIM]PF6)、1-辛基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐(简称[OMIM]PF6)、1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐(简称[EMIM]BF6)、1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲基磺酸盐(简称[BMIM]CF3S03)、氯化1-丁基-3-甲基咪唑盐(简称[BMIM]Cl)中的至少一种材料构成。
[0074] 进一步的,为了提高上述柔性电极层01的电导率,从而降低其电阻率,上述的透明导电聚合物溶液的溶质还包括:零维纳米导电材料和/或一维纳米导电材料。
[0075] 这里,“零维”是指三维空间中的点,“零维纳米导电材料”是指导电材料的几何尺寸在纳米尺度范围内且为颗粒状,例如为纳米球;“一维”是指三维空间中的线,“一维纳米导电材料”是指导电材料在横向上的几何尺寸被限制在100nm以下,例如为纳米线和/或纳米棒
[0076] 由于零维纳米导电材料和/或一维纳米导电材料尺寸较小,因此有利于在上述室温离子液体中的分散;同时,不会使得形成后的透明导电保护层13的厚度过大,影响上述柔性电极层01的整体厚度。
[0077] 零维纳米导电材料和/或一维纳米导电材料可以由金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、铝(Al)、镍(Ni)、锡(Sn)中的至少一种材料构成,例如为纳米金球、纳米银线等。
[0078] 在上述基础上,本发明实施例还提供了一种柔性电极层01,该柔性电极层01采用上述的制备方法获得。
[0079] 即,参考图3所示,上述柔性电极层01包括基板10,还包括位于基板10上经掺杂改性处理后获得的第二电极层12;其中,该第二电极层12由碳纳米管(CNT)和/或石墨烯(Graphene)材料构成。
[0080] 进一步的,为了提高经掺杂改性处理后获得的第二电极层12性能的稳定性,参考图8所示,上述的柔性电极层01还包括位于第二电极层的上表面12a的透明导电保护层13。
[0081] 并且,为了进一步提高上述柔性电极层01的电导率,从而降低其电阻率,透明导电保护层13中还包括:零维纳米导电材料和/或一维纳米导电材料。
[0082] 零维纳米导电材料和/或一维纳米导电材料可以由金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、铝(Al)、镍(Ni)、锡(Sn)中的至少一种材料构成,例如为纳米金球、纳米银线等。
[0083] 在上述基础上、本发明实施例还提供了一种显示基板的制备方法,该制备方法包括:
[0084] 对采用上述制备方法获得的柔性电极层01进行构图工艺的处理,获得图案化的显示用电极;其中,显示用电极包括:像素电极、公共电极、触控驱动电极、触控感应电极中的至少一种。
[0085] 即,对柔性电极层01进行构图工艺的处理后获得的图案与需要形成的电极结构,如像素电极、公共电极、触控驱动电极、触控感应电极的图案相对应。
[0086] 这里,典型的构图工艺是指应用一次掩模板,通过光刻胶曝光、显影、刻蚀、去除光刻胶的工艺。
[0087] 需要说明的是,参考图5所示,上述构图工艺的处理可以在步骤S01与步骤S02之间进行,即对第一电极层11进行构图工艺的处理,获得相应的图案,之后形成的第二电极层12以及透明导电保护层13即具有相同的图案;
[0088] 或者,上述构图工艺的处理也可以在步骤S02与步骤S03之间进行,即对形成后的第二电极层12进行构图工艺的处理,获得相应的图案,之后形成的透明导电保护层13即具有相同的图案;
[0089] 再或者,上述构图工艺的处理还可以在步骤S03之后进行,即对透明导电保护层13及其下方的第二电极层12进行构图工艺的处理,获得相应的图案。
[0090] 在上述基础上,对柔性电极层01进行构图工艺的处理,获得图案化的显示用电极,具体包括:
[0091] 采用激光烧蚀,对柔性电极层01进行构图工艺的处理,获得图案化的显示用电极。
[0092] 这里,由于第二电极层12由碳纳米管(CNT)和/或石墨烯(Graphene)材料构成,透明导电保护层13由有机材料构成,因此优选地采用激光烧蚀的方式对柔性电极层01进行构图工艺的处理,激光烧蚀后的主要产物为二氧化碳(CO2),可直接挥发,不需要通过干法刻蚀或湿法刻蚀去除,以简化制备工艺。
[0093] 示例的,以对采用上述制备方法获得的柔性电极层01进行构图工艺的处理,获得图案化的显示用电极为像素电极为例,上述的显示基板的具体制备过程可以为:
[0094] S41、通过一次构图工艺在由柔性材料(如聚酯膜)构成的基板上形成包括有栅极、与栅极相连的栅线的图案、以及公共电极的图案;
[0095] S42、依次沉积栅绝缘层和有源层,通过一次构图工艺形成有源层的图案;
[0096] S43、在形成的有源层上形成包括有源极、漏极、以及与源极相连的数据线的图案;
[0097] S44、在包括有源极、漏极、以及与源极相连的数据线的图案上形成钝化层,并通过构图工艺在钝化层上形成露出漏极的过孔;
[0098] S45、在钝化层上形成像素电极的图案;像素电极通过上述的过孔与漏极相连。
[0099] 其中,在上述步骤S45中,在钝化层上形成像素电极的具体过程可通过图4所示的步骤S01~S02,或者,通过图5所示的步骤S01~S03获得,并对形成的柔性电极层01进行构图工艺的处理后以获得与像素电极相对应的图案。
[0100] 即,上述的显示基板为显示装置中的阵列基板。当然,上述的显示基板也可为具有公共电极的彩膜基板;其中,形成公共电极的具体过程可通过图4所示的步骤S01~S02,或者,通过图5所示的步骤S01~S03获得,并对形成的柔性电极层01进行构图工艺的处理后以获得与公共电极相对应的图案,具体过程不再赘述。
[0101] 在上述基础上,本发明实施例还提供了一种显示基板,该显示基板采用上述的制备方法获得。
[0102] 进一步的,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括上述的显示基板。
[0103] 这里,上述的显示装置可以包括但不限于OLED显示器(Organic Light-Emitting Display,有机电致发光显示器)、电子纸、手机、平板电脑、数码相框、等具有任何显示功能的产品或者部件。
[0104] 需要说明的是,本发明所有附图是上述的柔性电极层01以及包括有该柔性电极层的显示基板的简略的示意图,只为清楚描述本方案体现了与发明点相关的结构,对于其他的与发明点无关的结构是现有结构,在附图中并未体现或只体现部分。
[0105] 以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
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