平版印刷版原版
阅读：533发布：2020-06-01
专利汇可以提供平版印刷版原版专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 提供一种感热性的平版印刷版原版，该平版印刷版原版是在 铝 板上形成 阳极 氧 化 被膜而成的平版印刷版用的 支撑 体上，设置通过红外线激光曝光可写入的记录层，从而形成的平版印刷版原版，在设置该记录层之后的该阳极氧化被膜的剖切面中，通过 俄歇 电子 分光分析， 碳 和铝的 原子 数比(C/Al)在1.0以下。该原版作为机上显影型使用时具有良好的机上显影性、感光度高、耐印性好，印刷时不易起脏，且耐背面蹭脏性(粘到油墨性)良好，当作为现有的热正片型和热负片型使用时，在形成图像中可高效率地利用热，感光度高、显示高耐印性，非图像部分不易起脏。，下面是平版印刷版原版专利的具体信息内容。
1、一种平版印刷用原版，其特征在于：在铝板上形成阳极氧化被膜的 平版印刷版用支撑体上，设置通过红外线激光曝光可写入的记录层而形成的平 版印刷版原版，其中在设置该记录层后的该阳极氧化被膜的剖切面中，由下式 (1)表示的碳与铝的原子数比在1.0以下：
C/Al＝(IC/SC)/(Ia1/Sa1)
IC：碳(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度
Ia1：铝(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度
SC：碳(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数
Sa1：铝(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数。
2、一种根据权利要求1所述的平版印刷版原版，其特征在于：在设置前 述记录层之前的阳极氧化被膜的孔隙率为20～70％，并且露出该阳极氧化被膜 的表面的微孔的直径在15nm以下。
3、一种根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版，其特征在于：在铝 板上设置阳极氧化被膜而形成的铝支撑体上依次具有由平均粒径为8～800nm的 亲水性粒子构成的粒子层、及通过红外线激光曝光可写入的记录层。
4、一种根据权利要求1或2或3所述的平版印刷版原版，其特征在于：前 述记录层是含有
(a)具有热反应性官能团的微粒子聚合物，或
(b)内部包含具有热反应性官能团的化合物的微胶囊 的感热层。
5、一种平版印刷版原版的制造方法，其特征在于：其中将铝板上设置阳 极氧化被膜而形成的铝支撑体浸泡在含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的 液体中，并在该铝支撑体上设置粒子层，再将通过红外线激光曝光可写入的记 录层设置在该粒子层上，从而得到平版印刷版原版。
6、一种平版印刷版原版的制造方法，其特征在于：其中在铝板上设置阳 极氧化被膜而形成的铝支撑体上涂敷含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的 液体，并在该铝支撑体上设置粒子层，再将通过红外线激光曝光可写入的记录 层设置在该粒子层上，从而得到平版印刷版原版。
7、一种根据权利要求5或6所述的平版印刷版原版的制造方法，其特征在 于：其中在设置粒子层之后、设置记录层之前进行亲水化处理。
8、一种根据权利要求5或6或7所述的平版印刷版原版的制造方法，其特征 在于：其中前述亲水性粒子的热传导率在60W/(m·K)以下。
9、一种通过权利要求5或6或7或8所述的平版印刷版原版的制造方法而得 到的平版印刷版原版。
10、一种平版印刷版的制版和印刷方法，其中将权利要求1或2或3或4或9 中所述的平版印刷版原版通过激光进行图像曝光后，直接安装在印刷机上进行 印刷，或者在安装到印刷机上之后用激光进行图像曝光，再直接印刷。
技术领域
本发明涉及一种平版印刷版所采用的支撑体及平版印刷版原版，更详细地 说，本发明涉及一种适用于无需显影的计算机直接制版(computer to plate) 系统的感热型平版印刷版原版，即，可根据数字信号通过红外线扫描曝光进行 图像记录，曝光后，无需经过使用显影液等原有的显影工序，即可装入现有的 印刷机进行印刷的感热型平版印刷版原版及其采用的平版印刷版支撑体。
背景技术
对于近年来发展显著的计算机直接制版系统所采用的平版印刷版原版，已 经进行了很多研究。其中，为了进一步解决工程合理化和废液处理问题，对曝 光后装入现有的印刷机即可进行印刷的平版印刷版原版进行了很多研究，并提 出了各种提案。
一项有前景的技术提出一种感热型平版印刷版原版，它以使疏水性的热可 塑性聚合物粒子分散在亲水性粘合剂聚合物中而形成的亲水层作为成像感热 层。该平版印刷版原版利用一旦加热该感热层，疏水性的热可塑性聚合物粒子 会融化，从而使亲水性的感热层表面转变为亲油性的图像部的原理。
作为减少处理工序的一个办法，将这样的利用疏水性热可塑性的聚合物粒 子的热融化的平版印刷版原版装入曝光后的平版印刷版原版无需用显影液处理 的印刷机的滚筒上，在驱动滚筒旋转的同时，通过供给油墨和/或润版药水，可 除去平版印刷版原版中的非图像部分，这是一种被称为机上显影的方法。该方 法是在平版印刷版原版曝光之后，将其装入现有的印刷机中，在通常的印刷工 序过程中完成显影处理的。
适用于上述机上显影的平版印刷版原版要具有可溶于润版药水和油墨溶 剂中的感热层，而且必须要有明室处理性，即适于在置于明室中的印刷机上被 显影的特性。
例如，日本专利特许公报第2938397号的说明书中记载了一种平版印刷版 原版，它是在亲水性支撑体上设置一层将热可塑性疏水性聚合物的微粒分散在 亲水性的粘合剂聚合物中而形成的感热层。该专利说明书中记载了将前述平版 印刷版原版在红外线激光下曝光后，热可塑性的疏水性聚合物的微粒在热的作 用下结合，形成图像之后，将印刷版安装在印刷机的滚筒上，供给油墨和/或润 版药水即可实现机上显影。
而日本专利公开公报平9-127683号及PCT公报第99/10186号册子中也记 载了，热可塑性微粒在热的作用下结合之后，通过机上显影可制成平版印刷版。
但是，虽然这样的通过热使微粒结合而形成图像的平版印刷版原版表现出 良好的机上显影的特性，但还存在由于热散到金属支撑体上，造成的感光度降 低的问题以及当微粒的结合不充分时，感热层的图像部的强度变弱，造成耐印 性不够等问题。
作为对策，提出了在铝支撑体和感热层之间设置不溶于水的有机聚合物的 方法(例如，日本专利公开公报2000-23983号)，虽然感光度提高了，但是却 存在污渍的问题。
由此，存在于感热层中的红外线吸收剂发挥其光热转换作用，通过曝光而 发热，感热层的曝光部分通过该热而变为可溶于碱，从而形成正像的所谓感热 型正片型的平版印刷版原版以及自由基发生剂和酸发生剂通过该热生成自由基 和酸，并形成自由基聚合反应和酸交联反应，因而无法溶解，从而形成负像型 图像的感热型负片型平版印刷版原版等的不进行机上显影的原有的感热型平版 印刷版原版都具有下述缺点。
即，上述这样的感热型成像是通过激光照射，光热转换物质在感热层中产 生热，由该热引起成像反应的，但是由于在表面粗化而形成阳极氧化膜的铝支 撑体中，支撑体的热传导率比感热层要高得多，因此在感热层和支撑体之间的 界面附近产生的热不能供成像充分使用地向支撑体内部扩散，其结果将会在感 热层的支撑体界面上引起如下所述的现象。
首先，正片型的感热层中，如果热向支撑体的内部扩散，则可溶于碱的反 应会反应不充分，从而在原本的非图像部分上产生残留膜，形成低感光度的问 题，这是正片型感热层的本质问题。
而且，这样的感热型正片型平版印刷版原版必须含有具有光热转换功能的 红外线吸收剂，但是由于吸收剂的分子量比较大，因此溶解性也就比较低，而 且，吸收剂都吸附在由阳极氧化而形成的微小开口部处，因此难以去除，在用 碱性显影液显影的工序中，存在着容易产生残留膜的问题。
另一方面，在负片型的感热层中，如果热向支撑体内部扩散，则感热层的 支撑体界面附近处的感热层的显影液的固定化将会变得不充分，因此应该形成 原本的图像部的部分处不能完全形成图像，造成要么显影时还会流动，要么即 使能形成图像的样貌，印刷时图像也很容易剥离的问题。
要解决上述问题，从抑制感热层中产生的热向铝支撑体扩散的角度出发， 进行了扩大阳极氧化膜的微孔的尝试。
但是，扩大阳极氧化膜的微孔的方法提高了感光度和耐印性，然而耐污渍 性却劣化了。而且，当设置机上显影型的感热层时，机上显影性也劣化了。
随后，从同样的观点出发，通过在铝板上设置阳极氧化膜形成铝支撑体， 并将该铝支撑体浸入热水和无机盐或者含有有机盐的热水溶液中的方法、以及 暴露在水蒸气浴中的方法等，进行了封闭微孔的尝试。
但是，封闭微孔的方法虽然提高了耐污渍性，但是感光度和耐印性却劣化 了。而且，无论上述哪种尝试都不能达到完全满意的水平。
对此，本发明人在日本专利申请公开公报2001-9871号的说明书中，提出 了一种平版印刷版原版，该印刷版原版在铝板上设置阳极氧化膜而制成的铝支 撑体上按下述顺序依次设有由平均粒径为8～800nm的粒子构成的粒子层、以及 可通过红外线激光曝光而写入的记录层。而且，在前述说明书中提出了通过采 用含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的电解液来电解处理前述铝支撑体， 从而在前述铝支撑体上设置前述粒子层的方法。采用该方法，既可在位于阳极 氧化膜上的微孔内部留出孔隙，堵住其开口，得到高感光度、耐印性优良的平 版印刷版原版，而且还可提高耐污渍性。
但是，所说的提高了耐污渍性并不是说已经达到最理想的程度。
一项有前景的技术提出一种感热型平版印刷版原版，它以使疏水性的热可 塑性聚合物粒子分散在亲水性粘合剂聚合物中而形成的亲水层作为成像感热 层。该平版印刷版原版利用一旦加热该感热层，疏水性的热可塑性聚合物粒子 会融化，从而使亲水性的感热层表面转变为亲油性的图像部的原理。
作为减少处理工序的一个办法，将这样的利用疏水性热可塑性的聚合物粒 子的热融化的平版印刷版原版装入曝光后的平版印刷版原版无需用显影液处理 的印刷机的滚筒上，在驱动滚筒旋转的同时，通过供给油墨和/或润版药水，可 除去平版印刷版原版中的非图像部分，这是一种被称为机上显影的方法。该方 法是在平版印刷版原版曝光之后，将其装入现有的印刷机中，在通常的印刷工 序过程中完成显影处理的。
适用于上述机上显影的平版印刷版原版要具有可溶于润版药水和油墨溶 剂中的感热层，而且必须要有明室处理性，即适于在置于明室中的印刷机上被 显影的特性。
例如，日本专利特许公报第2938397号的说明书中记载了一种平版印刷版 原版，它是在亲水性支撑体上设置一层将热可塑性疏水性聚合物的微粒分散在 亲水性的粘合剂聚合物中而形成的感热层。该专利说明书中记载了将前述平版 印刷版原版在红外线激光下曝光后，热可塑性的疏水性聚合物的微粒在热的作 用下结合，形成图像之后，将印刷版安装在印刷机的滚筒上，供给油墨和/或润 版药水即可实现机上显影。
而日本专利公开公报平9-127683号及PCT公报第99/10186号册子中也记 载了，热可塑性微粒在热的作用下结合之后，通过机上显影可制成平版印刷版。
但是，虽然这样的通过热使微粒结合而形成图像的平版印刷版原版表现出 良好的机上显影的特性，但还存在由于热散到金属支撑体上，造成的感光度降 低的问题以及当微粒的结合不充分时，感热层的图像部的强度变弱，造成耐印 性不够等问题。
作为对策，提出了在铝支撑体和感热层之间设置不溶于水的有机聚合物的 方法(例如，日本专利公开公报2000-23983号)，虽然感光度提高了，但是却 存在污渍的问题。
由此，存在于感热层中的红外线吸收剂发挥其光热转换作用，通过曝光而 发热，感热层的曝光部分通过该热而变为可溶于碱，从而形成正像的所谓感热 型正片型的平版印刷版原版以及自由基发生剂和酸发生剂通过该热生成自由基 和酸，并形成自由基聚合反应和酸交联反应，因而无法溶解，从而形成负像型 图像的感热型负片型平版印刷版原版等的不进行机上显影的原有的感热型平版 印刷版原版都具有下述缺点。
即，上述这样的感热型成像是通过激光照射，光热转换物质在感热层中产 生热，由该热引起成像反应的，但是由于在表面粗化而形成阳极氧化膜的铝支 撑体中，支撑体的热传导率比感热层要高得多，因此在感热层和支撑体之间的 界面附近产生的热不能供成像充分使用地向支撑体内部扩散，其结果将会在感 热层的支撑体界面上引起如下所述的现象。
首先，正片型的感热层中，如果热向支撑体的内部扩散，则可溶于碱的反 应会反应不充分，从而在原本的非图像部分上产生残留膜，形成低感光度的问 题，这是正片型感热层的本质问题。
而且，这样的感热型正片型平版印刷版原版必须含有具有光热转换功能的 红外线吸收剂，但是由于吸收剂的分子量比较大，因此溶解性也就比较低，而 且，吸收剂都吸附在由阳极氧化而形成的微小开口部处，因此难以去除，在用 碱性显影液显影的工序中，存在着容易产生残留膜的问题。
另一方面，在负片型的感热层中，如果热向支撑体内部扩散，则感热层的 支撑体界面附近处的感热层的显影液的固定化将会变得不充分，因此应该形成 原本的图像部的部分处不能完全形成图像，造成要么显影时还会流动，要么即 使能形成图像的样貌，印刷时图像也很容易剥离的问题。
要解决上述问题，从抑制感热层中产生的热向铝支撑体扩散的角度出发， 进行了扩大阳极氧化膜的微孔的尝试。
但是，扩大阳极氧化膜的微孔的方法提高了感光度和耐印性，然而耐污渍 性却劣化了。而且，当设置机上显影型的感热层时，机上显影性也劣化了。
随后，从同样的观点出发，通过在铝板上设置阳极氧化膜形成铝支撑体， 并将该铝支撑体浸入热水和无机盐或者含有有机盐的热水溶液中的方法、以及 暴露在水蒸气浴中的方法等，进行了封闭微孔的尝试。
但是，封闭微孔的方法虽然提高了耐污渍性，但是感光度和耐印性却劣化 了。而且，无论上述哪种尝试都不能达到完全满意的水平。
对此，本发明人在日本专利申请公开公报2001-9871号的说明书中，提出 了一种平版印刷版原版，该印刷版原版在铝板上设置阳极氧化膜而制成的铝支 撑体上按下述顺序依次设有由平均粒径为8～800nm的粒子构成的粒子层、以及 可通过红外线激光曝光而写入的记录层。而且，在前述说明书中提出了通过采 用含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的电解液来电解处理前述铝支撑体， 从而在前述铝支撑体上设置前述粒子层的方法。采用该方法，既可在位于阳极 氧化膜上的微孔内部留出孔隙，堵住其开口，得到高感光度、耐印性优良的平 版印刷版原版，而且还可提高耐污渍性。
但是，所说的提高了耐污渍性并不是说已经达到最理想的程度。
发明内容
本发明的第一个目的是提供一种克服了上述现有技术的缺点的感热型平 版印刷版原版以及适用于该原版的平版印刷版所用的支撑体。即本发明的第一 目的在于提供一种感热型的平版印刷版原版及适用于该原版的平版印刷版所用 的支撑体，当用作机上显影型时，它具有良好的机上显影性能，感光度高，表 现出高耐印性，并且印刷时的难以形成污渍和背面蹭脏(粘到油墨性)良好， 当用作现有的感热型正片型及感热型负片型时，它在成像过程中可高效利用热 量，感光度高，表现出高耐印性，并且非图像部分很难形成污渍。
另外，本发明的第二个目的是提供一种平版印刷版原版的制造方法，它在 成像过程中可高效利用热量，感光度高、耐印性好，并且耐形成污渍性优良。
〖为了解决课题的手段〗
本发明人为了达到上述第一目的，经过研究发现，在阳极氧化被膜上设置 有通过红外线激光曝光可写入的记录层的平版印刷版原版中，记录层的成分侵 入阳极氧化被膜的微孔中，由于该记录层成分比阳极氧化被膜的孔隙部(微孔) 的热传导率高，因此设置记录层后的阳极氧化被膜的热传导率增高，会产生上 述问题。本发明人根据上述发现，进一步研究，发现如果阳极氧化被膜中的碳 成分和铝成分的比在特定值以下，就会得到平版印版的耐印性、感光度和耐起 脏性都较好的平版印刷版原版，并由此完成本发明的第一方案。
即，本发明提供一种在铝板上形成阳极氧化被膜而构成的平版印版用支撑 体上，设置通过红外线激光曝光可写入的记录层而形成的平版印刷版原版，设 置该记录层后的该阳极氧化被膜的剖切面中，由下式(1)表示的碳与铝的原子 数比(C/Al)在1.0以下：
C/Al＝(IC/SC)/(Ia1/Sa1)
IC：碳(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度
Ia1：铝(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度
SC：碳(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数
Sa1：铝(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数
设置前述记录层之前的前述阳极氧化被膜的孔隙率最好为20～70％。
设置前述记录层之前的阳极氧化被膜的孔隙率为20～70％，且露出该阳极氧 化被膜的表面的微孔的直径最好在15nm以下。
在铝支撑体表面通过形成所定孔隙率的阳极氧化被膜，可在该阳极氧化被 膜内部形成带有多个孔隙部分的隔热层，降低感热层支撑体界面的热传导性， 提高感光度和耐印性。
而且，通过将露出阳极氧化被膜表面的微孔的直径(下面称为“表面孔径”) 控制在特定的数值之下，可维持提高感光度和耐印性的效果，且不会降低机上 显影性和耐背面蹭脏性的效果。这样可以有效地防止由于记录层中的染料、粘 合剂等的亲油成分引起的残膜等问题，并且由于提高了亲水性，因此耐起脏性 也较好。
为了获得所定的阳极氧化被膜的孔隙率和表面孔径，例如可以举出用酸或 碱处理阳极氧化被膜表面的方法。也可以与封孔处理相组合。
前述记录层最好是含有
(a)具有热反应性官能基的微粒子聚合物，或
(b)内部包含具有热反应性官能基的化合物的微胶囊 的感热层。
本发明人为了解决上述第二目的，研究的结果是在日本专利申请2001-9871 号说明书中提出，在铝板上设置阳极氧化被膜而形成的铝支撑体上依次设置由 平均粒径为8～800nm的粒子构成的粒子层、及通过红外线激光曝光可写入的记 录层，在这样的平版印刷版原版中，通过浸泡或涂敷形成粒子层，可更加抑制 非图像部分产生起脏现象，从而完成了本发明的第二方案。
即，本发明提供一种平版印刷版原版的制造方法，将铝板上设有阳极氧化 被膜而形成的铝支撑体浸泡在含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的液体 中，在该铝支撑体上形成粒子层，并将通过红外线激光曝光可写入的记录层设 置在该粒子层上，从而得到平版印刷版原版。本发明还提供一种平版印刷版原 版，在铝板上设有阳极氧化被膜而形成的铝支撑体上依次设置由平均粒径为8～ 800nm的粒子构成的粒子层、及通过红外线激光曝光可写入的记录层，从而按照 前述制造方法得到的平版印刷版原版。
本发明提供一种平版印刷版原版的制造方法，在铝板上设有阳极氧化被膜 而形成的铝支撑体上涂敷含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的液体，在该 铝支撑体上形成粒子层，并将通过红外线激光曝光可写入的记录层设置在该粒 子层上，从而得到平版印刷版原版。本发明还提供一种平版印刷版原版，在铝 板上设有阳极氧化被膜而形成的铝支撑体上依次设置由平均粒径为8～800nm的 粒子构成的粒子层、及通过红外线激光曝光可写入的记录层，从而按照前述制 造方法得到的平版印刷版原版。
上述平版印刷版原版的制造方法中，在设置粒子层之后、形成感热层之前 最好进行亲水化处理。
前述亲水性粒子的热传导率最好在60W/(m·K)以下。
本发明还提供一种按照上述本发明的第二方案的平版印刷版原版的制造 方法得到的本发明第一方案的平版印刷版原版。
图4是按照本发明的第二方案得到的平版印刷版原版的剖切面模式图。如 图4所示，按照本发明的第二方案得到的平版印刷版原版1在铝板2上设有阳极氧 化被膜3而构成的铝支撑体4上，依次具有由平均粒径为8～800nm的亲水性粒子 构成的粒子层5、及所定的的感热层6。阳极氧化被膜3上的微孔7被粒子层5堵塞 住了，但是内部仍有孔隙。现行的封孔处理中，阳极氧化被膜上的微孔被一水 软铝石等填充住了，几乎没有孔隙，这与本发明的微孔内部有孔隙这一点相差 很大。
按照本发明获得的平版印刷版原版通过采用上述结构，由于可同时具有粒 子层带来的隔热效果和微孔的孔隙带来的隔热效果，因此可充分抑制从感热层 向铝支撑体的热扩散，更高效率地利用热形成图像。
由此，通过浸泡或涂敷形成粒子层可获得特别是耐起脏性良好的平版印刷 版原版。
而且，根据本发明，可完成感光度高、耐印性好且非图像部分更难以起脏 的平版印刷版原版。
进而，本发明提供了一种平版印版的制版和印刷方法，可将上述本发明的 平版印刷版原版通过激光进行图像曝光后，安装在印刷机上进行印刷，或者在 安装到印刷机上之后用激光进行图像曝光，再进行印刷。
附图说明
图1是对于平版印刷版原版的阳极氧化被膜的剖切面进行俄歇电子分光分 析得到的图表的一个例子。
图2是表示适用于本发明的采用交流电的电化学的表面粗化处理中所用的 梯形波的一个例子的波形图。
图3是表示适用于本发明的电化学的表面粗化处理中的径向型电解槽的一 个例子的侧面图。
图4是按照本发明第二方案得到的平版印刷版原版的剖面示意图。
图5是按照本发明第二方案得到的平版印刷版原版的一个例子的剖面的电 子显微镜照片。
【符号的说明】
1 平版印刷版原版
2 铝板
3 阳极氧化被膜
4 铝支撑体
5 粒子层
6 感热层
7 微孔
8 非图像部分的表面
11 铝板
12 径向滚筒
13a、13b 主极
14 酸性水溶液
15 溶液供给口
16 窄缝
17 溶液通路
18 辅助阳极
19a、19b 晶体闸流管
20 交流电源
21 主电解槽
22 辅助阳极槽
另外，本发明的第二个目的是提供一种平版印刷版原版的制造方法，它在 成像过程中可高效利用热量，感光度高、耐印性好，并且耐形成污渍性优良。
〖为了解决课题的手段〗
本发明人为了达到上述第一目的，经过研究发现，在阳极氧化被膜上设置 有通过红外线激光曝光可写入的记录层的平版印刷版原版中，记录层的成分侵 入阳极氧化被膜的微孔中，由于该记录层成分比阳极氧化被膜的孔隙部(微孔) 的热传导率高，因此设置记录层后的阳极氧化被膜的热传导率增高，会产生上 述问题。本发明人根据上述发现，进一步研究，发现如果阳极氧化被膜中的碳 成分和铝成分的比在特定值以下，就会得到平版印版的耐印性、感光度和耐起 脏性都较好的平版印刷版原版，并由此完成本发明的第一方案。
即，本发明提供一种在铝板上形成阳极氧化被膜而构成的平版印版用支撑 体上，设置通过红外线激光曝光可写入的记录层而形成的平版印刷版原版，设 置该记录层后的该阳极氧化被膜的剖切面中，由下式(1)表示的碳与铝的原子 数比(C/Al)在1.0以下：
C/Al＝(IC/SC)/(Ia1/Sa1)
IC：碳(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度
Ia1：铝(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度
SC：碳(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数
Sa1：铝(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数
设置前述记录层之前的前述阳极氧化被膜的孔隙率最好为20～70％。
设置前述记录层之前的阳极氧化被膜的孔隙率为20～70％，且露出该阳极氧 化被膜的表面的微孔的直径最好在15nm以下。
在铝支撑体表面通过形成所定孔隙率的阳极氧化被膜，可在该阳极氧化被 膜内部形成带有多个孔隙部分的隔热层，降低感热层支撑体界面的热传导性， 提高感光度和耐印性。
而且，通过将露出阳极氧化被膜表面的微孔的直径(下面称为“表面孔径”) 控制在特定的数值之下，可维持提高感光度和耐印性的效果，且不会降低机上 显影性和耐背面蹭脏性的效果。这样可以有效地防止由于记录层中的染料、粘 合剂等的亲油成分引起的残膜等问题，并且由于提高了亲水性，因此耐起脏性 也较好。
为了获得所定的阳极氧化被膜的孔隙率和表面孔径，例如可以举出用酸或 碱处理阳极氧化被膜表面的方法。也可以与封孔处理相组合。
前述记录层最好是含有
(a)具有热反应性官能基的微粒子聚合物，或
(b)内部包含具有热反应性官能基的化合物的微胶囊 的感热层。
本发明人为了解决上述第二目的，研究的结果是在日本专利申请2001-9871 号说明书中提出，在铝板上设置阳极氧化被膜而形成的铝支撑体上依次设置由 平均粒径为8～800nm的粒子构成的粒子层、及通过红外线激光曝光可写入的记 录层，在这样的平版印刷版原版中，通过浸泡或涂敷形成粒子层，可更加抑制 非图像部分产生起脏现象，从而完成了本发明的第二方案。
即，本发明提供一种平版印刷版原版的制造方法，将铝板上设有阳极氧化 被膜而形成的铝支撑体浸泡在含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的液体 中，在该铝支撑体上形成粒子层，并将通过红外线激光曝光可写入的记录层设 置在该粒子层上，从而得到平版印刷版原版。本发明还提供一种平版印刷版原 版，在铝板上设有阳极氧化被膜而形成的铝支撑体上依次设置由平均粒径为8～ 800nm的粒子构成的粒子层、及通过红外线激光曝光可写入的记录层，从而按照 前述制造方法得到的平版印刷版原版。
本发明提供一种平版印刷版原版的制造方法，在铝板上设有阳极氧化被膜 而形成的铝支撑体上涂敷含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的液体，在该 铝支撑体上形成粒子层，并将通过红外线激光曝光可写入的记录层设置在该粒 子层上，从而得到平版印刷版原版。本发明还提供一种平版印刷版原版，在铝 板上设有阳极氧化被膜而形成的铝支撑体上依次设置由平均粒径为8～800nm的 粒子构成的粒子层、及通过红外线激光曝光可写入的记录层，从而按照前述制 造方法得到的平版印刷版原版。
上述平版印刷版原版的制造方法中，在设置粒子层之后、形成感热层之前 最好进行亲水化处理。
前述亲水性粒子的热传导率最好在60W/(m·K)以下。
本发明还提供一种按照上述本发明的第二方案的平版印刷版原版的制造 方法得到的本发明第一方案的平版印刷版原版。
图4是按照本发明的第二方案得到的平版印刷版原版的剖切面模式图。如 图4所示，按照本发明的第二方案得到的平版印刷版原版1在铝板2上设有阳极氧 化被膜3而构成的铝支撑体4上，依次具有由平均粒径为8～800nm的亲水性粒子 构成的粒子层5、及所定的的感热层6。阳极氧化被膜3上的微孔7被粒子层5堵塞 住了，但是内部仍有孔隙。现行的封孔处理中，阳极氧化被膜上的微孔被一水 软铝石等填充住了，几乎没有孔隙，这与本发明的微孔内部有孔隙这一点相差 很大。
按照本发明获得的平版印刷版原版通过采用上述结构，由于可同时具有粒 子层带来的隔热效果和微孔的孔隙带来的隔热效果，因此可充分抑制从感热层 向铝支撑体的热扩散，更高效率地利用热形成图像。
由此，通过浸泡或涂敷形成粒子层可获得特别是耐起脏性良好的平版印刷 版原版。
而且，根据本发明，可完成感光度高、耐印性好且非图像部分更难以起脏 的平版印刷版原版。
进而，本发明提供了一种平版印版的制版和印刷方法，可将上述本发明的 平版印刷版原版通过激光进行图像曝光后，安装在印刷机上进行印刷，或者在 安装到印刷机上之后用激光进行图像曝光，再进行印刷。
附图说明
图1是对于平版印刷版原版的阳极氧化被膜的剖切面进行俄歇电子分光分 析得到的图表的一个例子。
图2是表示适用于本发明的采用交流电的电化学的表面粗化处理中所用的 梯形波的一个例子的波形图。
图3是表示适用于本发明的电化学的表面粗化处理中的径向型电解槽的一 个例子的侧面图。
图4是按照本发明第二方案得到的平版印刷版原版的剖面示意图。
图5是按照本发明第二方案得到的平版印刷版原版的一个例子的剖面的电 子显微镜照片。
【符号的说明】
1 平版印刷版原版
2 铝板
3 阳极氧化被膜
4 铝支撑体
5 粒子层
6 感热层
7 微孔
8 非图像部分的表面
11 铝板
12 径向滚筒
13a、13b 主极
14 酸性水溶液
15 溶液供给口
16 窄缝
17 溶液通路
18 辅助阳极
19a、19b 晶体闸流管
20 交流电源
21 主电解槽
22 辅助阳极槽
具体实施方式
<铝板(轧制铝)>
用作本发明的平版印刷版原版的铝板是由以外形尺寸稳定的铝为主要成 分的金属，即铝或铝合金制成的。除了纯铝板之外，还可以采用以铝为主要成 分的含有微量其它元素的合金板、层压铝或铝合金或蒸镀铝或铝合金而成的塑 料片或纸片。进而，还可以采用如日本专利申请公开昭48-18327号公报上记载 的那样，在聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜上结合铝薄层而成的复合为一体薄层。
本发明所采用的铝板没有特别的限定，但是采用纯铝板是最合适的。由于 完全纯粹的铝在炼制技术上是很难制造的，因此采用稍微带些其它元素的铝板 也是可以的。适当地采用例如铝手册第4版(轻金属协会(1990))上记载的公 知材料，具体地说，例如JIS A1050、JIS A1100、JIS A3005，国际登记合金3103A 等的铝合金板都是可以的。此外，也可以使用铝(Al)的含量为99.4～95wt％、 且在后述范围内含有铁(Fe)、硅(Si)、铜(Cu)、镁(Mg)、锰(Mn)、 锌(Zn)、铬(Cr)及钛(Ti)中的至少5种以上的铝合金、废铝材或者使用二 次生铁的铝板。
本发明中，为了降低成本，还可以使用Al的含量为95～99.4wt％的铝板。 当Al的含量超过99.4wt％时，由于杂质的允许量减少了，会导致成本上升。而当 Al的含量不满95wt％时，杂质的含量增多，会导致轧制中出现裂纹等问题。较好 的情况是Al的含量为95～99wt％，最好是在95～97wt％。
Fe的含量最好为0.1～1.0wt％。Fe是即使新生铁中也含有0.1～0.2wt％左右 的元素，在Al中固溶的量减少了，几乎都作为金属间化合物残存。Fe的含量如 果超过1.0wt％，就容易在轧制过程中产生裂纹，如果不满0.1wt％，则不能降低 成本。较好的情况是Fe的含量为0.3～1.0wt％。
Si的含量最好是0.03～1.0wt％。Si是JIS2000系列、4000系列、6000系列 材料的碎屑中含量较高的元素。而且Si是即使在新生铁中也含有0.03～0.1wt％ 左右的元素，它在Al中呈固溶的状态，或者作为金属间化合物存在。如果在支 撑体的制造过程中对铝板加热，固溶的Si变为单体Si析出。众所周知，单体Si与FeSi系的金属间化合物对耐苛刻的油墨污渍性有很坏的影响。在此，所谓“苛 刻的油墨污渍”是指印刷几次中断后再进行时，平板印刷版的非图像部分表面 上容易附着油墨，其结果印后的纸张等表面上出现点状或圆环状的污渍。一旦 Si的含量超过1.0wt％，例如，后述用硫酸处理(去斑处理)中可能无法完全除 去，但是如果不到0.15wt％，则会削弱降低成本的效果。最好Si的含量是0.05～ 1.0wt％。
Cu的含量较好是0.000～1.0wt％，最好是0.000～0.3wt％。Cu是在JIS2000 系列、4000系列的材料碎屑中含量较高的元素。Cu比较容易在Al中固溶。如果 Cu的含量超过1.0wt％，例如在后述的酸性腐蚀处理或去斑处理中可能无法完全 除去。此处，Cu的含量为0.000wt％，0.000数量级是无法检测出来的，含量为0wt％ 是表示无法表述的微量。下面，含量的下限值记为0.000wt％意味着同样的意思。
Mg的含量最好为0.000～1.5wt％。Mg是在JIS2000系列、3000系列、5000系 列、7000系列材料的碎屑中含量较多的元素。特别是can end材料中含量较多， 因此是碎屑材料中包含的主要的不纯金属之一。Mg也比较容易固溶在Al中，与 Si形成金属间化合物。一旦Mg的含量超过1.5wt％，例如在后述的硫酸处理中就 可能无法完全除去。
Mn的含量最好为0.000～1.5wt％。Mn是JIS3000系列材料的碎屑中含量较多 的元素。Mn特别是在can body材料中含量较多，因此是碎屑材料中包含的主要 的不纯金属之一。Mn比较容易固溶在Al中，与Al、Fe和Si形成金属间化合物。 一旦Mn的含量超过1.5wt％，例如在后述的硫酸处理中就可能无法完全除去。
Zn的含量最好为0.000～0.5wt％。Zn特别是JIS7000系列的碎屑中含量较多 的元素。Zn比较容易固溶在Al中。一旦Zn的含量超过0.5wt％，例如在后述的硫 酸处理中就可能无法完全除去。
Cr的含量最好为0.000～0.1wt％。Cr是JIS A5000系列、6000系列、7000系 列的碎屑中含量较少的不纯金属。一旦Cr的含量超过0.1wt％，例如在后述的硫 酸处理中就可能无法完全除去。
Ti的含量最好为0.003～0.5wt％。Ti是作为通常结晶微细化材料添加 0.01～0.04wt％的元素。在JIS5000系列、6000系列、7000系列的碎屑中作为不 纯金属含量较多。一旦Ti的含量超过0.5wt％，例如在后述的硫酸处理中就可能 无法完全除去。
本发明采用的铝板是用上述原材料通过通常方法铸造出来的，经过适当的 轧制处理和热处理，厚度为例如0.1～0.7mm，必要的话还可以进行平面性校正 处理。其厚度可根据印刷机的大小、印刷版的大小和用户的需要适当地变更。
另外，上述铝板的制造方法可以采用例如DC铸造法、从DC铸造法中省略均 热处理和/或烧钝处理的方法及连铸法。
本发明的平板印刷版原版所采用的铝支撑体是对上述铝板进行阳极氧化 处理得到的，但是其制造工序中也可以包含除阳极氧化处理以外的各种工序。
上述铝板最好经过除去附着的轧制油的脱脂工序、溶解铝板表面的斑点的 去斑处理工序、对铝板表面进行粗化的表面粗化处理、用氧化被膜覆盖铝板表 面的阳极氧化处理工序，形成支撑体。
本发明所采用的铝板支撑体的制造工序最好包含在酸性水溶液中采用交 流电，对铝板进行电化学粗化的表面粗化处理(电化学的表面粗化处理)。
而且，本发明采用的铝板支撑体的制造工序中最好还包含除上述电化学表 面粗化处理以外的组合机械粗化处理、在酸或碱水溶液中的化学腐蚀处理等的 铝板的表面处理工序。本发明采用的铝板支撑体的表面粗化处理等的制造工序 可以是连续法也可以是断续法，但是工序上最好采用连续法。
进而本发明中，如果必要的话，还可以进行酸处理或碱处理、用含有无机 氟化合物和硅酸化合物的水溶液进行的处理、封孔处理、亲水性表面处理。进 而，如果必要的话，也可以设置底涂层。
特别是，如后所述，可以将在铝板上设置阳极氧化被膜而成的铝支撑体浸 入含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的液体中，在该铝支撑体上形成粒子 层，或者也可以在该铝支撑体上涂敷含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的 液体，从而在该铝支撑体上形成粒子层。
<表面粗化处理(磨砂目处理)>
首先，说明表面粗化处理。
上述铝板为了具有更好的形状，要进行磨砂目处理。磨砂目处理的方法有 特开昭56-28893号公报记载的机械的磨砂目处理(机械的粗化处理)、化学腐 蚀、电解的表面粗化等。进而，还可以采用在盐酸电解液中或硝酸电解液中进 行电化学的磨砂目处理的电化学磨砂目处理法(电化学的粗化处理、电解粗化 处理)、用金属丝划擦铝表面的金属丝粗合法、用研磨球和研磨剂在铝表面形 成磨砂目的研磨球粗化法、用尼龙刷和研磨剂在表面形成磨砂目的刷粗化法等 的机械粗化法(机械的表面粗化处理)。这些磨砂目法可以单独或组合使用。 例如，可以采用尼龙刷和研磨剂的机械粗化处理和盐酸电解液或硝酸电解液的 电解粗化处理的组合、多次电解表面粗化处理的组合等。其中，电化学的表面 粗化处理较好。也可以组合机械的表面粗化处理和电化学的粗化处理，特别是 在进行机械的表面粗化处理之后再进行电化学的粗化处理是最好的。
机械的表面粗化处理是使用刷子等在铝板表面进行机械的粗化处理，最好 在电化学的粗化处理之前进行。
合适的机械表面粗化处理中，采用毛径为0.07～0.57mm的旋转尼龙刷辊和 供给铝板表面的研磨剂的浆液进行处理。
尼龙刷的吸水性越低越好，例如，东社制造的尼龙猪鬃刷200T(6，10-尼 龙，软化点：180℃、熔点：212～214℃、比重：1.08～1.09、含水量：20℃·相 对湿度65％的情况下为1.4～1.8、在20℃·相对湿度100％的情况下为2.2～2.8、 干燥的拉伸强度：4.5～6g/d、干燥的拉伸度：20～35％、沸腾水的收缩率：1～ 4％、干燥的抗拉伸度：39～45g/d、杨氏模量(干燥)：380～440kg/mm2)。
作为研磨剂，可以采用公知的产品，但是最好采用特开平6-135175号公报 和特公昭50-40047号公报中记载的硅砂、石英、氢氧化铝或这些的混合物。
作为浆液，其比重最好在1.05～1.3的范围内。作为将浆液供给铝板表面 的方法，可以采用例如喷涂浆液的方法、用金属丝刷的方法、将带凹凸的轧制 辊的表面形状转印到铝板上的方法等。也可以采用特开昭55-074898号公报、 61-162351号公报、63-104889号公报中记载的方法。进而，如特表平9-509108 号公报中记载的那样，可以采用由氧化铝和石英构成的粒子的混合物在95∶5～ 5∶95的重量比范围内形成的水性浆液在铝板表面刷的研磨方法。此时的上述混 合物的平均粒径为1～40μm，最好是在10～30μm的范围内。
电化学的粗化处理是在酸性水溶液中，以铝板作为电极通入交流电，对该 铝板的表面进行电化学的表面粗化处理，与上述的机械表面粗化处理不同。如 果采用电化学的表面粗化处理，由于很容易在表面上形成细微的凹凸，因此可 适当地提高感热层和支撑体之间的密着性。
本发明中，上述电化学的表面粗化处理中，铝板作为阴极时的电量，即阴 极时电量Qc与铝板作为阳极时的电量，即阳极时电量QA的比Qc/QA在例如0.5～ 2.0的范围内，因此可在铝板的表面上生成均一的蜂窝状坑。如果Qc/QA不满0.5， 则容易生成不均一的蜂窝状坑，但是超过2.0，也容易生成不均一的蜂窝状坑。 Qc/QA最好在0.8～1.5的范围内。
作为电化学的表面粗化处理中采用的交流电的波形，可以采用正弦波(sin 波)、矩形波、三角波、梯形波等。其中最好采用矩形波或梯形波。而交流电 的频率从电源装置的制作成本的角度出发，较好是30～200Hz，最好是40～ 120Hz。
本发明适用的梯形波的一个例子如图2所示。图2中，纵轴表示电流值，横 轴表示时间。Ta表示阳极的反应时间，tc表示阴极的反应时间，tp表示电流值 从0到阴极周波侧的峰值为止的时间，tp’表示电流值从0到阳极周波侧的峰值 为止的时间，Ia表示阳极周波侧的峰值时的电流，Ic表示阴极周波侧的峰值时 的电流。当交流电的波形采用梯形波时，电流从0到达峰值的时间tp和tp’较好 地分别在0.1～2msec的范围内，最好在0.3～1.5msec的范围内。Tp和tp’如果 不满0.1msec，则会影响电源回路中的阻抗，电流波形上升时必须要有大的电源 电压，会提高电源设备的成本。而如果tp和tp’超过2msec，则会增大对酸性水 溶液中微量成分的影响，导致难以进行均一的表面粗化处理。
从铝板表面均一粗化的角度考虑，电化学的表面粗化处理中采用的交流电 的功率较好在0.25～0.5的范围内，最好在0.3～0.4的范围内。本发明所述的 “功率(duty)”是指在交流电的周期T中，将铝板的阳极反应持续的时间设为 ta时，该功率为ta/T。特别是，阳极反应时的铝板表面上除了生成以氢氧化铝 为主体的斑点成分以外，还会产生氧化被膜的溶解和破坏，由于此后铝板的阳 极反应时刻成为点状腐蚀反应的开始点，因此交流电的功率的选择对表面均一 粗化产生的影响是很大的。
交流电的电流密度在梯形波或矩形波时，阳极周波侧峰值时的电流密度 Iap和阴极周波侧峰值时的电流密度Icp较好地分别在10～200A/dm2的范围内， 更好地在10～100A/dm2的范围内。而Icp/Iap最好在0.9～1.5的范围内。
在电化学的表面粗化处理中，电化学的表面粗化处理结束时刻的铝板的阳 极反应所使用的电量的总和较好地为50～1000C/dm2，更好地为50～800C/dm2， 最好为50～400C/dm2。电化学的表面粗化处理的时间最好为1秒～30分。
作为电化学表面粗化处理中采用的酸性水溶液，可以采用通常使用直流电 或交流电的电化学表面粗化处理中用的溶液，其中最好采用以硝酸为主体的酸 性水溶液或以盐酸为主体的酸性水溶液。此处，“为主体”是指在水溶液中作为 主体的成分相对于全部成分占30wt％，最好占50wt％以上。下面对于其它成分也 是同样的。
以硝酸为主体的酸性水溶液如上所述，可以采用通常使用直流电或交流电 的电化学表面粗化处理中用的溶液。例如，可将硝酸铝、硝酸钠、硝酸铵等的 硝酸化合物中的一个或一个以上，以从0.01g/L到达到饱和的浓度添加到硝酸 浓度为5～15g/L的硝酸水溶液中使用。在以硝酸为主体的酸性水溶液中，也可 以溶解有铁、铜、锰、镍、钛、镁、硅等的铝合金中包含的金属。
以硝酸为主体的酸性水溶液可以采用其中含有硝酸、铝盐、硝酸盐，且在 铝离子为1～15g/L，最好为1～10g/L，铵离子为10～300ppm的情况下，在硝 酸浓度为5～15g/L的硝酸水溶液中添加硝酸铝和硝酸铵所得到的溶液。上述铝 离子和铵离子在进行电化学的表面粗化处理过程中自然产生，逐渐增加。此时 的液体温度较好为10～95℃，更好为20～90℃，最好为40～80℃。
当采用以盐酸为主体的酸性水溶液时，由于盐酸自身对铝的溶解力强，因 此只要施加很少的电解就可以在表面上形成细微的凹凸。该细微的凹凸平均开 口直径为0.01～0.2μm，在铝板的整个表面上均一的生成。为了得到这样的磨 砂目，电解反应结束时刻的铝板的阳极反应所经受的电量的总和较好为1～ 100C/dm2，最好为20～70C/dm2。此时的电流密度最好为20～50A/dm2。
采用以盐酸为主体的电解液进行的电化学表面粗化处理中，阳极反应中所 经受的电量的总和增大到400～1000C/dm2，因此可能会同时形成火山口状的大 波纹，此时平均开口直径为10～30μm的火山口状的波纹重叠，在整个表面形 成平均开口直径为0.01～0.4μm的细微凹凸。
采用上述硝酸、盐酸等的电解液进行多次电解表面粗化处理时，最好在铝 板上进行阴极电解处理。通过该阴极电解处理，在铝板表面上生成斑点的同时， 由于产生了氢气，因此可更均一地进行电解表面粗化处理。该阴极电解处理的 酸性溶液中的阴极电量较好为3～80C/dm2，最好为5～30C/dm2。如果阴极电量 不到3C/dm2，则斑点的附着量不足，但是如果超过80C/dm2，则斑点的附着量过 大，哪种情况都不好。另外，电解液可以与上述电解表面粗化处理中使用的溶 液相同，也可以不同。
在电化学的表面粗化处理中，可使用纵型、平型、径向型等公知的电解装 置，但是特开平5-195300号公报中记载的径向型电解装置特别好。
图3是适用于本发明的径向型电解装置的概略图。图3中，径向型的电解 装置中，铝板11卷绕在位于主电解槽21中的径向辊12上，在输送过程中由与 交流电源20相连的主极13a和13b进行电解处理。酸性水溶液14从溶液供给 口15通过窄缝16供入位于径向辊12和主极13a、13b之间的溶液通道中。
接着，在主电解槽21中处理好的铝板11在辅助阳极槽22中进行电解处 理。该辅助阳极槽22中，辅助阳极18与铝板11相对设置，酸性水溶液14在 辅助阳极18与铝板11之间流动。而辅助电极中流动的电流由晶体闸流管19a 和19b控制。
主极13a和13b可以从石墨、白金、钛、铌、锆、不锈钢、燃料电池阴极 用电极等中选择，但是，石墨特别好。作为石墨，可采用一般市场出售的化学 装置用的不浸透性黑铅、含浸树脂的黑铅等。
辅助阳极18可从铁氧体、氧化铱、白金或者用白金在钛、铌、锆等的阀 用金属上包层或电镀而构成的公知的用于产生氧的电极中选择。
主电解槽21和辅助阳极槽22内通入的酸性水溶液的供给方向可以与铝板 11的行进方向平行，也可以与之垂直。酸性水溶液相对于铝板的相对流速最好 在10～1000cm/sec。
一个电解装置中可连接一个以上的交流电源。也可以使用2个以上的电解 装置，各装置中的电解条件可以相同，也可以不同。
电解处理结束之后，由于在接下来的工序中不取出处理液，因此最好通过 夹辊挤水或用喷嘴冲洗。
使用上述电解装置的过程中，电解装置中的铝板与产生阳极反应的酸性水 溶液的通电量成比例，例如，基于根据(i)酸性水溶液的导电率与(ii)超声 波的传输速度及(iii)温度求出的硝酸和铝离子的浓度，一边调节硝酸和水的 添加量一边添加，由于与硝酸和水的添加容积相同量的酸性水溶液逐渐从电解 装置中溢出、排出，因此最好保持上述酸性水溶液的浓度稳定。
通过该电化学的表面粗化处理，可在铝板表面的30～100％的面积率上形成 平均直径为0.5～20μm火山口状或蜂窝状的凹坑。形成的凹坑使得印刷版的非 图像部分难以产生污渍，且提高了耐印度。电化学的表面粗化处理为了在表面 形成高质量的凹坑，必须要注意电量，即电流与通电时间的乘积是最重要的条 件。从节能的角度考虑，希望能用更少的电量形成高质量的凹坑。电化学的表 面粗化处理之后的表面粗糙度按照JIS B0601-1994的标准，截成0.8mm，测评 长度3.0mm，测定的算术平均粗糙度(Ra)最好为0.2～0.7μm。
下面按顺序说明在酸性水溶液或碱性水溶液中进行化学腐蚀处理、去斑处 理等表面处理。上述表面处理分别在上述电化学的表面粗化处理之前或上述电 化学的表面粗化处理之后、后述的阳极氧化处理之前进行。但是，下面的各表 面处理的说明只是举例，本发明并不限于下面的各表面处理。而是以上述表面 处理为基础，可任意地进行下述各种处理。
<碱性腐蚀处理>
碱性腐蚀处理是在碱性水溶液中，对铝板表面进行化学腐蚀的处理。最好 在上述电化学的表面粗化处理之前和之后分别进行。当在电化学的表面粗化处 理之前进行机械的表面粗化处理时，最好在机械的表面粗化处理之后进行。由 于碱性腐蚀处理可在短时间内破坏细微构造，因此比后述的酸性腐蚀处理更有 利。
作为碱性腐蚀处理采用的碱性水溶液可以是含有烧碱、碳酸钠、铝酸钠、 硅酸钠、磷酸钠、氢氧化钾、氢氧化锂等中的1种或2种以上的水溶液。特别 是以氢氧化钠(烧碱)为主体的水溶液最好。碱性水溶液中最好含有铝及铝板 中含有的合金成分0.5～10wt％。
碱性水溶液的浓度较好为1～50wt％，最好为1～30wt％。
碱性腐蚀处理的碱性水溶液的温度在20～100℃，最好为40～80℃，进行 1～120秒的处理，最好处理时间为2～60秒。在机械的表面粗化处理之后进行 时，铝的溶解量最好为5～20g/m2，如果在电化学的表面粗化处理之后进行，最 好为0.01～20g/m2。最初碱性水溶液中化学的腐蚀液在混合时，最好用液体氢 氧化钠(烧碱)与铝酸钠(铝酸钠)调制处理液。
而碱性腐蚀处理结束之后，由于处理液在下面的工序中不排出，因此最好 用夹辊挤水并用喷嘴冲洗。
在电化学的表面粗化处理之后进行碱性腐蚀处理时，可除去在电化学的表 面粗化处理中产生的斑点。这样的碱性腐蚀处理可以采用例如，特开昭53- 12739号公报中记载的与50～90℃的15～65wt％的硫酸接触的方法及特公昭48 -28123号公报中记载的碱性腐蚀方法。
<酸性腐蚀处理>
酸性腐蚀处理是在酸性水溶液中，对铝板进行化学腐蚀的处理，最好在上 述电化学的表面粗化处理之后进行。当在上述电化学的表面粗化处理之前和/或 之后进行上述碱性腐蚀处理时，也可以在碱性腐蚀处理之后进行酸性腐蚀处理。
在铝板上进行上述碱性腐蚀处理之后，进行上述酸性腐蚀处理可除去含有 铝板表面的二氧化硅的金属间化合物或单体Si，可消除在此后的阳极氧化处理 中生成阳极氧化被膜的缺陷。其结果，可防止印刷时被称为表面溅点状污渍的 非图像部分中的点状的附着油墨的故障。
酸性腐蚀处理采用的酸性水溶液可以采用含有磷酸、硝酸、硫酸、铬酸、 盐酸或它们的2种或2种以上的混合酸的水溶液。其中硫酸水溶液最好。酸性 水溶液的浓度较好为50～500g/L，最好为100～500g/L。酸性水溶液中也可以 含有铝及铝板中含有的合金成分。
酸性腐蚀处理的液体温度为30～90℃，较好为60～90℃，最好为70～80 ℃，处理时间最好为1～10秒。此时铝板的溶解量最好为0.001～0.2g/m2。而 酸的浓度例如，硫酸浓度与铝离子的浓度最好从常温下不结晶的范围内选择。 较好的铝离子的浓度为0.1～50g/L，更好的是0.1～15g/L，最好是5～15g/L。
酸性腐蚀处理结束后，由于在下面的工序中不排出处理液，因此最好用夹 辊挤水并用喷嘴冲洗。
<去斑处理>
当在上述电化学的表面粗化处理之前和/或之后进行上述碱性腐蚀处理 时，由于碱性腐蚀处理一般会在铝板表面形成斑点，因此最好在碱性腐蚀处理 之后用含有磷酸、硝酸、硫酸、铬酸、盐酸、氢氟酸、硼氟化氢酸或它们的2 种或2种以上的混合酸的酸性溶液溶解上述斑点，进行所谓的去斑处理。另外， 在碱性腐蚀处理之后，酸性腐蚀处理和去斑处理之中进行任意一个就足够了。
酸性溶液的浓度较好为1～500g/L，最好为1～300g/L。酸性溶液中也可 以溶解有铝及铝板中含有的合金成分共0.001～50g/L，最好为0.001～15g/L。
酸性溶液的温度较好为20℃～95℃，最好为30～70℃。处理时间较好为 1～120秒，最好为2～60秒。
去斑处理液(酸性溶液)由于可以采用上述电化学的表面粗化处理中用的 酸性水溶液的废液，因此可减少废液量。
去斑处理结束之后，由于处理液在下面的工序中不排出，因此最好用夹辊 挤水并用喷嘴冲洗。
作为这些表面处理的组合，下面表示优选的方案。
首先，进行机械的表面粗化处理和/或碱性腐蚀处理，此后进行去斑处理。 接着，进行用电解液的电化学表面粗化处理，此后①碱性腐蚀处理和与之连续 的去斑处理、②用盐酸电解液的电化学表面粗化处理和与之连续的碱性腐蚀处 理、去斑处理这①、②两者中进行任意一个或两个都进行。
<阳极氧化处理>
对如上所述根据需要进行了各种处理的铝板进行阳极氧化处理。
阳极氧化处理可采用该领域中现行的方法。具体地说，在硫酸、磷酸、铬 酸、草酸、氨基磺酸、苯磺酸等的单独或组合2种或2种以上形成的水溶液或 非水溶液中，在铝板中通入直流或交流电，即可在铝板表面形成阳极氧化被膜。
阳极氧化处理的条件根据使用的电解液而有各种变化，因此不能一概决 定，但是一般的电解液的浓度为1～80wt％，液体温度为5～70℃，最好为25～ 55℃，电流密度为0.5～70A/dm2，最好为15～60A/dm2，电压为1～200V，电解 时间为1～1000秒，最好为5～60秒。
在这些阳极氧化处理中，英国专利申请第1412768号的说明书中记载的在 硫酸电解液中用高电流密度进行阳极氧化处理的方法和美国专利第3511661号 说明书中记载的用磷酸作电解浴的阳极氧化处理方法较好。也可以进行在硫酸 中进行阳极氧化处理后再在磷酸中进行阳极氧化处理等的多段阳极氧化处理。
本发明中，阳极氧化被膜由于其难以损伤和耐印性的特点，较好为1.0g/m2 以上，再好些为1.5g/m2以上，更好为2.0g/m2以上，最好是3.0g/m2以上，而为 了形成厚的被膜，要考虑需要多大的能量，100g/m2以下比较合适，较好为40g/m2 以下，再好些是20g/m2以下，更好是15g/m2以下，最好是10g/m2以下。
阳极氧化被膜的表面上形成有所谓“微孔”的细微的凹坑。阳极氧化被膜 上的微孔的密度可根据适当选择的处理条件而调整。
本发明中，阳极氧化被膜的孔隙率较好为20～70％，更好为30～60％，最 好为40～50％。阳极氧化被膜的孔隙率在20％以上会充分抑制向铝支撑体的热扩 散，获得较好的感光度效果。阳极氧化被膜的孔隙率在70％以下会更难以引起非 图像部分的起污问题。
阳极氧化被膜的孔隙率可由下式求出。
孔隙率(％)＝[1-(氧化被膜密度/3.98)]×100
此处，氧化被膜的密度(g/cm3)是通过[每单位面积中的氧化被膜的重量/ 氧化被膜的厚度]求出的。而3.98是化学手册中氧化铝的密度(g/cm3)。
表面孔径较好为0～15nm，更好为0～12nm，最好为0～10nm。
对于阳极氧化被膜，如果必要的话，通过进行下述扩孔处理、封孔处理等， 最终可使阳极氧化被膜的孔隙率和表面孔径落入上述范围内。
<扩孔处理>
本发明中，为了达到将阳极氧化被膜的孔隙率调整到适当的范围内，降低 热传导率的目的，在阳极氧化处理之后，最好进行扩大微孔的孔径的扩孔处理。 该扩孔处理通过将阳极氧化被膜形成的铝基板浸入酸性水溶液或碱性水溶液 中，溶解阳极氧化被膜，从而扩大微孔的孔径。扩孔处理中阳极氧化被膜的溶 解量较好在0.01～20g/m2的范围内进行，更好的为0.1～5g/m2，最好为0.2～ 4g/m2。
扩孔处理中使用酸性水溶液时，最好采用硫酸、磷酸、硝酸、盐酸等的无 机酸或它们的混合物的水溶液。酸性水溶液的浓度较好为10～1000g/L，再好些 为10～500g/L，更好为20～500g/L，最好为20～100g/L。酸性水溶液的温度较 好为10～90℃，更好为30～70℃，最好为40～70℃。在酸性水溶液中浸泡的时 间较好为1～300秒，更好为2～100秒，最好为10～60秒。
另一方面，扩孔处理中采用碱性水溶液时，最好从氢氧化钠、氢氧化钾和 氢氧化锂构成的组中选择至少一个碱性水溶液使用。碱性水溶液的PH值较好为 10～13，更好些为11～13，更好为11.5～13.0，最好为11.5～12.5。碱性水溶 液的温度较好为10～90℃，最好为30～50℃。在碱性水溶液中浸泡的时间较好 为1～500秒，最好为2～100秒。
<封孔处理>
本发明中，最好对如上所述设置阳极氧化被膜而得到的铝支撑体进行封孔 处理。
封孔处理被膜与例如，在进行电沉积封孔处理时，从微孔的底部形成，而 在进行水蒸气封孔处理时，从微孔的上部形成，根据封孔处理的方式形成封孔 处理被膜的方法不同。
适用于本发明的封孔处理不封闭阳极氧化被膜内部的孔，而只封闭微孔的 上部。
本发明采用的封孔处理可以采用特开平4-176690号公报和特愿平10- 106819号的说明书(特开平11-301135号公报)中记载的用加压水蒸气和热水 进行的阳极氧化被膜的封孔处理。另外，也可以采用硅酸盐处理、重铬酸盐水 溶液处理、亚硝酸盐处理、醋酸铵盐处理、电沉积封孔处理、三乙醇胺处理、 碳酸钡盐处理和含有极微量的磷酸盐的热水处理等公知方法。
可列举的是，例如通过溅射、CVD法等设置无机薄膜的方法。可作为无机 薄膜使用的化合物，可列举的是例如氧化物、氮化物、硅化物、碳化物。另外， 不限定仅仅一种，也可以是混合物。
具体可列举的是，例如氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锆、氧化铪、氧化 钒、氧化铌、氧化钽、氧化钼、氧化钨、氧化铬；氮化铝、氮化硅、氮化钛、 氮化锆、氮化铪、氮化钒、氮化铌、氮化钽、氮化钼、氮化钨、氮化铬、氮化 硅、氮化硼；硅化钛、硅化锆、硅化铪、硅化钒、硅化铌、硅化钽、硅化钼、 硅化钨、硅化铬；硼化钛、硼化锆、硼化铪、硼化钒、硼化铌、硼化钽、硼化 钼、硼化钨、硼化铬；碳化铝、碳化硅、碳化钛、碳化锆、碳化铪、碳化钒、 碳化铌、碳化钽、碳化钼、碳化钨、碳化铬。
其中适合本发明的封孔处理是特愿2001-9871号说明书中记载的通过微 粒子的封孔处理。
通过微粒子的封孔处理可以设置由平均粒径8～800nm、优选平均粒径10～ 500nm、更优选平均粒径10～150nm的粒子组成的粒子层。粒子的平均粒径如果 在8nm以上，粒子进入阳极氧化薄膜中存在的微孔内部可能较少，可以充分获 得高灵敏的效果。粒子的平均粒径如果在800nm以下，与感热层的密合性充分， 耐印性优良。粒子层的厚度优选为8～800nm，更优选为10～500nm。
可用于本发明中的粒子，热传导率优选为60W/(m·K)以下，更优选为 40W/(m·K)以下，特别优选为0.3～10W/(m·K)以下。热传导率如果在60W/(m·K) 以下，可充分抑制向铝支撑体的热扩散，充分获得高灵敏的效果。
设置粒子层的方法没有特别地限定，优选可列举的是例如使用含有平均粒 径为8～800nm的亲水性粒子的电解液、使用直流或交流电解处理铝支撑体的方 法。作为可用于上述电解处理中的交流电流的波形，可列举的是正弦波、矩形 波、三角波、梯形波等。另外，交流电流的频率，从制作电源装置的成本方面 考虑，优选为30～200Hz，更优选为40～120Hz。在使用作为交流电流波形的梯 形波时，电流从0达到峰值的时间tp优选分别是0.1～2msec，更优选是0.3～ 1.5msec。上述tp如果不足0.1msec，存在影响电源电路的阻抗、电流波形上升 时必需较大的电源电压、电源的设备成本变高的情况。
作为亲水性粒子，优选将Al2O3、TiO2、SiO2和ZrO2单独或组合2种以上使 用。电解液是例如使上述亲水性粒子悬浮在水等中使得含量为全部的0.01～ 20wt％而获得。为了使得正极或负极带有电荷，电解液也可以通过例如添加硫酸 等调整pH。电解处理在例如使用直流、以铝支撑体作为阴极使用上述电解液在 10～200V的电压下在1～600秒的条件下进行。
按照该方法，在存在于阳极氧化薄膜上的微孔内部残留孔隙，同时可以堵 塞其出口。
另外，作为设置粒子层的方法，特别优选可列举的是使得上述铝支撑体浸 渍在含有平均粒径为8～800nm亲水性粒子的溶液中的方法，和在上述铝支撑体 上涂敷含有平均粒径为8～800nm亲水性粒子的溶液的方法。按照这些方法，在 存在于阳极氧化薄膜上的微孔内部残留孔隙，同时可以堵塞其出口。
另外，按照这些方法，与使用电解处理的方法相比，得到的平版印刷版的 耐污渍性优良。也可以确定通过电解处理得到的粒子层略微不均匀，在存在于 阳极氧化薄膜上的一部分微孔中出口没有完全堵塞。与此相反，通过浸渍或涂 敷得到的粒子层极其均匀，在存在于阳极氧化薄膜上的微孔的出口被均匀地堵 塞。因此，作为设置粒子层的方法，使用上述浸渍或涂敷的情况比使用电解处 理的情况可以得到耐污渍性更优良的平版印刷版。
作为亲水性粒子，优选将胶质二氧化硅、氧化铝溶胶、Al2O3、TiO2、SiO2 和ZrO2单独或组合2种以上使用。浸渍处理和涂敷中使用的溶液中上述亲水性 粒子的含量优选为全部的0.01wt％以上、更优选0.05wt％以上，并且优选10wt％ 以下、更优选5wt％以下。
浸渍处理中使用的溶液的液体温度优选为10℃以上、更优选30℃以上，并 且优选100℃以下、更优选80℃以下。另外，浸渍处理的处理时间优选为1秒 以上、更优选2秒以上，并且优选120秒以下、更优选30秒以下。
作为涂敷的方法，可列举的是例如棒涂、旋涂、喷涂、帘膜式涂敷、浸涂、 气刀式涂敷、刀片式涂敷、滚涂。其中优选旋涂、棒涂。
封孔方法，除了上述之外，可列举的是喷射处理、蒸镀处理、溅射、离子 电镀、喷镀、镀金等，但是没有特别地限定。
作为具体的处理方法，可列举的是例如通过涂敷设置特开昭60-149491号 公报中记载的由含有至少一个氨基和选自羧基及其盐的基团和磺基及其盐的基 团中至少一个基团的化合物组成的层、特开昭60-232998号公报中记载的由选 自含有至少一个氨基和至少一个羟基的化合物及其盐的化合物组成的层、特开 昭62-19494号公报中记载的含有磷酸盐的层、特开昭59-101651号公报中记 载的由分子中含有至少1种含有磺基的单体单元作为重复单元的高分子化合物 组成的层等的方法。
另外，还可列举的是设置选自以下化合物的层的方法：羧甲基纤维素；糊 精；阿拉伯胶；2-氨乙基膦酸等含有氨基的膦酸类；可以含有取代基的苯膦 酸、萘膦酸、烷基膦酸、甘油膦酸、亚甲基二膦酸、亚乙基二膦酸等有机膦酸； 可以含有取代基的磷酸苯酯、磷酸萘酯、磷酸烷基酯、磷酸甘油酯等有机磷酸 酯；可以含有取代基的苯次磷酸、萘次磷酸、烷基次磷酸、甘油次磷酸等有机 次磷酸；甘氨酸、β-丙氨酸等氨基酸类；三乙醇胺的盐酸盐等含有羟基的胺 的盐酸盐等。
在封孔处理中，也可以涂敷处理含有不饱和基团的硅烷偶合剂。作为硅烷 偶合剂，可列举的是例如N-3-(丙烯氧基-2-羟基丙基)-3-氨基丙基三 乙氧基硅烷、(3-丙烯氧基丙基)二甲基甲氧基硅烷、(3-丙烯氧基丙基)甲 基二甲氧基硅烷、(3-丙烯氧基丙基)三甲氧基硅烷、3-(N-烯丙基氨基) 丙基三甲氧基硅烷、烯丙基二甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、烯丙基三甲 氧基硅烷、3-丁烯基三乙氧基硅烷、2-(氯甲基)烯丙基三甲氧基硅烷、甲 基丙烯酰氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(3-甲基丙烯氧基-2-羟基丙基)-3 -氨基丙基三乙氧基硅烷、(甲基丙烯氧基甲基)二甲基乙氧基硅烷、甲基丙烯 氧基甲基三乙氧基硅烷、甲基丙烯氧基甲基三甲氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基 二甲基乙氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基二甲基甲氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基 甲基二乙氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基 甲基三乙氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基甲基三甲氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基 三(甲氧基乙氧基)硅烷、甲氧基二甲基乙烯基硅烷、1-甲氧基-3-(三甲 基甲硅烷氧基)丁二烯、苯乙烯基乙基三甲氧基硅烷、3-(N-苯乙烯基甲基 -2-氨乙基氨基)-丙基三甲氧基硅烷盐酸盐、乙烯基二甲基乙氧基硅烷、乙 烯基二苯基乙氧基硅烷、乙烯基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基甲基二甲氧基硅烷、 O-(乙烯氧基乙基)-N-(三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基甲酸乙酯、乙烯基 三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三叔丁氧基硅烷、乙烯基三异丙 氧基硅烷、乙烯基三苯氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、二烯丙 基氨基丙基甲氧基硅烷。其中优选含有不饱和基团反应性快的甲基丙烯酰基、 丙烯酰基的硅烷偶合剂。
除此之外，可列举的是特开平5-50779号公报中记载的溶胶凝胶涂敷处 理、特开平5-246171号公报中记载的膦酸类的涂敷处理、特开平6-234284 号公报、特开平6-191173号公报和特开平6-230563号公报中记载的通过涂 敷处理反涂层用的原材料的方法、特开平6-262872号公报中记载的膦酸类的 处理、特开平6-297875号公报中记载的涂敷处理、特开平10-109480号公报 中记载的阳极氧化处理方法、特愿平10-252078号说明书(特开2000-81704 号公报)和特愿平10-253411号说明书(特开2000-89466号公报)中记载的 浸渍处理方法等，可以使用任何一种方法。 <用含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液的处理>
在本发明中，作为优选的封孔处理，可以用含有无机氟化合物和硅酸化合 物的水溶液处理。由此，在制作平版印刷版的时候，可以得到耐污渍性优良的 平版印刷版用的支撑体。
作为本发明中可使用的无机氟化合物，适合列举的是金属氟化物。
具体可列举的是，例如氟化钠、氟化钾、氟化钙、氟化镁、六氟锆钠、六 氟锆钾、六氟钛酸钠、六氟钛酸钾、六氟氢酸锆、六氟氢酸钛、六氟锆铵、六 氟钛酸铵、六氟硅酸、氟化镍、氟化铁、氟化磷酸、氟化磷酸铵。
另外，作为本发明中可使用的硅酸化合物，可列举的是硅酸、硅酸盐，其 中适合列举的是碱金属硅酸盐。
具体可列举的是，例如硅酸钠、硅酸钾、硅酸锂。其中优选硅酸钠、硅酸 钾。
硅酸钠可列举的是，例如3号硅酸钠、2号硅酸钠、1号硅酸钠、原硅酸钠、 倍半硅酸钠、偏硅酸钠。硅酸钾可列举的是，例如1号硅酸钾。另外，还可以 使用含有铝的铝代硅酸盐、含有硼酸的硼硅酸盐。
硅酸可列举的是，原硅酸、偏硅酸、偏二硅酸、偏三硅酸、偏四硅酸。
水溶液中各化合物的浓度，对于无机氟化合物，从阳极氧化薄膜的封孔方 面考虑优选为0.01wt％以上、更优选0.05wt％以上、特别优选0.1wt％以上，另外 从耐污渍性方面考虑优选为10wt％以下、更优选1wt％以下、特别优选0.5wt％以 下。
另外，对于硅酸化合物，从耐污渍性方面考虑，优选为0.01wt％以上、更 优选0.1wt％以上、特别优选1wt％以上，另外从耐印性方面考虑优选为10wt％以 下、更优选7wt％以下、特别优选5wt％以下。
水溶液中各化合物的比率没有特别地限定，无机氟化合物和硅酸化合物的 重量比优选为5∶95～95∶5，更优选20∶80～80∶20。
另外，含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液，为了提高pH，也可以含 有适当量的氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂等氢氧化物。其中优选氢氧化钠、 氢氧化钾。
另外，含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液，也可以含有碱土类金属 盐或4族(第IVA族)金属盐。作为碱土类金属盐，可列举的是例如硝酸钙、 硝酸锶、硝酸镁、硝酸钡等硝酸盐；硫酸盐；盐酸盐；磷酸盐；醋酸盐；溴酸 盐；硼酸盐等水溶性盐。作为4族(第IVA族)金属盐，可列举但是例如四氯 化钛、三氯化钛、氟化钛钾、溴酸钛钾、硫酸钛、四碘化钛、、氯化氧化锆、二 氧化锆、羟基氯化锆、四氯化锆。这些碱土类金属盐和4族(第IVA族)金属 盐可以单独或组合2种以上使用。
另外，水溶液的温度优选为10℃以上、更优选20℃以上，并且优选100℃ 以下、更优选80℃以下。
另外，水溶液优选为pH8以上、更优选pH10以上，并且优选pH13以下、 更优选pH12以下。
用含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液处理的方法，没有特别地限定， 可列举的是例如浸渍法、喷射法。这些方法既可以单独1次或多次使用，也可 以组合2种以上使用。
其中，优选浸渍法。使用浸渍法处理时，处理时间优选为1秒以上、更优 选3秒以上，并且优选600秒以下、更优选120秒以下。 <亲水性表面处理>
在本发明中，也可以通过再将铝支撑体浸渍在含有1种以上亲水性化合物 的水溶液中，进行亲水性表面处理。作为亲水性化合物，适合列举的是例如聚 乙烯基磷酸、氟化锆钾、磷酸盐/无机氟化合物、含有磺酸基的化合物、糖类化 合物、硅酸盐化合物。其中适合的是聚乙烯基磷酸、硅酸盐化合物。最适合列 举的是硅酸盐化合物。
含有磺酸基的化合物中可以含有芳香族磺酸、其甲醛缩合物、其衍生物、 以及其盐。
作为芳香族磺酸，可列举的是例如苯酚磺酸、邻苯二酚磺酸、间苯二酚磺 酸、苯磺酸、甲苯磺酸、木质磺酸、萘磺酸、苊-5-磺酸、菲-2-磺酸、苯 甲醛-2(或3)-磺酸、苯甲醛-2，4(或3，5)-二磺酸、羟苄基磺酸类、 磺基安息香酸、对氨基苯磺酸、对氨基萘磺酸、牛磺酸。其中优选苯磺酸、萘 磺酸、木质磺酸。另外也优选苯磺酸、萘磺酸、木质磺酸的甲醛缩合物。
另外，这些也可以作为磺酸盐使用。可列举的是例如，钠盐、钾盐、锂盐、 钙盐、镁盐。其中优选钠盐、钾盐。
含有具有磺酸基化合物的水溶液的pH优选为4～6.5，可以使用硫酸、氢 氧化钠、氨等调整至上述pH范围。
糖类化合物中可以含有单糖类及其糖醇、低聚糖类、多糖类、以及糖苷。
作为单糖类及其糖醇，可列举的是例如甘油等丙糖类及其糖醇类；苏糖、 赤藓醇等丁糖及其糖醇类；阿拉伯糖、阿糖醇等戊糖及其糖醇类；葡萄糖、山 梨糖醇等己糖及其糖醇类；D-甘油-D-半乳庚糖、D-甘油-D-半乳庚糖醇 (ガラクトヘプチト-ル)等庚糖及其糖醇类；D-红-D-半乳辛糖醇等辛糖 及其糖醇类；D-红-L-グルコ-ノヌロ-ス(glyco-nonurose)等壬糖及其糖 醇类。
作为低聚糖类，可列举的是例如蔗糖、海藻糖、乳糖等二糖类；蜜三糖等三糖 类。
作为多糖类，可列举的是例如直链淀粉、アラビナン(arabinan)、环糊精、海 藻酸纤维素。
在本发明中，所谓“糖苷”是指糖部分和非糖部分通过酯键等结合的化合物。
糖苷可以根据非糖部分分类。可列举的是例如烷基糖苷、苯酚糖苷、香豆 素糖苷、羟基香豆素糖苷、类黄酮糖苷、蒽醌糖苷、三萜糖苷、类甾醇糖苷、 芥子油糖苷。
作为糖部分，可列举的是上述单糖类及其糖醇；低聚糖类；多糖类。其中 优选单糖类、低聚糖类，更优选单糖类、二糖类。
作为优选的糖苷的例子，可列举的是下面式(I)表示的化合物。 化1
上述式(I)中，R表示碳原子数为1～20的直链或含有支链的烷基、烯基 或炔基。
作为碳原子数为1～20的烷基，可列举的是例如甲基、乙基、丙基、丁基、 戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十 四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基， 这些既可以是直链，也可以含有支链，另外也可以是环状烷基。
作为碳原子数为1～20的烯基，可列举的是烯丙基、2-丁烯基，这些既可 以是直链，也可以含有支链，另外也可以是环状烯基。
作为碳原子数为1～20的炔基，可列举的是例如1-戊炔基，这些既可以 是直链，也可以含有支链，另外也可以是环状炔基。
作为上述式(I)表示的具体化合物，可列举的是例如甲基葡糖苷、乙基葡 糖苷、丙基葡糖苷、异丙基葡糖苷、丁基葡糖苷、异丁基葡糖苷、正己基葡糖 苷、辛基葡糖苷、辛基葡糖苷、癸基葡糖苷、2-乙基己基葡糖苷、2-戊基壬 基葡糖苷、2-己基癸基葡糖苷、月桂基葡糖苷、肉豆蔻基葡糖苷、硬脂酰基葡 糖苷、环己基葡糖苷、2-丁炔基葡糖苷。这些化合物可以是一种糖苷的葡糖苷， 也可以是葡萄糖的半缩醛羟基与其他化合物结合成醚状的物质，例如可以通过 公知的方法使得葡萄糖与醇类反应得到。这些烷基葡糖苷的一部分是由德意志 (ドイツ)Henkel社作为商品名グルコポン(GLUCOPON)出售，本发明中可以使用 它们。
作为优选糖苷的其他例子，可列举的是例如皂草苷、芸香苷三水合物、橙 皮苷甲基查耳酮、橙皮苷、ナリジン(narijin)水合物、苯酚-β-D-吡喃葡 萄糖苷、水杨苷、3’，5，7-甲氧基-7-芸香糖苷。
含有糖类化合物的水溶液的pH优选为8～11，可以使用氢氧化钾、硫酸、 碳酸、碳酸钠、磷酸、磷酸钠等调整至上述pH范围。
聚乙烯基膦酸的水溶液的浓度优选为0.01～10wt％、较优选为0.1～5wt％、 更优选为0.2～2.5wt％。浸渍的温度优选为10～70℃、更优选为30～60℃。浸 渍时间优选为0.5秒～10分钟、较优选为1～30秒、更优选为1～20秒。
另外，含有磺酸基化合物的水溶液的浓度优选为0.02～0.2wt％。浸渍温度 优选为60～100℃。浸渍时间优选为1～300秒、更优选为10～100秒。
另外，含有糖类化合物的水溶液的浓度优选为0.5～10wt％。浸渍温度优选 为40～70℃。浸渍时间优选为2～300秒、更优选为5～30秒。
作为本发明中的亲水化处理，除了上述之外，还可以采用公知的方法和条 件。作为公知的方法和条件，可列举的是例如美国专利第2714066号说明书及 第3181461号说明书中记载的使用碱金属硅酸盐(碱金属硅酸盐)处理的方法、 特公昭36-22063号公报中记载的使用氟化锆钾处理的方法、特开平9-244227 号公报中记载的使用含有磷酸盐和无机氟化合物的水溶液处理的方法、特开 2000-81704号公报及特开2000-89466号公报中记载的使用含有钛和氟的水 溶液处理的方法。
碱金属硅酸盐水溶液处理通过在优选浓度为0.01～30wt％、较优选为 0.01～10wt％、更优选为0.1～10wt％、更优选为0.5～5wt％、25℃下pH优选为 10～13的碱金属硅酸盐的水溶液中，在优选30～100℃、更优选50～90℃下浸 渍支撑体优选0.5～40秒钟、更优选1～20秒钟进行。上述碱金属硅酸盐的浓 度、pH、温度、处理时间等处理条件可以适当选择。碱金属硅酸盐水溶液的pH 如果低于10，溶液容易凝胶化，另外pH如果高于13，粒子层和阳极氧化薄膜 可能会溶解，因此这点需要注意。
亲水性表面处理中使用的碱金属硅酸盐，可列举的是例如作为上述含有无 机氟化合物和硅酸化合物的水溶液中使用的碱金属硅酸盐所列举的物质。
碱金属硅酸盐的水溶液，为了提高pH，也可以含有适当量的氢氧化钠、氢 氧化钾、氢氧化锂等氢氧化物。其中优选氢氧化钠、氢氧化钾。
另外，碱金属硅酸盐的水溶液也可以含有碱土类金属盐或4族(第IVA族) 金属盐。作为碱土类金属盐，可列举的是例如作为上述含有无机氟化合物和硅 酸化合物的水溶液中也可以含有的碱土类金属盐所列举的物质。碱土类金属盐 和4族(第IVA族)金属盐可以单独或2种以上组合使用。这些金属盐的用量 优选为0.01～10wt％、更优选为0.05～5.0wt％。
氟化锆钾水溶液处理通过在优选浓度为0.1～10wt％、更优选为0.5～2wt％ 的氟化锆钾水溶液中，在优选30～80℃下浸渍支撑体优选60～180秒钟进行。
另外，作为亲水性表面处理中使用的无机氟化合物，适合列举的是金属氟 化物。
具体可列举的是例如作为上述含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液中 使用的无机氟化合物所列举的物质。
支撑体在浸渍至含有这些亲水性化合物的水溶液之后，用水等洗涤、干燥。
通过上述亲水性表面处理，可以解决与通过阳极氧化处理后的扩孔处理感 光度提高(负性记录层的情况下耐印性的提高)交替产生的背面蹭脏(粘到油 墨性)劣化等印刷污染的问题。即存在如下问题：由于孔径扩大，在印刷时， 特别是印刷机停止、将平版印刷版放置在印刷机上后再开始印刷时，容易产生 油墨难以去除的现象(背面蹭脏(粘到油墨性)劣化)，但是如果实施亲水性表 面处理，可以减轻上述问题。 <底涂层>
在本发明中，在如此得到的铝支撑体上通过红外线激光曝光设置可以写入 的记录层之前，根据需要也可以设置例如硼酸锌等水溶性金属盐之类的无机底 涂层和有机底涂层。
作为有机底涂层中使用的有机化合物，可列举的是例如羧甲基纤维素；糊 精；阿拉伯胶；侧链上含有磺酸基的聚合物及共聚物；聚丙烯酸；2-氨乙基膦 酸等含有氨基的膦酸类；可以含有取代基的苯膦酸、萘膦酸、烷基膦酸、甘油 膦酸、亚甲基二膦酸、亚乙基二膦酸等有机膦酸；可以含有取代基的苯磷酸、 萘磷酸、烷基磷酸、甘油磷酸等有机磷酸；可以含有取代基的苯次磷酸、萘次 磷酸、烷基次磷酸、甘油次磷酸等有机次磷酸；甘氨酸、β-丙氨酸等氨基酸 类；三乙醇胺的盐酸盐等含有羟基的胺的盐酸盐；黄色染料。这些可以单独使 用，也可以混合2种以上使用。
有机底涂层可以使用下述方法设置。即，可以通过将上述有机化合物溶解 在水或甲醇、乙醇、甲基乙基酮等有机溶剂、或这些的混合溶剂中的溶液涂敷 在铝支撑体上并干燥设置有机底涂层的方法，将铝支撑体浸渍在上述有机化合 物溶解在水或甲醇、乙醇、甲基乙基酮等有机溶剂、或这些的混合溶剂的溶液 中、吸附上述有机化合物然后用水等洗涤并干燥设置有机底涂层的方法。
在前一种方法中，溶解了上述有机化合物的溶液的浓度优选为0.005～ 10wt％。涂敷的方法，没有特别地限定，可以使用棒涂、旋涂、喷涂、帘膜式涂 敷等任一种方法。另外，在后一种方法中，溶解了上述有机化合物的溶液的浓 度优选为0.01～20wt％、更优选为0.05～5wt％，浸渍温度优选为20～90℃、更 优选为25～50℃，浸渍时间优选为0.1秒～20分钟、更优选为2秒～1分钟。 这些方法中使用的溶液也可以通过氨、三乙胺、氢氧化钾等碱性物质和盐酸、 磷酸等酸性物质调节pH，在pH1～12的范围内使用。
有机底涂层干燥后的覆盖量优选为2～200mg/m2、更优选为5～100mg/m2。 如果在上述范围内，耐印性变得更好。
另外，特开平11-109637号公报中记载的含有酸基和翁基的高分子化合物 的中间层也可以作为底涂层使用。 <背面涂层>
在根据上述得到的支撑体上制作平版印刷版原版的时候，为了即使重叠也 不会损伤记录层，也可以根据需要在反面(没有设置记录层侧的面)设置由有 机高分子化合物组成的覆盖层(以下也称为“背面涂层”)。
作为背面涂层的主成分，优选使用选自玻璃转化温度为20℃以上的饱和共 聚聚酯树脂、酚氧树脂、聚乙烯基缩醛树脂和偏二氟乙烯共聚树脂中的至少一 种树脂。
饱和共聚聚酯树脂由二羧酸单元和二醇单元构成。作为二羧酸单元，可列 举的是例如邻苯二甲酸、对苯二甲酸、间苯二甲酸、四溴苯二甲酸、四氯苯二 甲酸等芳香族二羧酸；己二酸、壬二酸、琥珀酸、草酸、辛二酸、癸二酸(セ バチン酸)、丙二酸、1，4-环己二酸等饱和脂肪族二羧酸。
背面涂层还可以适当含有用于着色的染料和颜料、用于提高与支撑体密合 性的硅烷偶合剂、由重氮盐构成的重氮树脂、有机膦酸、有机磷酸、阳离子性 聚合物、作为润滑剂通常使用的蜡、高级脂肪酸、高级脂肪酸酰胺、由二甲基 硅氧烷构成的硅氧烷化合物、改性的二甲基硅氧烷、聚乙烯粉末等。
背面涂层的厚度，即使基本上没有垫纸、只要不损伤下面所述的记录层就 可以，优选为0.01～8μm。厚度如果不足0.01μm，很难防止在对准平版印刷 版原版操作时记录层的擦伤。另外，厚度如果超过8μm，由于在印刷中、平版 印刷版周边使用的药品，有时背面涂层膨胀厚度改变，外压改变印刷特性变差。
作为在支撑体反面设置背面涂层的方法，可以使用各种各样的方法。可列 举的是例如，在适当溶剂中溶解上述背面涂层用成分并用溶液涂敷、或者用乳 化分散液涂敷并干燥的方法；用粘结剂和热将预先形成薄膜状的东西粘合在支 撑体上的方法；用熔融挤出机形成熔融薄膜、粘合在支撑体上的方法。基于确 保合适的厚度，最优选的是在适当溶剂中溶解背面涂层用成分、干燥的方法。 在该方法中，可以单独或混合如特开昭62-251739号公报中记载的有机溶剂、 作为溶剂使用。
在平版印刷版原版的制作中，既可以在支撑体上首先设置反面的背面涂层 和表面的记录层中任何一个，另外也可以同时设置两个。 <记录层>
本发明的平版印刷版原版，通过在如此得到的铝支撑体上设置可以通过红 外线激光曝光写入的记录层制得。
用于本发明中的感热层，只要是可以通过红外线激光曝光写入的记录层， 没有特别地限定。可列举的是例如，含有具有热反应性官能团的微粒子聚合物 或包含具有热反应性官能团化合物的微胶囊的感热层，和含有红外线吸收剂和 在水中不溶但在碱性水溶液中可溶的高分子化合物、可以通过红外线激光照射 写入的感热层。
在本发明的平版印刷版原版中，记录层优选是含有： (a)具有热反应性官能团的微粒子聚合物，或 (b)包含具有热反应性官能团化合物的微胶囊的感热层。如果使用该感热层， 可以制得机上显象型平版印刷版原版。
下面，对于通过本发明得到的平版印刷版原版，例举使用含有具有热反应 性官能团的微粒子聚合物或包含具有热反应性官能团化合物的微胶囊的感热层 的情况进行说明。
作为上述(a)和(b)中共同的热反应性官能团，可列举的是例如进行聚 合反应的乙烯性不饱和基团(例如丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基)， 进行加成反应的异氰酸酯基或其嵌段体、其反应对方即含有活性氢原子的官能 团(例如氨基、羟基、羧基)，同样进行加成反应的环氧基、其反应对方即氨基、 羧基或羟基，进行缩合反应的羧基和羟基或氨基，进行开环加成反应的酸酐和 氨基或羟基。用于本发明中的热反应性官能团并不局限于这些，只要形成化学 键，也可以是进行任一个反应的官能团。
作为微粒子聚合物(a)中合适的热反应性官能团，可列举的是例如，丙烯 酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基、环氧基、氨基、羟基、羧基、异氰酸 酯基、酸酐基以及保护它们的基团。向聚合物粒子中导入热反应性官能团，既 可以在聚合物聚合时进行，也可以在聚合后利用高分子反应进行。
在聚合物聚合时导入热反应性官能团的情况下，优选使用含有热反应性官 能团的单体进行乳液聚合或悬浮聚合。
作为含有热反应性官能团单体的具体例子，可列举的是甲基丙烯酸烯丙酯、 丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸乙烯酯、丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、 丙烯酸缩水甘油酯、2-异氰酸酯基乙基甲基丙烯酸酯、由其醇等形成的嵌段异 氰酸酯、2-氨乙基甲基丙烯酸酯、2-氨乙基丙烯酸酯、2-羟基乙基甲基丙烯 酸酯、2-羟基乙基丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐、二官能丙烯酸 酯、二官能甲基丙烯酸酯。用于本发明中的含有热反应性官能团的单体并不局 限于这些。
作为可以与这些单体共聚、不含有热反应性官能团的单体，可列举的是例 如苯乙烯、丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯、丙烯腈、醋酸乙烯。用于本发 明中的不含有热反应性官能团的单体并不局限于这些。
作为在聚合物聚合之后导入热反应性官能团的情况下使用的高分子反应， 可列举的是例如国际公开第96/34316号小册子中记载的高分子反应。
上述微粒子聚合物(a)中，优选与微粒子聚合物一起通过热量合为一体的 物质，更优选其表面为亲水性分散在水中的物质。另外，在仅仅涂敷微粒子聚 合物、在比凝固温度还低的温度下干燥制作时薄膜的相切角(空中水滴)，优选 比在比凝固温度还高的温度下干燥制作时薄膜的相切角(空中水滴)还低。
要使得这样的微粒子聚合物的表面成为亲水性，只要在微粒子聚合物的表 面上吸附聚乙烯醇、聚乙二醇等亲水性聚合物或低聚物、或者亲水性低分子化 合物，但是并不局限于这些。
微粒子聚合物(a)的凝固温度优选为70℃以上，但是如果考虑经时稳定 性则更优选100℃以上。
微粒子聚合物(a)的平均粒径优选为0.01～20μm，其中更优选为0.05～ 2.0μm，优选0.1～1.0μm。在此范围内可以获得良好的分辨率和经时稳定性。
微粒子聚合物(a)的添加量，优选为感热层固体成分的50wt％以上，更优 选为60wt％以上。
作为微胶囊(b)中合适的热反应性官能团，可列举的是例如，聚合性不饱 和基团、羟基、羧基、羧酸酯基、酸酐基、氨基、环氧基、异氰酸酯基、异氰 酸酯嵌段体。
作为含有聚合性不饱和基团的化合物，优选为含有至少1个、优选2个以 上乙烯性不饱和键例如丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基的化合物。 这样的化合物群是该工业领域中众所周知的化合物，在本发明中，并没有特别 地局限于这些可以使用。这些作为化学形态是单体、预聚物即二聚物、三聚物 及低聚物，或者它们的混合物，以及它们的共聚物。
具体可列举的是例如，不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、 巴豆酸、异巴豆酸、马来酸)、其酯、不饱和羧酸酰胺。其中，优选为不饱和羧 酸和脂肪族多元醇的酯以及不饱和羧酸和脂肪族多元胺的酰胺。
另外，含有羟基、氨基、巯基等亲核性取代基的不饱和羧酸酯或不饱和羧 酸酰胺与单官能或多官能异氰酸酯或环氧化物的加成产物，以及与单官能或多 官能羧酸的脱水缩合产物等也适合使用。
另外，含有异氰酸酯基、环氧基等亲电子性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺 与单官能或多官能醇、胺或硫醇的加成产物，以及含有卤素基团和对甲苯磺酰 氧基等脱离性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇、胺或硫醇的 置换产物也适合。
另外，作为其他合适的例子，可列举的是将上述不饱和羧酸替换为不饱和 膦酸或氯甲基苯乙烯的化合物。
不饱和羧酸和脂肪族多元醇的酯的聚合性化合物中，作为丙烯酸酯，可列 举的是例如二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸1，3-丁二醇酯、 二丙烯酸1，4-丁二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、三羟甲基 丙烷二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙 基)酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、二丙烯酸己二醇酯、二丙烯酸1，4-环己 二醇酯、二丙烯酸四甘醇酯、二丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯、四 丙烯酸季戊四醇酯、二丙烯酸二季戊四醇酯、五丙烯酸二季戊四醇酯、六丙烯 酸二季戊四醇酯、三丙烯酸山梨醇酯、四丙烯酸山梨醇酯、五丙烯酸山梨醇酯、 六丙烯酸山梨醇酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰尿酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物。
作为甲基丙烯酸酯，可列举的是例如二甲基丙烯酸1，4-丁二醇酯、二甲 基丙烯酸三甘醇酯、二甲基丙烯酸新戊二醇酯、三羟甲基丙烷甲基丙烯酸酯、 三羟甲基乙烷甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸1，3-丁 二醇酯、二甲基丙烯酸己二醇酯、二甲基丙烯酸季戊四醇酯、三甲基丙烯酸季 戊四醇酯、四甲基丙烯酸季戊四醇酯、二甲基丙烯酸二季戊四醇酯、六甲基丙 烯酸二季戊四醇酯、三甲基丙烯酸山梨醇酯、四甲基丙烯酸山梨醇酯、二[p- (3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、二[p-(甲基丙烯 酰氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷。
作为衣康酸酯，可列举的是例如二衣康酸乙二醇酯、二衣康酸丙二醇酯、 二衣康酸1，3-丁二醇酯、二衣康酸1，4-丁二醇酯、二衣康酸四亚甲基二醇 酯、二衣康酸季戊四醇酯、四衣康酸山梨醇酯。
作为巴豆酸酯，可列举的是例如二巴豆酸乙二醇酯、二巴豆酸四亚甲基二 醇酯、二巴豆酸季戊四醇酯、四巴豆酸山梨醇酯。
作为异巴豆酸酯，可列举的是例如二异巴豆酸乙二醇酯、二异巴豆酸季戊 四醇酯、四异巴豆酸山梨醇酯。
作为马来酸酯，可列举的是例如二马来酸乙二醇酯、二马来酸三甘醇酯、 二马来酸季戊四醇酯、四马来酸山梨醇酯。
作为其他酯，可列举的是例如特公昭46-27926号公报、同样51-47334 号公报、同样57-196231号公报中记载的脂肪族醇系酯类，和特开昭59-5240 号公报、同样59-5241号公报、特开平2-226149号公报中记载的含有芳香族 系骨架的酯、特开平1-165613号公报中记载的含有氨基的酯。
另外，作为脂肪族多元胺化合物与不饱和羧酸的酰胺单体的具体例子，可 列举的是亚甲基二丙烯酰胺、亚甲基二甲基丙烯酰胺、1，6-己二丙烯酰胺、1， 6-己二甲基丙烯酰胺、二亚乙基三胺三丙烯酰胺、苯二甲基二丙烯酰胺、苯二 甲基二甲基丙烯酰胺。
作为其他优选的酰胺系单体，可列举的是例如特开昭54-21726号公报中 记载的含有亚环己基结构的单体。
另外，使用异氰酸酯和羟基的加成反应制造的氨基甲酸乙酯系加成聚合性 化合物也适合，具体可列举的是例如特公昭48-41708号公报中记载的在1个 分子中含有2个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物中加成下面式(II)表示 的含有羟基的不饱和单体而得到的、1个分子中含有2个以上聚合性不饱和基团 的氨基甲酸乙酯化合物。 CH2＝C(R1)COOCH2CH(R2)OH (II) (其中，R1和R2分别表示H或CH3。)
另外，也可以作为合适例子列举的是如特开昭51-37193号公报、特公平 2-32293号公报、同样2-16765号公报中记载的尿烷丙烯酸酯和，特公昭58 -49860号公报、同样56-17654号公报、同样62-39417号公报、同样62- 39418号公报中记载的含有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸乙酯化合物。
另外，还可以作为合适例子列举的是特开昭63-277653号公报、同样63 -260909号公报、特开平1-105238号公报中记载的、分子内含有氨基结构和 硫化物结构的聚合性化合物。
作为其他合适的例子，可列举的是如特开昭48-64183号公报、特公昭49 -43191号公报、同样52-30490号公报中记载的聚酯丙烯酸酯类、环氧树脂和 (甲基)丙烯酸反应的环氧丙烯酸酯类等多官能的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。 另外，也可以作为合适例子列举的是特公昭46-43946号公报、特公平1-40337 号公报、同样1-40336号公报中记载的特定的不饱和化合物和特开平2-25493 号公报中记载的乙烯基膦酸系化合物等。另外，在某些情况下也适合列举的是 特开昭61-22048号公报中记载的含有全氟烷基的化合物。另外也适合例举的 是日本粘结协会志、20卷7号第300～308页(1984年)中作为光固性单体和 低聚物介绍的物质。
作为合适的环氧化合物，可列举的是例如，甘油聚缩水甘油基醚、聚乙二 醇二缩水甘油基醚、聚丙烯二缩水甘油基醚、三羟甲基丙烷聚缩水甘油基醚、 山梨醇聚缩水甘油基醚、双酚类或多元酚类或者它们加氢产物的聚缩水甘油基 醚。
作为合适的异氰酸酯化合物，可列举的是例如甲苯二异氰酸酯、二苯基甲 烷二异氰酸酯、聚亚甲基聚苯聚异氰酸酯、苯二甲基二异氰酸酯、萘二异氰酸 酯、环己烷亚苯基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、 环己基二异氰酸酯，或者用醇或胺将它们嵌段的化合物。
作为合适的胺化合物，可列举的是例如乙二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基 四胺、六亚甲基二胺、丙邻二胺、聚乙烯亚胺。
作为合适的含有羟基的化合物，可列举的是例如末端含有羟甲基的化合物、 季戊四醇等多元醇、双酚·多元酚类。
作为合适的含有羧基的化合物，可列举的是例如1，2，4，5-苯四酸、1， 2，4-苯三酸、苯二甲酸等芳香族多元羧酸、己二酸等脂肪族多元羧酸。
作为合适的酸酐，可列举的是例如1，2，4，5-苯四酸酐、二苯甲酮四羧 酸酐。
作为合适的乙烯状不饱和化合物的共聚物，可列举的是例如甲基丙烯酸烯 丙酯的共聚物。具体可列举的是例如，甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸共聚物、 甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸乙酯共聚物、甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸丁 酯共聚物。
作为微胶囊化的方法，公知的方法可以适用。例如，作为微胶囊的制造方 法可列举的是美国专利第2800457号说明书、同样第2800458号说明书中记载 的利用凝聚的方法，英国专利第990443号说明书、美国专利第3287154号说明 书、特公昭38-19574号公报、同样42-446号公报、同样42-711号公报中 记载的通过界面聚合法的方法，美国专利第3418250号说明书、同样第3660304 号说明书中记载的通过析出聚合物的方法，美国专利第3796669号说明书中记 载的使用异氰酸酯多元醇壁材料的方法，美国专利第3914511号说明书中记载 的使用异氰酸酯壁材料的方法，美国专利第4001140号说明书、同样第4087376 号说明书、同样第4089802号说明书中记载的使用尿素-甲醛系或尿素甲醛- 间苯二酚系壁形成材料的方法，美国专利第4025445号说明书中记载的使用蜜 胺-甲醛树脂、羟基纤维素等壁材的方法，特公昭36-9163号公报、同样51 -9079号公报中记载的通过单体原位聚合的方法，英国专利第930422号说明 书、美国专利第3111407号说明书中记载的喷雾干燥法，英国专利第952807号 说明书、同样第967074号说明书中记载的电解分散冷却法，但是本发明并不局 限于这些。
微胶囊(b)中适合使用的微胶囊壁，是含有三维桥键、具有通过溶剂膨胀 的性质的物质。从这样的观点来看，微胶囊的壁材优选是聚脲、聚氨酯、聚酯、 聚碳酸酯、聚酰胺或这些的混合物，特别优选的是聚脲和聚氨酯。另外，在微 胶囊壁中也可以导入含有热反应性官能团的化合物。
微胶囊(b)的平均粒径优选为0.01～20μm、更优选为0.05～2.0μm、特 别优选为0.10～1.0μm。如果在上述范围内，就可以获得良好的分辨率和经时 稳定性。
微胶囊(b)既可以是胶囊相互通过热合为一体，也可以不合为一体。主要 是微胶囊的内包物中涂敷时渗出胶囊表面或微胶囊外的物质，或者浸入微胶囊 壁的物质，最好通过热发生化学反应。也可以与添加的亲水性树脂或添加的低 分子化合物反应。另外，在2种以上的微胶囊中，通过分别使之具有不同官能 团相互热反应的官能团，微胶囊也可以相互反应。
因而，通过热微胶囊相互熔融合为一体在形成图像方面是优选的，但是不 是必须的。
微胶囊(b)向感热层中的添加量，换算成固体成分，优选为10～60wt％、 更优选为15～40wt％。如果是上述范围，可以获得良好的机上显象性、同时获得 良好的感光度和耐印性。
在向感热层中添加微胶囊(b)时，可以溶解内包物，同时向微胶囊分散剂 中添加壁材膨胀的溶剂。通过这样的溶剂，可以促进内包的含有热反应性官能 团的化合物向微胶囊外扩散。
这样的溶剂取决于微胶囊分散剂、微胶囊壁的材质、壁厚和内包物，但是 多数可以很容易从市场上出售的溶剂中选择。例如在由交联聚脲、聚氨酯构成 的水分散性微胶囊的情况下，优选醇类、醚类、乙缩醛类、酯类、酮类、多元 醇类、酰胺类、胺类、脂肪酸类等。
具体可列举的是例如，甲醇、乙醇、叔丁醇、正丙醇、四氢呋喃、乳酸甲 酯、乳酸乙酯、甲基乙基酮、丙二醇一甲基醚、乙二醇二乙基醚、乙二醇一甲 基醚、γ-丁内酯、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺，但是本发明 并不局限于这些。另外，也可以混合2种以上这些溶剂。
也可以使用在微胶囊分散液中不溶解、但是如果混合上述溶剂则溶解的溶 剂。添加量取决于原材料的组合，但是通常优选为涂敷液的5～95wt％，更优选 为10～90wt％，特别优选为15～85wt％。
作为记录层，在使用含有上述具有热反应性官能团的微粒子聚合物(a)或 包含具有热反应性官能团化合物的微胶囊(b)的感热层的情况下，根据需要也 可以添加这些引发或促进反应的化合物。作为引发或促进反应的化合物，可列 举的是例如通过热产生自由基或阳离子的化合物。具体可列举的是例如三苯咪 唑二聚物、三卤代甲基化合物、过氧化物、偶氮化合物、包含重氮盐或二苯基 碘翁盐等翁盐、酰基膦、亚氨基磺酸盐。
这些化合物优选在感热层固体成分的1～20wt％范围内添加，更优选在3～ 10wt％的范围内。如果在上述范围内，不会损害机上显象性，可以获得良好的 反应引发效果或反应促进效果。
感热层中也可以添加亲水性树脂。通过添加亲水性树脂不仅机上显象性变 得良好，而且也提高了感热层自体的薄膜强度。
作为亲水性树脂，优选为含有羟基、羧基、羟乙基、羟丙基、氨基、氨乙 基、氨丙基、羧甲基等亲水基团的树脂。
作为亲水性树脂的具体例子，可列举的是例如阿拉伯胶、酪蛋白、明胶、 淀粉衍生物、羧甲基纤维素及其钠盐、醋酸纤维素、海藻酸钠、醋酸乙烯-马 来酸共聚物类、苯乙烯-马来酸共聚物类、聚丙烯酸类及其盐、聚甲基丙烯酸 类及其盐、羟乙基甲基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟乙基丙烯酸酯的均聚物 及共聚物、羟丙基甲基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟丙基丙烯酸酯的均聚物 及共聚物、羟丁基甲基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟丁基丙烯酸酯的均聚物 及共聚物、聚乙二醇类、羟基丙烯聚合物类、聚乙烯醇类、水解度至少60wt％、 优选至少80wt％的水解聚醋酸乙烯酯、聚乙烯基缩甲醛、聚乙烯基丁缩醛、和聚 乙烯基吡咯烷酮、丙烯酰胺的均聚物及共聚物、甲基丙烯酰胺的均聚物及聚合 物、N-羟甲基丙烯酰胺的均聚物及共聚物。
亲水性树脂向感热层中的添加量，优选为感热层固体成分的5～40wt％、更 优选为10～30wt％。如果是上述范围，可以获得良好的机上显象性和薄膜强度。
为了提高感光度，在感热层上可以含有吸收红外线并发热的光热转换剂。 这样的光热转换剂只要是在700～1200nm的至少一部分中具有吸收带的光吸收 物质，就可以使用各种颜料、染料和金属微粒子。
作为颜料的种类，可列举的是例如黑色颜料、褐色颜料、红色颜料、紫色 颜料、蓝色颜料、绿色颜料、荧光颜料、金属粉颜料、其他聚合物结合颜料。 具体可列举的是例如不溶性偶氮颜料、偶氮沉淀(アゾレ-キ)颜料、缩合偶氮 颜料、螯合偶氮颜料、酞菁系染料、蒽醌系颜料、二萘嵌萘颜料及ペリノン (perynon)系颜料、硫靛系颜料、喹吖啶酮系颜料、二恶嗪系颜料、异吲哚酮(イ ソインドリノン)系颜料、喹酞酮系颜料、光敏处理的沉淀颜料、吖嗪颜料、 亚硝基颜料、硝基颜料、天然颜料、荧光颜料、无机颜料、碳黑。
在本发明中，可以使用市场上出售的颜料，以及染料索引(C.I.)手册、 《最新颜料手册》(日本颜料技术协会编，1977年刊)、《最新颜料应用技术》 (CMC出版，1986年刊)和《印刷油墨技术》(CMC出版，1984年刊)中记载的 红外吸收性颜料。
颜料既可以不进行表面处理使用，也可以进行表面处理使用。作为表面处 理的方法，可列举的是例如表面涂敷亲水性树脂和亲油性树脂的方法、粘附表 面活性剂的方法、在颜料表面上结合反应性物质(例如硅溶胶、氧化铝溶胶、 硅烷偶合剂和环氧化合物、异氰酸酯化合物)的方法。上述表面处理方法记载 在《金属皂碱的性质和应用》(幸书房)、《印刷油墨技术》(CMC出版，1984年 刊)和《最新颜料应用技术》(CMC出版，1986年刊)中。这些颜料中，吸收红 外线的颜料在适用于红外线发光的激光器中方面是优选的。作为这样吸收红外 线的颜料优选为碳黑。
颜料的粒径优选在0.01～1μm的范围内，更优选在0.01～0.5μm的范围 内。
作为染料，可以使用市场上出售的染料和、文献(例如，《染料手册》(有 机合成化学协会编集，昭和45年刊)、《化学工业》1986年5月号第45～51的 “近红外吸收色素”、“90年代功能性色素的开发和市场动向”第2章2.3项 (1990)CMC)或专利中记载的公知的染料。
具体优选的是偶氮染料、金属络合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、蒽醌 染料、酞菁染料、碳翁染料、醌亚胺染料、多次甲基染料、花青染料等红外线 吸收染料。
另外，可列举的是例如特开昭58-125246号公报、同样59-84356号公报、 同样60-78787号等中记载的花青染料，特开昭58-173696号公报、同样58 -181690号公报、同样58-194595号等中记载的次甲基染料，特开昭58- 112793号公报、同样58-224793号公报、同样59-48187号公报、同样59- 73996号公报、同样60-52940号公报、同样60-63744号等中记载的萘醌染料， 特开昭58-112792号等中记载的スクワリリウム(squarilium)染料，英国专 利第434875号说明书中记载的花青染料，美国专利第4756993号说明书中记载 的染料，美国专利4973572号说明书中记载的花青染料，特开平10-268512号 公报中记载的染料，同样11-235883号公报中记载的酞菁化合物。
另外，作为染料美国专利第5156938号说明书中记载的近红外吸收敏感剂 也适合使用，另外美国专利第3881924号说明书中记载的取代的芳基苯并(硫 代)芘盐，特开昭57-142645号中记载的三次甲基噻喃翁盐，特开昭58-181051 号公报、同样58-220143号公报、同样59-41363号公报、同样59-84248号 公报、同样59-84249号公报、同样59-146063号公报、同样59-146061号 公报中记载的芘系化合物，特开昭59-216146号公报中记载的花青染料，美国 专利第4283475号说明书中记载的五次甲基噻喃翁盐等和特公平5-13514号公 报、同样5-19702号公报中记载的芘化合物，挨剖林(エポリン)公司制造的 挨剖来的(エポライト)III-178、挨剖来的(エポライト)III-130、挨剖 来的(エポライト)III-125等也适合使用。
这些当中，优选的染料是水溶性染料。下面表示具体的例子。 化2和化3 【化2】 【化3】
作为可以与感热层微胶囊的亲油性的含有热反应性官能团的化合物一起使 用的光热转换剂，也可以使用上述红外线吸收染料，但是更优选使用亲油性的 染料。作为具体例子，可列举以下花青染料。 (P55，化4) 【化4】
上述有机类的光热转换剂，优选以多达30wt％的范围添加至感热层中。更 优选为5～25wt％，特别优选7～20wt％。如果在上述范围内，可以获得良好的感 光度。
在感热层中，作为光热转换剂也可以使用金属微粒子。金属微粒子多数具 有光热转换性、并且具有自发热性。作为优选的金属微粒子，可列举的是例如 Si、Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Ag、Au、Pt、Pd、 Rh、In、Sn、W、Te、Pb、Ge、Re、Sb的单质或合金，或者这些氧化物或硫化物 的微粒子。
在构成这些金属微粒子的金属中优选的金属，是在光照射时通过热容易形 成合为一体、熔点约1000℃以下并且在红外、可见光或紫外线区域有吸收的金 属，例如Re、Sb、Te、Au、Ag、Cu、Ge、Pb、Sn。
另外，特别优选的是熔点比较低、相对红外线的吸光度又比较高的金属微 粒子，例如Ag、Au、Cu、Sb、Ge、Pb，作为最优选的元素，可列举的是Ag、Au、 Cu。
另外，可以混合使用例如Re、Sb、Te、Au、Ag、Cu、Ge、Pb、Sn等低熔点 金属的微粒子和Ti、Cr、Fe、Co、Ni、W、Ge等自发热性金属的微粒子，也可 以用2种以上的光热转换物质构成。另外在制作AgPtPd等微小片时组合光吸收 特别大的金属种的微小片和其他金属微小片使用也是优选的。
这些粒子的粒径，优选为10μm以下，更以下为0.003～5μm，特别优选 为0.01～3μm。如果在上述范围内，可以获得良好的感光度和分辨力。
在本发明中，在使用这些金属微粒子作为光热转换剂时，其添加量优选为 感热层固体成分的10wt％，更优选为20wt％以上，特别优选为30wt％以上。如果 在上述范围内，可以获得较高的感光度。
感热层的邻接层即底涂层和下面所述的水溶性外涂层中也可以含有光热转 换剂。通过使得感热层、底涂层和外涂层中至少一个层含有光热转换剂，可以 提高红外线的吸收效率、提高感光度。
另外根据需要，感热层中还可以添加除上述之外各种化合物。例如，为了 进一步提高耐刷力，可以在感热层基体中添加多官能单体。作为该多官能单体， 可以使用作为微胶囊中加入的单体所例举的单体。作为特别优选的单体，可以 列举三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。
另外，为了在感热层中、在形成图像之后容易产生图像部分和非图像部分 的区别，可以使用可见光区域中具有较大吸收的染料作为图像的着色剂。具体 可列举的是油黄#101、油黄103、油粉红312、油绿BG、油蓝BOS、油蓝#603、 油黑BY、油黑BS、油黑T-505(以上由哦林岸特(オリエント)化学工业公司制 造)、维多利亚纯蓝、龙胆紫(CI42555)、甲基紫(CI42535)、乙基紫、若丹明 B(CI145170B)、孔雀绿(CI42000)、亚甲蓝(CI52015)、特开昭62-293247号 公报中记载的染料。另外，酞菁系颜料、偶氮系颜料、氧化钛等颜料也能够适 合使用。添加量相对于感热层涂敷液的全部固体成分优选为0.01～10wt％。
另外，在本发明中，为了阻止在感热层涂敷液的调制中和保存中乙烯性不 饱和化合物不需要的热聚合，优选添加少量的热聚合抑制剂。作为适合的热聚 合抑制剂，可列举的是例如氢醌、对甲氧基苯酚、二叔丁基对甲酚、苯三酚、 叔丁基邻苯二酚、苯醌、4，4’-硫代二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2’-亚 甲基二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基-N-羟基苯胺铝盐。热聚合抑制 剂的添加量优选为相对于总组合物重量的约0.01～5wt％。
另外根据需要，为了防止由于氧产生的聚合阻碍，也可以添加二十二烷酸 和二十二酸酰胺之类的高级脂肪酸及其衍生物、在涂敷后的干燥过程中普遍存 在于感热层的表面上。高级脂肪酸及其衍生物的添加量优选为感热层固体成分 的约0.1～约10wt％。
另外，在感热层中，根据需要可以加入用于赋予涂层柔软性等的增塑剂。 作为增塑剂，可列举的是例如聚乙二醇、柠檬酸三丁酯、邻苯二甲酸二乙酯、 邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二己酯、邻苯二甲酸二辛酯、磷酸三甲苯酯、 磷酸三丁酯、磷酸三辛酯、油酸四氢糠酯。
感热层是将必需的上述各成分溶解在溶剂中调制成涂敷液，然后涂敷。作 为这里使用的溶剂，可列举的是例如二氯乙烯、环己酮、甲基乙基酮、甲醇、 乙醇、丙醇、乙二醇一甲基醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-甲氧基乙基乙缩醛、1- 甲氧基-2-丙基乙缩醛、二甲氧基乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N，N-二甲基 乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、四甲基脲、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、环丁 砜、γ-丁内酯、甲苯、水，但是并不局限于此。这些溶剂可以单独或混合使 用。涂敷液的固体成分浓度优选为1～50wt％。
另外，涂敷并干燥后得到的支撑体上的感热层涂敷量(固体成分)，根据用 途而不同，但是一般优选为0.5～5.0g/m2。如果涂敷量比上述范围少，表观感 光度变大，但是完成图像记录功能的感热层的薄膜特性降低。作为涂敷的方法， 可以使用各种方法。可列举的是例如棒涂、旋涂、喷涂、帘膜式涂敷、浸涂、 气刀式涂敷、刀片式涂敷、滚涂。
在感热层的涂敷液中，可以加入用于提高涂敷性的表面活性剂例如特开昭 62-170950号公报中记载的氟系表面活性剂。添加量优选为感热层固体成分的 0.01～1wt％，更优选为0.05～0.5wt％。
在本发明的平版印刷版原版中，为了防止由于亲油性物质造成的感热层表 面的污染，在感热层上可以设置水溶性的外涂层。本发明中使用的水溶性外涂 层是在印刷时可以很容易除去的涂层，含有选自水溶性的有机高分子化合物的 树脂。
作为水溶性的有机高分子化合物，可列举的是可以通过涂敷干燥、涂膜含 有薄膜形成能的物质。具体可例举的是聚醋酸乙烯酯(其中水解率为65％以上的 物质)；聚丙烯酸、其碱金属盐或胺盐；聚丙烯酸共聚物、其碱金属盐或胺盐； 聚甲基丙烯酸、其碱金属盐或胺盐；聚甲基丙烯酸共聚物、其碱金属盐或胺盐； 聚丙烯酰胺、其共聚物；聚羟乙基丙烯酸酯；聚乙烯基吡咯烷酮、其共聚物； 聚乙烯基甲基醚；乙烯基甲基醚/马来酸酐共聚物；聚-2-丙烯酰胺-2-甲基 -1-丙磺酸、其碱金属盐或胺盐；聚-2-丙烯酰胺-2-甲基-1-丙磺酸共 聚物、其碱金属盐或胺盐；阿拉伯胶；纤维素衍生物(例如羧甲基纤维素、羧 乙基纤维素、甲基纤维素)、其变性体；白糊精；呋喃(プルラン)；发酵醚化 糊精。另外，根据目的，可以混合2种以上这些物质使用。
另外，在外涂层上也可以添加上述光热转换剂。
作为光热转换剂使用的颜料，为了提高相对于添加层的分散性，根据需要 可以进行公知的表面处理使用。作为表面处理的方法，可列举上述方法。
添加至外涂层的颜料，优选是表面用水溶性树脂和容易分散并且不损害亲 水性的亲水性树脂和硅溶胶涂敷的颜料。作为分散颜料的方法，可以使用可用 于油墨制造、色粉制造等中的公知的分散技术。
作为特别优选的颜料，可列举的是碳黑。
在使用颜料系和染料系光热转换剂的情况下，其添加比例优选为外涂层固 体成分的1～70wt％，更优选为2～50wt％。
如果在上述范围内，可以获得良好的感光度，但是在外涂层中添加光热转 换剂的情况下，根据其添加量，可以有时减少感热层和底涂层的光热转换剂的 添加量，有时不添加。
另外，为了确保外涂层中涂敷的均匀性，在水溶液涂敷的时候，可以添加 聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯十二烷基醚等非离子系表面活性剂。
外涂层的干燥涂敷量，优选为0.1～2.0g/m2。在该范围内不损害机上显影 性，通过指纹粘附的污渍等亲油性物质可以很好地防止感热层表面的污染。
在本发明的平版印刷版原版中，作为记录层也可以使用除了上述含有(a) 具有热反应性官能团的微粒子聚合物或(b)包含具有热反应性官能团化合物的 微胶囊的感热层以外的记录层。可列举的是例如使用负型红外线激光记录材料 的感光层、使用正型红外线激光记录材料的感光层、使用磺酸盐型红外线激光 材料的感光层。
在制造本发明的平版印刷版原版可以在红外线激光中曝光的负型平版印刷 版、所谓热负片型平版印刷版原版的情况下，优选使用负型红外线激光记录材 料设置感光层。
作为负型红外线激光记录材料，适合使用由(A)通过光或热分解并产生酸 的化合物、(B)通过酸交联的交联剂、(C)碱可溶性树脂、(D)红外线吸收剂 和(E)通式(R3-X)n-Ar-(OH)m表示的化合物(式中，R3表示碳原子数 为6～32的烷基或烯基，X表示单键、O、S、COO或CONH，Ar表示芳香族烃基、 脂肪族烃基或杂环基团，n表示1～3的整数，m表示1～3的整数。)组成的组 合物。
一般来说，热负片型平版印刷版原版存在所谓在显影后指纹容易粘附、图 像部分的强度减弱的缺陷，但是这样的缺陷可以通过上述组合物形成感光层来 消除。
作为(A)通过光或热分解产生酸的化合物，可列举的是代表特愿平3- 140109号说明书(特开平04-365048号公报)中记载的亚氨基磺酸盐、光分解 产生磺酸的化合物，又可列举的是通过200～500nm波长的照射或100℃以上的 加热产生酸的化合物。
作为合适的酸产生剂，可列举的是例如光阳离子聚合引发剂、光自由基聚 合的引发剂、色素类的光脱色剂、光变色剂。这些酸产生剂优选以相对于记录 材料总固体含量0.01～50wt％的量添加。
作为(B)通过酸交联的交联剂，适合列举的是例如(i)用烷氧基甲基或 羟基取代的芳香族化合物、(ii)含有N-羟基甲基、N-烷氧基甲基或N-酰基 氧甲基的化合物、(iii)环氧化合物。
作为(C)碱可溶性树脂，可列举的是例如酚醛树脂和侧链上含有羟基芳基 的聚合物。
作为(D)红外线吸收剂，可列举的是例如有效吸收760～1200nm红外线的 偶氮染料、蒽醌染料、酞菁染料等市场上出售的染料；染料索引中记载的黑色 颜料、红色颜料、金属粉颜料、酞菁系颜料。另外，为了提高图像的易见性， 优选添加油黄、油蓝#603等图像着色剂。另外，为了改善感光层涂膜的柔软性， 可以添加聚乙二醇和邻苯二甲酸酯之类的增塑剂。
另外，在制造本发明的平版印刷版原版可以在红外线激光中曝光的正型平 版印刷版、所谓热正片型平版印刷版原版的情况下，优选使用正型红外线激光 记录材料设置感光层。
作为正型红外线激光记录材料，适合使用由(A)碱可溶性高分子、(B)与 该碱可溶性高分子互溶并使得碱溶解性降低的化合物和(C)吸收红外激光的化 合物组成的正型红外线激光记录材料。
如果使用该正型红外线激光记录材料，可以消除非图像部分相对于碱性显 影液溶解性不足，另外可以制得难以破损、图像部分的耐碱性显影适应性方面 优良、图像稳定性好的平版印刷版原版。
作为碱可溶性高分子，可列举的是例如(i)苯酚树脂、甲酚树脂、酚醛树 脂、苯三酚树脂等代表的含有酚性羟基的高分子化合物、(ii)使得含有磺酰胺 基团的聚合单体单独聚合或与其他聚合性单体共聚得到的化合物、(iii)N- (对甲苯磺酰基)甲基丙烯酰胺、N-(对甲苯磺酰基)丙烯酰胺等代表的分子 内含有活性亚氨基的化合物。
作为(B)与上述(A)成分互溶并使得碱溶解性降低的化合物，可列举的 是例如砜化合物、铵盐、锍盐、酰胺化合物等与上述(A)成分相互作用的化合 物。例如在上述(A)成分是酚醛树脂的情况下，作为(B)成分适合列举的是 花青色素。
作为(C)吸收红外激光的化合物，优选在750～1200nm红外区域有吸收带、 具有光/热转换功能的材料。作为具有这样功能的材料，可列举的是例如是库洼 里屋木(スクワリリウム)色素、扑里屋木(ピリリウム)盐色素、碳黑、不 溶性偶氮染料、蒽醌系染料。这些优选为0.01～10μm范围的大小。
热正片型平版印刷版原版可以通过如下步骤制得：将该正型红外线激光记 录材料溶解在甲醇、甲基乙基酮等有机溶剂中，根据需要添加染料，在支撑体 上涂敷并干燥使得干燥后的重量为1～3g/m2。
另外，在本发明的平版印刷版原版中，作为记录层也可以使用磺酸盐型红 外线激光记录材料。
作为磺酸盐型红外线激光记录材料，可以使用例如专利第270480号说明 书、专利第2704872号说明书等中记载的磺酸盐化合物。另外也可以使用通过 由红外线激光照射产生的热产生磺酸、可溶于水的感光材料，用溶胶凝胶固定 苯乙烯磺酸酯、然后照射红外线激光表面极性改变的感光材料，和特愿平9- 89816号说明书(特开平10-282646号公报)、特愿平10-22406号说明书(特 开平11-218928号公报)、特愿平10-027655号说明书(特开平10-282672 号公报)中记载的通过激光曝光疏水性表面改变至亲水性的感光材料。
另外，为了进一步改善由该通过热产生磺酸基的高分子化合物组成的感光 层的特性，优选结合使用下面列举的方法。作为这样的方法，可列举的是例如 (1)特愿平10-7062号说明书(特开平11-202483号公报)中记载的通过结 合使用酸或碱发生剂的方法、(2)特愿平9-340358号说明书(特开平11- 174685号公报)中记载的设置特定中间层的方法、(3)特愿平9-248994号说 明书(特开平11-84658号公报)中记载的结合使用特定交联剂的方法、(4) 特愿平10-115354号说明书(特开平11-301131号公报)中记载的以固体粒 子表面修饰的形式使用的方法。
另外，作为利用通过激光曝光产生的热改变感光层的亲/疏水性的组合物的 其他例子，可列举的是例如美国专利第2764085号说明书中记载的由Werner络 合物组成的通过热改变至疏水性的组合物、特公昭46-27219号公报中记载的 特定糖类、蜜胺甲醛树脂等通过曝光改变至亲水性的组合物、特开昭51-63704 号公报中记载的通过加热方式曝光改变至疏水性的组合物、美国专利第4081572 号说明书中记载的由像邻苯二甲酰肼那样通过加热脱水/疏水化的聚合物组成 的组合物、特公平3-58100号公报中记载的具有四唑翁盐结构并通过加热亲水 化的组合物、特开昭60-132760号公报中记载的由磺酸改性聚合物组成的通过 曝光疏水化的组合物、特开昭64-3543号公报中记载的由亚氨基前体聚合物组 成的通过曝光疏水化的组合物、特开昭51-74706号公报中记载的由氟化碳聚 合物组成的通过曝光亲水化的组合物，可以使用这些组合物形成记录层。
另外，可列举的是特开平3-197190号公报中记载的由疏水性结晶性聚合 物组成的通过曝光改变至亲水性的组合物、特开平7-186562号公报中记载的 由通过加热不熔化的侧基改变至亲水性的聚合物和光热转换剂组成的组合物、 特开平7-1849号公报中记载的由含有微胶囊的三维交联的亲水性粘合剂组成 的通过曝光疏水化的组合物、特开平8-3463号公报中记载的原子价异构化或 质子移动异构化的组合物、特开平8-141819号公报中记载的通过加热发生层 内的相结构改变(相熔化)、改变亲/疏水性的组合物、特公昭60-228号公报 中记载的通过加热表面形态、表面的亲/疏水性改变的组合物，可以使用这些组 合物形成记录层。
在本发明中，作为用于记录层的优选记录材料的其他例子，可列举的是利 用由高功率和高密度的激光产生的热量、所谓通过加热方式曝光改变感光层和 支撑体之间的粘结性的组合物。具体可列举的是特公昭44-22957号公报中记 载的由热粘性物质或热反应性物质组成的组合物。
如此得到的本发明的平版印刷版原版，其特征在于在设置上述记录层之后 的阳极氧化薄膜的剖切面上，用下面式(1)表示的碳和铝的原子数比(C/Al) 为1.0以下。 C/Al＝(Ic/Sc)/(Ia1/Sa1) (1) Ic：碳(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度 Ia1：铝(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度 Sc：碳(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数 Sa1：铝(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数
对于碳和铝的原子数比(C/Al)的计算方法，采用附图进行更具体地说明。
图1是对于平版印刷版原版的阳极氧化薄膜的剖切面进行俄歇电子分光分 析得到的一例示意图。图1中，C是碳的峰，Al是铝的峰，O是氧的峰。俄歇电 子分光分析可以通过如下步骤进行：在即将分析之前将平版印刷版原版折弯几 乎180℃制成阳极氧化薄膜的剖切面，固定在俄歇电子分光分析装置附属的样品 架上，导入装置内。
从图1可以求出Ic(碳(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度)和Ia1(铝 (KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度)。Sc(碳(KLL)的俄歇电子的相对感光 度系数)值为0.076，Sa1(铝(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数)值为0.105， 通过将求出的Ic和Ia1值代入上述式(1)中，算出C/Al。在图1中，C/Al＝ 0.76。
还有，C/Al优选采用阳极氧化薄膜的剖切面的多个点(例如5点)进行俄 歇电子分光分析，求出其平均值。
以下表示一例俄歇电子分光分析的条件。 测定机器：FE-AES型SMART-200，阿路半促库发乙(アルバツクファイ)公司 制造 照射电流：约10nA 加速电压：10kV 照射电子束径：聚焦 腔室内压：约1×10-10Torr(约1.33×10-8Pa) 检测范围：20～2020eV、0eV/step，20ms/step 放大器电压：2250V
在本发明中，在设置记录层后的阳极氧化薄膜的剖切面上C/Al为1.0以下， 优选为0.8以下。C/Al为1.0以下，通过抑制侵入阳极氧化薄膜的微孔中，可 以较低地维持设置记录层后的阳极氧化薄膜的热传导率，由此本发明的平版印 刷版原版在制作平版印刷版时的耐印性、感光度和耐污渍性均变得优良。
下面，针对本发明中使用的铝支撑体的制造装置进行说明。
作为本发明中使用的铝支撑体的制造过程，优选为(1)将轧制、卷绕成螺 旋状的铝板从由多轴转塔组成的送经装置中输出，(2)在上述各处理(机械的 表面粗化处理、电化学的表面粗化处理、碱性腐蚀处理、酸性腐蚀处理、去斑 处理、阳极氧化处理、扩孔处理(酸处理或碱处理)、封孔处理、亲水性表面处 理等)之后，干燥处理铝板，(3)将铝板在上述由多轴转塔组成的卷绕装置中 卷绕成螺旋状，或者矫正铝板的平面性，然后切割成规定的长度并集聚。另外， 根据需要，在上述过程中也可以设置形成底涂层和记录层并干燥处理的工序， 通过上述卷绕装置将平版印刷版原版卷绕成螺旋状。
另外，在铝支撑体的制造中，优选具有1个以上使用检查铝板表面缺陷的 装置连续检查该缺陷、在发现的缺陷铝板的边缘部分粘贴目标标签的工序。另 外，在本发明的平版印刷版原版的制造中，优选设置在铝板输出工序和卷绕工 序中，在铝卷材交换的时候即使停止该铝板的移动，也能保持在上述各工序中 铝板的移动速度恒定的备用装置，在上述铝卷材输出工序之后，优选设置超声 波或电弧焊接铝板的接合工序。
铝支撑体制造中使用的装置，优选具有1个以上测量铝板的移动位置并矫 正移动位置的装置，另外，优选分别具有1个以上用于控制铝板张力降低(カツ ト)和移动速度的驱动装置和用于控制张力的张力调节装置。
另外，也优选用跟踪装置记录各工序的状态是否是希望的条件，在铝卷材 卷绕之前，在铝连结板(ウエブ)的边缘部分粘贴标签，在其标签后可以判定 是否是希望的条件。
在本发明中，优选使得铝板与合纸一起带电并相互吸附，然后切割和/或分 割成规定的长度。另外，优选根据在铝板边缘部分粘贴的标签的信息，在裁剪 成规定长度之后或裁剪之前，以其标签作为标记区分合格品部分和次品部分， 仅仅收集合格品部分。
在含有上述输出工序等各工序中，根据铝板的尺寸(厚度和宽度)、铝的材 质和铝连结板的移动速度，在各自的条件下设定最佳的张力是重要的。因此， 优选利用用于控制张力降低和移动速度的驱动装置和用于控制张力的张力调节 装置，设置多个反馈控制来自张力传感装置信号的张力控制装置。驱动装置一 般使用组合直流马达和主驱动滚筒的控制方法。主驱动滚筒以一般的树胶作为 材质，但是铝连结板在湿(wet)状态的工序中可以使用层压无纺织物制作的滚 筒。另外，作为各通道辊子(パスロ-ラ)，一般可以使用树胶或金属，但是在 铝连结板和容易产生滑动的地方为了防止滑动，在各通道辊子(パスロ-ラ) 上也可以设置连接马达和减速机、通过来自主驱动装置的信号以恒定的速度旋 转控制等辅助的驱动装置。
本发明中使用的铝支撑体，如特开平10-114046号公报中记载的那样，在 以轧制方向的算术平均粗糙度(Ra)作为R1，以宽方向的算术平均粗糙度(Ra) 作为R2的情况下，R1-R2优选在R1的30％以内，另外优选的是轧制方向的平均曲 率为1.5×10-3mm-1以下，宽方向的平均曲率为1.5×10-3mm-1以下，轧制方向和垂 直方向的平均曲率为1.0×10-3mm-1以下。
另外，进行上述表面粗化处理等制造的铝支撑体，优选使用滚筒直径为20～ 80mm、树胶硬度为50～95度的矫正滚筒矫正。由此，即使在平版感光印刷机的 自动传送工序中，也可以供给不会产生平版印刷版原版曝光偏移的平面性的铝 螺旋状的粗加工薄板。在特开平9-194093号公报中，记载了连结板的卷曲测定 方法及装置、卷曲校正方法及装置、以及连结板切断装置，本发明中也可以使 用这些。
另外，当连续制造铝支撑体时，电监测各工序是否在适当的条件下运行， 用跟踪装置记录各工序的状态是否是希望的条件，在铝卷材卷绕之前，在铝连 结板的边缘部分粘贴标签，之后通过其标签可以判断是否是希望的条件，在裁 剪、收集时可以判定其部分是否合格。
在上述表面粗化处理中使用的铝板的处理装置，优选是测定液体温度、比 重、电导率、超声波的传播速度中的一个以上，求出液体的组成，并进行反馈 控制，和/或前馈控制控制液体浓度恒定的装置。
在上述处理装置中的酸性水溶液中，开始为铝离子的铝板中含有的成分伴 随着铝板表面处理的进行而溶解。因此，为了保持铝离子浓度和酸或碱的浓度 恒定，优选间隙地添加水和酸或者水和碱并保持液体组成恒定。这里添加的酸 或碱的浓度优选为10～98wt％。
在控制上述酸或碱的浓度中，优选例如以下的方法。
首先，预先每次在各温度下测定预定使用的浓度范围内每个成分溶液的导 电率、比重或超声波的传播速度并作出数据表。然后参照预先作出被测定液的 导电率、比重或超声波的传播速度和温度数据的被测定液的数据表测定浓度。 高精度、高稳定地测定上述超声波的传播时间的方法，记载在特开平6-235721 号公报中。另外，对于利用上述超声波的传播速度测定浓度的系统，记载在特 开昭58-77656号公报中，另外，预先作出表示涉及每个液体成分的多个物理量 数据的数据表、并参照该数据表测定多成分液体的浓度的方法，记载在特开平 4-19559号公报中。
如果将采用上述超声波传播速度的浓度测定方法结合被测定液的导电率和 温度值并应用于铝支撑体的表面粗化工序中，由于实时准确进行操作的管理， 就会制造恒定质量的制品，牵连到产率的提高。另外，如果将不仅结合温度、 超声波的传播速度和导电率，而且使用温度和比重、温度和导电率、温度和导 电率和比重等各自的物理量预先作出对于每个浓度和温度的数据表、并参照该 数据表测定多成分液体的浓度的方法应用于铝支撑体的表面粗化处理工序中， 可以获得与上述同样的效果。
另外，通过参照测定比重和温度、预先作出的数据表求出被测定物的浆液 浓度，也会迅速并且准确地进行浆液浓度的测定。
由于上述超声波传播速度的测定容易受到溶液中气泡的影响，因此更优选 在垂直配置并且从下方向上方流动的某个管路中进行。上述超声波传播速度的 测定，优选在管路内的压力为1～10kg/cm2的压力范围内进行，超声波的频率优 选为0.5～3MHz。
另外，由于上述比重、导电率、超声波传播速度的测定容易受到温度的影 响，因此优选在处于保温状态、并且温度变动控制在±0.3℃以内的管路内测定。 另外，由于导电率和超声波的传播速度优选在相同温度下测定，因此特别优选 在相同管路内和相同管路液流内测定。由于测定时的压力变动牵连到温度的变 动，因此优选尽可能低。另外，测定的管路内的流速分布也优选尽可能的少。 另外，由于上述测定容易受到浆液、废渣和气泡的影响，优选测定通过过滤器 和脱气装置等的溶液。
由此制得的本发明平版印刷版原版通过加热形成图像。具体地讲，通过热 记录头等的直接图像样记录、通过红外线激光的扫描曝光、加能闪光灯等高照 度闪光曝光、通过红外灯的固体高功率红外线激光曝光是适合的。
在本发明的平版印刷版原版是含有(a)具有热反应性官能团的微粒子聚合 物或(b)包含具有热反应性官能团化合物的微胶囊、所谓机上显影型感热层的 情况下，可以在图像曝光之后没有以上处理而装载在印刷机上，使用油墨和/或 润版药水按照通常的顺序印刷。另外，如专利第2938398号说明书中所记载的， 在安装在印刷机滚筒上之后，通过装载在印刷机上的激光曝光，然后涂上油墨 和/或润版药水，也可以机上显影。在这些情况下，由于通过印刷机上的油墨和 /或润版水除去感热层，不需要其他显影工序，另外在显影之后，不需要停止用 于印刷的印刷机，可以在显影结束后立即继续进行印刷。
即，本发明的原版印刷版的制板及印刷方法，其特征在于设置机上显影型 感热层的平版印刷版原版通过激光进行图像曝光然后直接安装在印刷机上进行 印刷，或者安装在印刷机上之后通过激光进行图像曝光然后直接印刷。作为激 光，可以使用放射760～1200nm红外线的固体激光或半导体激光。
还有，即使在含有机上显影型感热层的情况中，也可以在使用水或适当的水 溶液作为显影液进行显影之后，用于印刷。
另外，在本发明的平版印刷版原版含有现有热正片型或热负片型记录层的情 况下，可以按照通常的方法，在图像曝光之后，通过显影液显影，装载在印刷 机上，供于印刷。
对于上述各项中记载的各处理的详细内容，适宜采用公知的条件。另外，本 说明书中列举的文献的内容引用并作为本说明书的内容。
用作本发明的平版印刷版原版的铝板是由以外形尺寸稳定的铝为主要成 分的金属，即铝或铝合金制成的。除了纯铝板之外，还可以采用以铝为主要成 分的含有微量其它元素的合金板、层压铝或铝合金或蒸镀铝或铝合金而成的塑 料片或纸片。进而，还可以采用如日本专利申请公开昭48-18327号公报上记载 的那样，在聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜上结合铝薄层而成的复合为一体薄层。
本发明所采用的铝板没有特别的限定，但是采用纯铝板是最合适的。由于 完全纯粹的铝在炼制技术上是很难制造的，因此采用稍微带些其它元素的铝板 也是可以的。适当地采用例如铝手册第4版(轻金属协会(1990))上记载的公 知材料，具体地说，例如JIS A1050、JIS A1100、JIS A3005，国际登记合金3103A 等的铝合金板都是可以的。此外，也可以使用铝(Al)的含量为99.4～95wt％、 且在后述范围内含有铁(Fe)、硅(Si)、铜(Cu)、镁(Mg)、锰(Mn)、 锌(Zn)、铬(Cr)及钛(Ti)中的至少5种以上的铝合金、废铝材或者使用二 次生铁的铝板。
本发明中，为了降低成本，还可以使用Al的含量为95～99.4wt％的铝板。 当Al的含量超过99.4wt％时，由于杂质的允许量减少了，会导致成本上升。而当 Al的含量不满95wt％时，杂质的含量增多，会导致轧制中出现裂纹等问题。较好 的情况是Al的含量为95～99wt％，最好是在95～97wt％。
Fe的含量最好为0.1～1.0wt％。Fe是即使新生铁中也含有0.1～0.2wt％左右 的元素，在Al中固溶的量减少了，几乎都作为金属间化合物残存。Fe的含量如 果超过1.0wt％，就容易在轧制过程中产生裂纹，如果不满0.1wt％，则不能降低 成本。较好的情况是Fe的含量为0.3～1.0wt％。
Si的含量最好是0.03～1.0wt％。Si是JIS2000系列、4000系列、6000系列 材料的碎屑中含量较高的元素。而且Si是即使在新生铁中也含有0.03～0.1wt％ 左右的元素，它在Al中呈固溶的状态，或者作为金属间化合物存在。如果在支 撑体的制造过程中对铝板加热，固溶的Si变为单体Si析出。众所周知，单体Si与FeSi系的金属间化合物对耐苛刻的油墨污渍性有很坏的影响。在此，所谓“苛 刻的油墨污渍”是指印刷几次中断后再进行时，平板印刷版的非图像部分表面 上容易附着油墨，其结果印后的纸张等表面上出现点状或圆环状的污渍。一旦 Si的含量超过1.0wt％，例如，后述用硫酸处理(去斑处理)中可能无法完全除 去，但是如果不到0.15wt％，则会削弱降低成本的效果。最好Si的含量是0.05～ 1.0wt％。
Cu的含量较好是0.000～1.0wt％，最好是0.000～0.3wt％。Cu是在JIS2000 系列、4000系列的材料碎屑中含量较高的元素。Cu比较容易在Al中固溶。如果 Cu的含量超过1.0wt％，例如在后述的酸性腐蚀处理或去斑处理中可能无法完全 除去。此处，Cu的含量为0.000wt％，0.000数量级是无法检测出来的，含量为0wt％ 是表示无法表述的微量。下面，含量的下限值记为0.000wt％意味着同样的意思。
Mg的含量最好为0.000～1.5wt％。Mg是在JIS2000系列、3000系列、5000系 列、7000系列材料的碎屑中含量较多的元素。特别是can end材料中含量较多， 因此是碎屑材料中包含的主要的不纯金属之一。Mg也比较容易固溶在Al中，与 Si形成金属间化合物。一旦Mg的含量超过1.5wt％，例如在后述的硫酸处理中就 可能无法完全除去。
Mn的含量最好为0.000～1.5wt％。Mn是JIS3000系列材料的碎屑中含量较多 的元素。Mn特别是在can body材料中含量较多，因此是碎屑材料中包含的主要 的不纯金属之一。Mn比较容易固溶在Al中，与Al、Fe和Si形成金属间化合物。 一旦Mn的含量超过1.5wt％，例如在后述的硫酸处理中就可能无法完全除去。
Zn的含量最好为0.000～0.5wt％。Zn特别是JIS7000系列的碎屑中含量较多 的元素。Zn比较容易固溶在Al中。一旦Zn的含量超过0.5wt％，例如在后述的硫 酸处理中就可能无法完全除去。
Cr的含量最好为0.000～0.1wt％。Cr是JIS A5000系列、6000系列、7000系 列的碎屑中含量较少的不纯金属。一旦Cr的含量超过0.1wt％，例如在后述的硫 酸处理中就可能无法完全除去。
Ti的含量最好为0.003～0.5wt％。Ti是作为通常结晶微细化材料添加 0.01～0.04wt％的元素。在JIS5000系列、6000系列、7000系列的碎屑中作为不 纯金属含量较多。一旦Ti的含量超过0.5wt％，例如在后述的硫酸处理中就可能 无法完全除去。
本发明采用的铝板是用上述原材料通过通常方法铸造出来的，经过适当的 轧制处理和热处理，厚度为例如0.1～0.7mm，必要的话还可以进行平面性校正 处理。其厚度可根据印刷机的大小、印刷版的大小和用户的需要适当地变更。
另外，上述铝板的制造方法可以采用例如DC铸造法、从DC铸造法中省略均 热处理和/或烧钝处理的方法及连铸法。
本发明的平板印刷版原版所采用的铝支撑体是对上述铝板进行阳极氧化 处理得到的，但是其制造工序中也可以包含除阳极氧化处理以外的各种工序。
上述铝板最好经过除去附着的轧制油的脱脂工序、溶解铝板表面的斑点的 去斑处理工序、对铝板表面进行粗化的表面粗化处理、用氧化被膜覆盖铝板表 面的阳极氧化处理工序，形成支撑体。
本发明所采用的铝板支撑体的制造工序最好包含在酸性水溶液中采用交 流电，对铝板进行电化学粗化的表面粗化处理(电化学的表面粗化处理)。
而且，本发明采用的铝板支撑体的制造工序中最好还包含除上述电化学表 面粗化处理以外的组合机械粗化处理、在酸或碱水溶液中的化学腐蚀处理等的 铝板的表面处理工序。本发明采用的铝板支撑体的表面粗化处理等的制造工序 可以是连续法也可以是断续法，但是工序上最好采用连续法。
进而本发明中，如果必要的话，还可以进行酸处理或碱处理、用含有无机 氟化合物和硅酸化合物的水溶液进行的处理、封孔处理、亲水性表面处理。进 而，如果必要的话，也可以设置底涂层。
特别是，如后所述，可以将在铝板上设置阳极氧化被膜而成的铝支撑体浸 入含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的液体中，在该铝支撑体上形成粒子 层，或者也可以在该铝支撑体上涂敷含有平均粒径为8～800nm的亲水性粒子的 液体，从而在该铝支撑体上形成粒子层。
<表面粗化处理(磨砂目处理)>
首先，说明表面粗化处理。
上述铝板为了具有更好的形状，要进行磨砂目处理。磨砂目处理的方法有 特开昭56-28893号公报记载的机械的磨砂目处理(机械的粗化处理)、化学腐 蚀、电解的表面粗化等。进而，还可以采用在盐酸电解液中或硝酸电解液中进 行电化学的磨砂目处理的电化学磨砂目处理法(电化学的粗化处理、电解粗化 处理)、用金属丝划擦铝表面的金属丝粗合法、用研磨球和研磨剂在铝表面形 成磨砂目的研磨球粗化法、用尼龙刷和研磨剂在表面形成磨砂目的刷粗化法等 的机械粗化法(机械的表面粗化处理)。这些磨砂目法可以单独或组合使用。 例如，可以采用尼龙刷和研磨剂的机械粗化处理和盐酸电解液或硝酸电解液的 电解粗化处理的组合、多次电解表面粗化处理的组合等。其中，电化学的表面 粗化处理较好。也可以组合机械的表面粗化处理和电化学的粗化处理，特别是 在进行机械的表面粗化处理之后再进行电化学的粗化处理是最好的。
机械的表面粗化处理是使用刷子等在铝板表面进行机械的粗化处理，最好 在电化学的粗化处理之前进行。
合适的机械表面粗化处理中，采用毛径为0.07～0.57mm的旋转尼龙刷辊和 供给铝板表面的研磨剂的浆液进行处理。
尼龙刷的吸水性越低越好，例如，东社制造的尼龙猪鬃刷200T(6，10-尼 龙，软化点：180℃、熔点：212～214℃、比重：1.08～1.09、含水量：20℃·相 对湿度65％的情况下为1.4～1.8、在20℃·相对湿度100％的情况下为2.2～2.8、 干燥的拉伸强度：4.5～6g/d、干燥的拉伸度：20～35％、沸腾水的收缩率：1～ 4％、干燥的抗拉伸度：39～45g/d、杨氏模量(干燥)：380～440kg/mm2)。
作为研磨剂，可以采用公知的产品，但是最好采用特开平6-135175号公报 和特公昭50-40047号公报中记载的硅砂、石英、氢氧化铝或这些的混合物。
作为浆液，其比重最好在1.05～1.3的范围内。作为将浆液供给铝板表面 的方法，可以采用例如喷涂浆液的方法、用金属丝刷的方法、将带凹凸的轧制 辊的表面形状转印到铝板上的方法等。也可以采用特开昭55-074898号公报、 61-162351号公报、63-104889号公报中记载的方法。进而，如特表平9-509108 号公报中记载的那样，可以采用由氧化铝和石英构成的粒子的混合物在95∶5～ 5∶95的重量比范围内形成的水性浆液在铝板表面刷的研磨方法。此时的上述混 合物的平均粒径为1～40μm，最好是在10～30μm的范围内。
电化学的粗化处理是在酸性水溶液中，以铝板作为电极通入交流电，对该 铝板的表面进行电化学的表面粗化处理，与上述的机械表面粗化处理不同。如 果采用电化学的表面粗化处理，由于很容易在表面上形成细微的凹凸，因此可 适当地提高感热层和支撑体之间的密着性。
本发明中，上述电化学的表面粗化处理中，铝板作为阴极时的电量，即阴 极时电量Qc与铝板作为阳极时的电量，即阳极时电量QA的比Qc/QA在例如0.5～ 2.0的范围内，因此可在铝板的表面上生成均一的蜂窝状坑。如果Qc/QA不满0.5， 则容易生成不均一的蜂窝状坑，但是超过2.0，也容易生成不均一的蜂窝状坑。 Qc/QA最好在0.8～1.5的范围内。
作为电化学的表面粗化处理中采用的交流电的波形，可以采用正弦波(sin 波)、矩形波、三角波、梯形波等。其中最好采用矩形波或梯形波。而交流电 的频率从电源装置的制作成本的角度出发，较好是30～200Hz，最好是40～ 120Hz。
本发明适用的梯形波的一个例子如图2所示。图2中，纵轴表示电流值，横 轴表示时间。Ta表示阳极的反应时间，tc表示阴极的反应时间，tp表示电流值 从0到阴极周波侧的峰值为止的时间，tp’表示电流值从0到阳极周波侧的峰值 为止的时间，Ia表示阳极周波侧的峰值时的电流，Ic表示阴极周波侧的峰值时 的电流。当交流电的波形采用梯形波时，电流从0到达峰值的时间tp和tp’较好 地分别在0.1～2msec的范围内，最好在0.3～1.5msec的范围内。Tp和tp’如果 不满0.1msec，则会影响电源回路中的阻抗，电流波形上升时必须要有大的电源 电压，会提高电源设备的成本。而如果tp和tp’超过2msec，则会增大对酸性水 溶液中微量成分的影响，导致难以进行均一的表面粗化处理。
从铝板表面均一粗化的角度考虑，电化学的表面粗化处理中采用的交流电 的功率较好在0.25～0.5的范围内，最好在0.3～0.4的范围内。本发明所述的 “功率(duty)”是指在交流电的周期T中，将铝板的阳极反应持续的时间设为 ta时，该功率为ta/T。特别是，阳极反应时的铝板表面上除了生成以氢氧化铝 为主体的斑点成分以外，还会产生氧化被膜的溶解和破坏，由于此后铝板的阳 极反应时刻成为点状腐蚀反应的开始点，因此交流电的功率的选择对表面均一 粗化产生的影响是很大的。
交流电的电流密度在梯形波或矩形波时，阳极周波侧峰值时的电流密度 Iap和阴极周波侧峰值时的电流密度Icp较好地分别在10～200A/dm2的范围内， 更好地在10～100A/dm2的范围内。而Icp/Iap最好在0.9～1.5的范围内。
在电化学的表面粗化处理中，电化学的表面粗化处理结束时刻的铝板的阳 极反应所使用的电量的总和较好地为50～1000C/dm2，更好地为50～800C/dm2， 最好为50～400C/dm2。电化学的表面粗化处理的时间最好为1秒～30分。
作为电化学表面粗化处理中采用的酸性水溶液，可以采用通常使用直流电 或交流电的电化学表面粗化处理中用的溶液，其中最好采用以硝酸为主体的酸 性水溶液或以盐酸为主体的酸性水溶液。此处，“为主体”是指在水溶液中作为 主体的成分相对于全部成分占30wt％，最好占50wt％以上。下面对于其它成分也 是同样的。
以硝酸为主体的酸性水溶液如上所述，可以采用通常使用直流电或交流电 的电化学表面粗化处理中用的溶液。例如，可将硝酸铝、硝酸钠、硝酸铵等的 硝酸化合物中的一个或一个以上，以从0.01g/L到达到饱和的浓度添加到硝酸 浓度为5～15g/L的硝酸水溶液中使用。在以硝酸为主体的酸性水溶液中，也可 以溶解有铁、铜、锰、镍、钛、镁、硅等的铝合金中包含的金属。
以硝酸为主体的酸性水溶液可以采用其中含有硝酸、铝盐、硝酸盐，且在 铝离子为1～15g/L，最好为1～10g/L，铵离子为10～300ppm的情况下，在硝 酸浓度为5～15g/L的硝酸水溶液中添加硝酸铝和硝酸铵所得到的溶液。上述铝 离子和铵离子在进行电化学的表面粗化处理过程中自然产生，逐渐增加。此时 的液体温度较好为10～95℃，更好为20～90℃，最好为40～80℃。
当采用以盐酸为主体的酸性水溶液时，由于盐酸自身对铝的溶解力强，因 此只要施加很少的电解就可以在表面上形成细微的凹凸。该细微的凹凸平均开 口直径为0.01～0.2μm，在铝板的整个表面上均一的生成。为了得到这样的磨 砂目，电解反应结束时刻的铝板的阳极反应所经受的电量的总和较好为1～ 100C/dm2，最好为20～70C/dm2。此时的电流密度最好为20～50A/dm2。
采用以盐酸为主体的电解液进行的电化学表面粗化处理中，阳极反应中所 经受的电量的总和增大到400～1000C/dm2，因此可能会同时形成火山口状的大 波纹，此时平均开口直径为10～30μm的火山口状的波纹重叠，在整个表面形 成平均开口直径为0.01～0.4μm的细微凹凸。
采用上述硝酸、盐酸等的电解液进行多次电解表面粗化处理时，最好在铝 板上进行阴极电解处理。通过该阴极电解处理，在铝板表面上生成斑点的同时， 由于产生了氢气，因此可更均一地进行电解表面粗化处理。该阴极电解处理的 酸性溶液中的阴极电量较好为3～80C/dm2，最好为5～30C/dm2。如果阴极电量 不到3C/dm2，则斑点的附着量不足，但是如果超过80C/dm2，则斑点的附着量过 大，哪种情况都不好。另外，电解液可以与上述电解表面粗化处理中使用的溶 液相同，也可以不同。
在电化学的表面粗化处理中，可使用纵型、平型、径向型等公知的电解装 置，但是特开平5-195300号公报中记载的径向型电解装置特别好。
图3是适用于本发明的径向型电解装置的概略图。图3中，径向型的电解 装置中，铝板11卷绕在位于主电解槽21中的径向辊12上，在输送过程中由与 交流电源20相连的主极13a和13b进行电解处理。酸性水溶液14从溶液供给 口15通过窄缝16供入位于径向辊12和主极13a、13b之间的溶液通道中。
接着，在主电解槽21中处理好的铝板11在辅助阳极槽22中进行电解处 理。该辅助阳极槽22中，辅助阳极18与铝板11相对设置，酸性水溶液14在 辅助阳极18与铝板11之间流动。而辅助电极中流动的电流由晶体闸流管19a 和19b控制。
主极13a和13b可以从石墨、白金、钛、铌、锆、不锈钢、燃料电池阴极 用电极等中选择，但是，石墨特别好。作为石墨，可采用一般市场出售的化学 装置用的不浸透性黑铅、含浸树脂的黑铅等。
辅助阳极18可从铁氧体、氧化铱、白金或者用白金在钛、铌、锆等的阀 用金属上包层或电镀而构成的公知的用于产生氧的电极中选择。
主电解槽21和辅助阳极槽22内通入的酸性水溶液的供给方向可以与铝板 11的行进方向平行，也可以与之垂直。酸性水溶液相对于铝板的相对流速最好 在10～1000cm/sec。
一个电解装置中可连接一个以上的交流电源。也可以使用2个以上的电解 装置，各装置中的电解条件可以相同，也可以不同。
电解处理结束之后，由于在接下来的工序中不取出处理液，因此最好通过 夹辊挤水或用喷嘴冲洗。
使用上述电解装置的过程中，电解装置中的铝板与产生阳极反应的酸性水 溶液的通电量成比例，例如，基于根据(i)酸性水溶液的导电率与(ii)超声 波的传输速度及(iii)温度求出的硝酸和铝离子的浓度，一边调节硝酸和水的 添加量一边添加，由于与硝酸和水的添加容积相同量的酸性水溶液逐渐从电解 装置中溢出、排出，因此最好保持上述酸性水溶液的浓度稳定。
通过该电化学的表面粗化处理，可在铝板表面的30～100％的面积率上形成 平均直径为0.5～20μm火山口状或蜂窝状的凹坑。形成的凹坑使得印刷版的非 图像部分难以产生污渍，且提高了耐印度。电化学的表面粗化处理为了在表面 形成高质量的凹坑，必须要注意电量，即电流与通电时间的乘积是最重要的条 件。从节能的角度考虑，希望能用更少的电量形成高质量的凹坑。电化学的表 面粗化处理之后的表面粗糙度按照JIS B0601-1994的标准，截成0.8mm，测评 长度3.0mm，测定的算术平均粗糙度(Ra)最好为0.2～0.7μm。
下面按顺序说明在酸性水溶液或碱性水溶液中进行化学腐蚀处理、去斑处 理等表面处理。上述表面处理分别在上述电化学的表面粗化处理之前或上述电 化学的表面粗化处理之后、后述的阳极氧化处理之前进行。但是，下面的各表 面处理的说明只是举例，本发明并不限于下面的各表面处理。而是以上述表面 处理为基础，可任意地进行下述各种处理。
<碱性腐蚀处理>
碱性腐蚀处理是在碱性水溶液中，对铝板表面进行化学腐蚀的处理。最好 在上述电化学的表面粗化处理之前和之后分别进行。当在电化学的表面粗化处 理之前进行机械的表面粗化处理时，最好在机械的表面粗化处理之后进行。由 于碱性腐蚀处理可在短时间内破坏细微构造，因此比后述的酸性腐蚀处理更有 利。
作为碱性腐蚀处理采用的碱性水溶液可以是含有烧碱、碳酸钠、铝酸钠、 硅酸钠、磷酸钠、氢氧化钾、氢氧化锂等中的1种或2种以上的水溶液。特别 是以氢氧化钠(烧碱)为主体的水溶液最好。碱性水溶液中最好含有铝及铝板 中含有的合金成分0.5～10wt％。
碱性水溶液的浓度较好为1～50wt％，最好为1～30wt％。
碱性腐蚀处理的碱性水溶液的温度在20～100℃，最好为40～80℃，进行 1～120秒的处理，最好处理时间为2～60秒。在机械的表面粗化处理之后进行 时，铝的溶解量最好为5～20g/m2，如果在电化学的表面粗化处理之后进行，最 好为0.01～20g/m2。最初碱性水溶液中化学的腐蚀液在混合时，最好用液体氢 氧化钠(烧碱)与铝酸钠(铝酸钠)调制处理液。
而碱性腐蚀处理结束之后，由于处理液在下面的工序中不排出，因此最好 用夹辊挤水并用喷嘴冲洗。
在电化学的表面粗化处理之后进行碱性腐蚀处理时，可除去在电化学的表 面粗化处理中产生的斑点。这样的碱性腐蚀处理可以采用例如，特开昭53- 12739号公报中记载的与50～90℃的15～65wt％的硫酸接触的方法及特公昭48 -28123号公报中记载的碱性腐蚀方法。
<酸性腐蚀处理>
酸性腐蚀处理是在酸性水溶液中，对铝板进行化学腐蚀的处理，最好在上 述电化学的表面粗化处理之后进行。当在上述电化学的表面粗化处理之前和/或 之后进行上述碱性腐蚀处理时，也可以在碱性腐蚀处理之后进行酸性腐蚀处理。
在铝板上进行上述碱性腐蚀处理之后，进行上述酸性腐蚀处理可除去含有 铝板表面的二氧化硅的金属间化合物或单体Si，可消除在此后的阳极氧化处理 中生成阳极氧化被膜的缺陷。其结果，可防止印刷时被称为表面溅点状污渍的 非图像部分中的点状的附着油墨的故障。
酸性腐蚀处理采用的酸性水溶液可以采用含有磷酸、硝酸、硫酸、铬酸、 盐酸或它们的2种或2种以上的混合酸的水溶液。其中硫酸水溶液最好。酸性 水溶液的浓度较好为50～500g/L，最好为100～500g/L。酸性水溶液中也可以 含有铝及铝板中含有的合金成分。
酸性腐蚀处理的液体温度为30～90℃，较好为60～90℃，最好为70～80 ℃，处理时间最好为1～10秒。此时铝板的溶解量最好为0.001～0.2g/m2。而 酸的浓度例如，硫酸浓度与铝离子的浓度最好从常温下不结晶的范围内选择。 较好的铝离子的浓度为0.1～50g/L，更好的是0.1～15g/L，最好是5～15g/L。
酸性腐蚀处理结束后，由于在下面的工序中不排出处理液，因此最好用夹 辊挤水并用喷嘴冲洗。
<去斑处理>
当在上述电化学的表面粗化处理之前和/或之后进行上述碱性腐蚀处理 时，由于碱性腐蚀处理一般会在铝板表面形成斑点，因此最好在碱性腐蚀处理 之后用含有磷酸、硝酸、硫酸、铬酸、盐酸、氢氟酸、硼氟化氢酸或它们的2 种或2种以上的混合酸的酸性溶液溶解上述斑点，进行所谓的去斑处理。另外， 在碱性腐蚀处理之后，酸性腐蚀处理和去斑处理之中进行任意一个就足够了。
酸性溶液的浓度较好为1～500g/L，最好为1～300g/L。酸性溶液中也可 以溶解有铝及铝板中含有的合金成分共0.001～50g/L，最好为0.001～15g/L。
酸性溶液的温度较好为20℃～95℃，最好为30～70℃。处理时间较好为 1～120秒，最好为2～60秒。
去斑处理液(酸性溶液)由于可以采用上述电化学的表面粗化处理中用的 酸性水溶液的废液，因此可减少废液量。
去斑处理结束之后，由于处理液在下面的工序中不排出，因此最好用夹辊 挤水并用喷嘴冲洗。
作为这些表面处理的组合，下面表示优选的方案。
首先，进行机械的表面粗化处理和/或碱性腐蚀处理，此后进行去斑处理。 接着，进行用电解液的电化学表面粗化处理，此后①碱性腐蚀处理和与之连续 的去斑处理、②用盐酸电解液的电化学表面粗化处理和与之连续的碱性腐蚀处 理、去斑处理这①、②两者中进行任意一个或两个都进行。
<阳极氧化处理>
对如上所述根据需要进行了各种处理的铝板进行阳极氧化处理。
阳极氧化处理可采用该领域中现行的方法。具体地说，在硫酸、磷酸、铬 酸、草酸、氨基磺酸、苯磺酸等的单独或组合2种或2种以上形成的水溶液或 非水溶液中，在铝板中通入直流或交流电，即可在铝板表面形成阳极氧化被膜。
阳极氧化处理的条件根据使用的电解液而有各种变化，因此不能一概决 定，但是一般的电解液的浓度为1～80wt％，液体温度为5～70℃，最好为25～ 55℃，电流密度为0.5～70A/dm2，最好为15～60A/dm2，电压为1～200V，电解 时间为1～1000秒，最好为5～60秒。
在这些阳极氧化处理中，英国专利申请第1412768号的说明书中记载的在 硫酸电解液中用高电流密度进行阳极氧化处理的方法和美国专利第3511661号 说明书中记载的用磷酸作电解浴的阳极氧化处理方法较好。也可以进行在硫酸 中进行阳极氧化处理后再在磷酸中进行阳极氧化处理等的多段阳极氧化处理。
本发明中，阳极氧化被膜由于其难以损伤和耐印性的特点，较好为1.0g/m2 以上，再好些为1.5g/m2以上，更好为2.0g/m2以上，最好是3.0g/m2以上，而为 了形成厚的被膜，要考虑需要多大的能量，100g/m2以下比较合适，较好为40g/m2 以下，再好些是20g/m2以下，更好是15g/m2以下，最好是10g/m2以下。
阳极氧化被膜的表面上形成有所谓“微孔”的细微的凹坑。阳极氧化被膜 上的微孔的密度可根据适当选择的处理条件而调整。
本发明中，阳极氧化被膜的孔隙率较好为20～70％，更好为30～60％，最 好为40～50％。阳极氧化被膜的孔隙率在20％以上会充分抑制向铝支撑体的热扩 散，获得较好的感光度效果。阳极氧化被膜的孔隙率在70％以下会更难以引起非 图像部分的起污问题。
阳极氧化被膜的孔隙率可由下式求出。
孔隙率(％)＝[1-(氧化被膜密度/3.98)]×100
此处，氧化被膜的密度(g/cm3)是通过[每单位面积中的氧化被膜的重量/ 氧化被膜的厚度]求出的。而3.98是化学手册中氧化铝的密度(g/cm3)。
表面孔径较好为0～15nm，更好为0～12nm，最好为0～10nm。
对于阳极氧化被膜，如果必要的话，通过进行下述扩孔处理、封孔处理等， 最终可使阳极氧化被膜的孔隙率和表面孔径落入上述范围内。
<扩孔处理>
本发明中，为了达到将阳极氧化被膜的孔隙率调整到适当的范围内，降低 热传导率的目的，在阳极氧化处理之后，最好进行扩大微孔的孔径的扩孔处理。 该扩孔处理通过将阳极氧化被膜形成的铝基板浸入酸性水溶液或碱性水溶液 中，溶解阳极氧化被膜，从而扩大微孔的孔径。扩孔处理中阳极氧化被膜的溶 解量较好在0.01～20g/m2的范围内进行，更好的为0.1～5g/m2，最好为0.2～ 4g/m2。
扩孔处理中使用酸性水溶液时，最好采用硫酸、磷酸、硝酸、盐酸等的无 机酸或它们的混合物的水溶液。酸性水溶液的浓度较好为10～1000g/L，再好些 为10～500g/L，更好为20～500g/L，最好为20～100g/L。酸性水溶液的温度较 好为10～90℃，更好为30～70℃，最好为40～70℃。在酸性水溶液中浸泡的时 间较好为1～300秒，更好为2～100秒，最好为10～60秒。
另一方面，扩孔处理中采用碱性水溶液时，最好从氢氧化钠、氢氧化钾和 氢氧化锂构成的组中选择至少一个碱性水溶液使用。碱性水溶液的PH值较好为 10～13，更好些为11～13，更好为11.5～13.0，最好为11.5～12.5。碱性水溶 液的温度较好为10～90℃，最好为30～50℃。在碱性水溶液中浸泡的时间较好 为1～500秒，最好为2～100秒。
<封孔处理>
本发明中，最好对如上所述设置阳极氧化被膜而得到的铝支撑体进行封孔 处理。
封孔处理被膜与例如，在进行电沉积封孔处理时，从微孔的底部形成，而 在进行水蒸气封孔处理时，从微孔的上部形成，根据封孔处理的方式形成封孔 处理被膜的方法不同。
适用于本发明的封孔处理不封闭阳极氧化被膜内部的孔，而只封闭微孔的 上部。
本发明采用的封孔处理可以采用特开平4-176690号公报和特愿平10- 106819号的说明书(特开平11-301135号公报)中记载的用加压水蒸气和热水 进行的阳极氧化被膜的封孔处理。另外，也可以采用硅酸盐处理、重铬酸盐水 溶液处理、亚硝酸盐处理、醋酸铵盐处理、电沉积封孔处理、三乙醇胺处理、 碳酸钡盐处理和含有极微量的磷酸盐的热水处理等公知方法。
可列举的是，例如通过溅射、CVD法等设置无机薄膜的方法。可作为无机 薄膜使用的化合物，可列举的是例如氧化物、氮化物、硅化物、碳化物。另外， 不限定仅仅一种，也可以是混合物。
具体可列举的是，例如氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锆、氧化铪、氧化 钒、氧化铌、氧化钽、氧化钼、氧化钨、氧化铬；氮化铝、氮化硅、氮化钛、 氮化锆、氮化铪、氮化钒、氮化铌、氮化钽、氮化钼、氮化钨、氮化铬、氮化 硅、氮化硼；硅化钛、硅化锆、硅化铪、硅化钒、硅化铌、硅化钽、硅化钼、 硅化钨、硅化铬；硼化钛、硼化锆、硼化铪、硼化钒、硼化铌、硼化钽、硼化 钼、硼化钨、硼化铬；碳化铝、碳化硅、碳化钛、碳化锆、碳化铪、碳化钒、 碳化铌、碳化钽、碳化钼、碳化钨、碳化铬。
其中适合本发明的封孔处理是特愿2001-9871号说明书中记载的通过微 粒子的封孔处理。
通过微粒子的封孔处理可以设置由平均粒径8～800nm、优选平均粒径10～ 500nm、更优选平均粒径10～150nm的粒子组成的粒子层。粒子的平均粒径如果 在8nm以上，粒子进入阳极氧化薄膜中存在的微孔内部可能较少，可以充分获 得高灵敏的效果。粒子的平均粒径如果在800nm以下，与感热层的密合性充分， 耐印性优良。粒子层的厚度优选为8～800nm，更优选为10～500nm。
可用于本发明中的粒子，热传导率优选为60W/(m·K)以下，更优选为 40W/(m·K)以下，特别优选为0.3～10W/(m·K)以下。热传导率如果在60W/(m·K) 以下，可充分抑制向铝支撑体的热扩散，充分获得高灵敏的效果。
设置粒子层的方法没有特别地限定，优选可列举的是例如使用含有平均粒 径为8～800nm的亲水性粒子的电解液、使用直流或交流电解处理铝支撑体的方 法。作为可用于上述电解处理中的交流电流的波形，可列举的是正弦波、矩形 波、三角波、梯形波等。另外，交流电流的频率，从制作电源装置的成本方面 考虑，优选为30～200Hz，更优选为40～120Hz。在使用作为交流电流波形的梯 形波时，电流从0达到峰值的时间tp优选分别是0.1～2msec，更优选是0.3～ 1.5msec。上述tp如果不足0.1msec，存在影响电源电路的阻抗、电流波形上升 时必需较大的电源电压、电源的设备成本变高的情况。
作为亲水性粒子，优选将Al2O3、TiO2、SiO2和ZrO2单独或组合2种以上使 用。电解液是例如使上述亲水性粒子悬浮在水等中使得含量为全部的0.01～ 20wt％而获得。为了使得正极或负极带有电荷，电解液也可以通过例如添加硫酸 等调整pH。电解处理在例如使用直流、以铝支撑体作为阴极使用上述电解液在 10～200V的电压下在1～600秒的条件下进行。
按照该方法，在存在于阳极氧化薄膜上的微孔内部残留孔隙，同时可以堵 塞其出口。
另外，作为设置粒子层的方法，特别优选可列举的是使得上述铝支撑体浸 渍在含有平均粒径为8～800nm亲水性粒子的溶液中的方法，和在上述铝支撑体 上涂敷含有平均粒径为8～800nm亲水性粒子的溶液的方法。按照这些方法，在 存在于阳极氧化薄膜上的微孔内部残留孔隙，同时可以堵塞其出口。
另外，按照这些方法，与使用电解处理的方法相比，得到的平版印刷版的 耐污渍性优良。也可以确定通过电解处理得到的粒子层略微不均匀，在存在于 阳极氧化薄膜上的一部分微孔中出口没有完全堵塞。与此相反，通过浸渍或涂 敷得到的粒子层极其均匀，在存在于阳极氧化薄膜上的微孔的出口被均匀地堵 塞。因此，作为设置粒子层的方法，使用上述浸渍或涂敷的情况比使用电解处 理的情况可以得到耐污渍性更优良的平版印刷版。
作为亲水性粒子，优选将胶质二氧化硅、氧化铝溶胶、Al2O3、TiO2、SiO2 和ZrO2单独或组合2种以上使用。浸渍处理和涂敷中使用的溶液中上述亲水性 粒子的含量优选为全部的0.01wt％以上、更优选0.05wt％以上，并且优选10wt％ 以下、更优选5wt％以下。
浸渍处理中使用的溶液的液体温度优选为10℃以上、更优选30℃以上，并 且优选100℃以下、更优选80℃以下。另外，浸渍处理的处理时间优选为1秒 以上、更优选2秒以上，并且优选120秒以下、更优选30秒以下。
作为涂敷的方法，可列举的是例如棒涂、旋涂、喷涂、帘膜式涂敷、浸涂、 气刀式涂敷、刀片式涂敷、滚涂。其中优选旋涂、棒涂。
封孔方法，除了上述之外，可列举的是喷射处理、蒸镀处理、溅射、离子 电镀、喷镀、镀金等，但是没有特别地限定。
作为具体的处理方法，可列举的是例如通过涂敷设置特开昭60-149491号 公报中记载的由含有至少一个氨基和选自羧基及其盐的基团和磺基及其盐的基 团中至少一个基团的化合物组成的层、特开昭60-232998号公报中记载的由选 自含有至少一个氨基和至少一个羟基的化合物及其盐的化合物组成的层、特开 昭62-19494号公报中记载的含有磷酸盐的层、特开昭59-101651号公报中记 载的由分子中含有至少1种含有磺基的单体单元作为重复单元的高分子化合物 组成的层等的方法。
另外，还可列举的是设置选自以下化合物的层的方法：羧甲基纤维素；糊 精；阿拉伯胶；2-氨乙基膦酸等含有氨基的膦酸类；可以含有取代基的苯膦 酸、萘膦酸、烷基膦酸、甘油膦酸、亚甲基二膦酸、亚乙基二膦酸等有机膦酸； 可以含有取代基的磷酸苯酯、磷酸萘酯、磷酸烷基酯、磷酸甘油酯等有机磷酸 酯；可以含有取代基的苯次磷酸、萘次磷酸、烷基次磷酸、甘油次磷酸等有机 次磷酸；甘氨酸、β-丙氨酸等氨基酸类；三乙醇胺的盐酸盐等含有羟基的胺 的盐酸盐等。
在封孔处理中，也可以涂敷处理含有不饱和基团的硅烷偶合剂。作为硅烷 偶合剂，可列举的是例如N-3-(丙烯氧基-2-羟基丙基)-3-氨基丙基三 乙氧基硅烷、(3-丙烯氧基丙基)二甲基甲氧基硅烷、(3-丙烯氧基丙基)甲 基二甲氧基硅烷、(3-丙烯氧基丙基)三甲氧基硅烷、3-(N-烯丙基氨基) 丙基三甲氧基硅烷、烯丙基二甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、烯丙基三甲 氧基硅烷、3-丁烯基三乙氧基硅烷、2-(氯甲基)烯丙基三甲氧基硅烷、甲 基丙烯酰氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(3-甲基丙烯氧基-2-羟基丙基)-3 -氨基丙基三乙氧基硅烷、(甲基丙烯氧基甲基)二甲基乙氧基硅烷、甲基丙烯 氧基甲基三乙氧基硅烷、甲基丙烯氧基甲基三甲氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基 二甲基乙氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基二甲基甲氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基 甲基二乙氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基 甲基三乙氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基甲基三甲氧基硅烷、甲基丙烯氧基丙基 三(甲氧基乙氧基)硅烷、甲氧基二甲基乙烯基硅烷、1-甲氧基-3-(三甲 基甲硅烷氧基)丁二烯、苯乙烯基乙基三甲氧基硅烷、3-(N-苯乙烯基甲基 -2-氨乙基氨基)-丙基三甲氧基硅烷盐酸盐、乙烯基二甲基乙氧基硅烷、乙 烯基二苯基乙氧基硅烷、乙烯基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基甲基二甲氧基硅烷、 O-(乙烯氧基乙基)-N-(三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基甲酸乙酯、乙烯基 三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三叔丁氧基硅烷、乙烯基三异丙 氧基硅烷、乙烯基三苯氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、二烯丙 基氨基丙基甲氧基硅烷。其中优选含有不饱和基团反应性快的甲基丙烯酰基、 丙烯酰基的硅烷偶合剂。
除此之外，可列举的是特开平5-50779号公报中记载的溶胶凝胶涂敷处 理、特开平5-246171号公报中记载的膦酸类的涂敷处理、特开平6-234284 号公报、特开平6-191173号公报和特开平6-230563号公报中记载的通过涂 敷处理反涂层用的原材料的方法、特开平6-262872号公报中记载的膦酸类的 处理、特开平6-297875号公报中记载的涂敷处理、特开平10-109480号公报 中记载的阳极氧化处理方法、特愿平10-252078号说明书(特开2000-81704 号公报)和特愿平10-253411号说明书(特开2000-89466号公报)中记载的 浸渍处理方法等，可以使用任何一种方法。 <用含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液的处理>
在本发明中，作为优选的封孔处理，可以用含有无机氟化合物和硅酸化合 物的水溶液处理。由此，在制作平版印刷版的时候，可以得到耐污渍性优良的 平版印刷版用的支撑体。
作为本发明中可使用的无机氟化合物，适合列举的是金属氟化物。
具体可列举的是，例如氟化钠、氟化钾、氟化钙、氟化镁、六氟锆钠、六 氟锆钾、六氟钛酸钠、六氟钛酸钾、六氟氢酸锆、六氟氢酸钛、六氟锆铵、六 氟钛酸铵、六氟硅酸、氟化镍、氟化铁、氟化磷酸、氟化磷酸铵。
另外，作为本发明中可使用的硅酸化合物，可列举的是硅酸、硅酸盐，其 中适合列举的是碱金属硅酸盐。
具体可列举的是，例如硅酸钠、硅酸钾、硅酸锂。其中优选硅酸钠、硅酸 钾。
硅酸钠可列举的是，例如3号硅酸钠、2号硅酸钠、1号硅酸钠、原硅酸钠、 倍半硅酸钠、偏硅酸钠。硅酸钾可列举的是，例如1号硅酸钾。另外，还可以 使用含有铝的铝代硅酸盐、含有硼酸的硼硅酸盐。
硅酸可列举的是，原硅酸、偏硅酸、偏二硅酸、偏三硅酸、偏四硅酸。
水溶液中各化合物的浓度，对于无机氟化合物，从阳极氧化薄膜的封孔方 面考虑优选为0.01wt％以上、更优选0.05wt％以上、特别优选0.1wt％以上，另外 从耐污渍性方面考虑优选为10wt％以下、更优选1wt％以下、特别优选0.5wt％以 下。
另外，对于硅酸化合物，从耐污渍性方面考虑，优选为0.01wt％以上、更 优选0.1wt％以上、特别优选1wt％以上，另外从耐印性方面考虑优选为10wt％以 下、更优选7wt％以下、特别优选5wt％以下。
水溶液中各化合物的比率没有特别地限定，无机氟化合物和硅酸化合物的 重量比优选为5∶95～95∶5，更优选20∶80～80∶20。
另外，含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液，为了提高pH，也可以含 有适当量的氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂等氢氧化物。其中优选氢氧化钠、 氢氧化钾。
另外，含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液，也可以含有碱土类金属 盐或4族(第IVA族)金属盐。作为碱土类金属盐，可列举的是例如硝酸钙、 硝酸锶、硝酸镁、硝酸钡等硝酸盐；硫酸盐；盐酸盐；磷酸盐；醋酸盐；溴酸 盐；硼酸盐等水溶性盐。作为4族(第IVA族)金属盐，可列举但是例如四氯 化钛、三氯化钛、氟化钛钾、溴酸钛钾、硫酸钛、四碘化钛、、氯化氧化锆、二 氧化锆、羟基氯化锆、四氯化锆。这些碱土类金属盐和4族(第IVA族)金属 盐可以单独或组合2种以上使用。
另外，水溶液的温度优选为10℃以上、更优选20℃以上，并且优选100℃ 以下、更优选80℃以下。
另外，水溶液优选为pH8以上、更优选pH10以上，并且优选pH13以下、 更优选pH12以下。
用含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液处理的方法，没有特别地限定， 可列举的是例如浸渍法、喷射法。这些方法既可以单独1次或多次使用，也可 以组合2种以上使用。
其中，优选浸渍法。使用浸渍法处理时，处理时间优选为1秒以上、更优 选3秒以上，并且优选600秒以下、更优选120秒以下。 <亲水性表面处理>
在本发明中，也可以通过再将铝支撑体浸渍在含有1种以上亲水性化合物 的水溶液中，进行亲水性表面处理。作为亲水性化合物，适合列举的是例如聚 乙烯基磷酸、氟化锆钾、磷酸盐/无机氟化合物、含有磺酸基的化合物、糖类化 合物、硅酸盐化合物。其中适合的是聚乙烯基磷酸、硅酸盐化合物。最适合列 举的是硅酸盐化合物。
含有磺酸基的化合物中可以含有芳香族磺酸、其甲醛缩合物、其衍生物、 以及其盐。
作为芳香族磺酸，可列举的是例如苯酚磺酸、邻苯二酚磺酸、间苯二酚磺 酸、苯磺酸、甲苯磺酸、木质磺酸、萘磺酸、苊-5-磺酸、菲-2-磺酸、苯 甲醛-2(或3)-磺酸、苯甲醛-2，4(或3，5)-二磺酸、羟苄基磺酸类、 磺基安息香酸、对氨基苯磺酸、对氨基萘磺酸、牛磺酸。其中优选苯磺酸、萘 磺酸、木质磺酸。另外也优选苯磺酸、萘磺酸、木质磺酸的甲醛缩合物。
另外，这些也可以作为磺酸盐使用。可列举的是例如，钠盐、钾盐、锂盐、 钙盐、镁盐。其中优选钠盐、钾盐。
含有具有磺酸基化合物的水溶液的pH优选为4～6.5，可以使用硫酸、氢 氧化钠、氨等调整至上述pH范围。
糖类化合物中可以含有单糖类及其糖醇、低聚糖类、多糖类、以及糖苷。
作为单糖类及其糖醇，可列举的是例如甘油等丙糖类及其糖醇类；苏糖、 赤藓醇等丁糖及其糖醇类；阿拉伯糖、阿糖醇等戊糖及其糖醇类；葡萄糖、山 梨糖醇等己糖及其糖醇类；D-甘油-D-半乳庚糖、D-甘油-D-半乳庚糖醇 (ガラクトヘプチト-ル)等庚糖及其糖醇类；D-红-D-半乳辛糖醇等辛糖 及其糖醇类；D-红-L-グルコ-ノヌロ-ス(glyco-nonurose)等壬糖及其糖 醇类。
作为低聚糖类，可列举的是例如蔗糖、海藻糖、乳糖等二糖类；蜜三糖等三糖 类。
作为多糖类，可列举的是例如直链淀粉、アラビナン(arabinan)、环糊精、海 藻酸纤维素。
在本发明中，所谓“糖苷”是指糖部分和非糖部分通过酯键等结合的化合物。
糖苷可以根据非糖部分分类。可列举的是例如烷基糖苷、苯酚糖苷、香豆 素糖苷、羟基香豆素糖苷、类黄酮糖苷、蒽醌糖苷、三萜糖苷、类甾醇糖苷、 芥子油糖苷。
作为糖部分，可列举的是上述单糖类及其糖醇；低聚糖类；多糖类。其中 优选单糖类、低聚糖类，更优选单糖类、二糖类。
作为优选的糖苷的例子，可列举的是下面式(I)表示的化合物。 化1
上述式(I)中，R表示碳原子数为1～20的直链或含有支链的烷基、烯基 或炔基。
作为碳原子数为1～20的烷基，可列举的是例如甲基、乙基、丙基、丁基、 戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十 四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基， 这些既可以是直链，也可以含有支链，另外也可以是环状烷基。
作为碳原子数为1～20的烯基，可列举的是烯丙基、2-丁烯基，这些既可 以是直链，也可以含有支链，另外也可以是环状烯基。
作为碳原子数为1～20的炔基，可列举的是例如1-戊炔基，这些既可以 是直链，也可以含有支链，另外也可以是环状炔基。
作为上述式(I)表示的具体化合物，可列举的是例如甲基葡糖苷、乙基葡 糖苷、丙基葡糖苷、异丙基葡糖苷、丁基葡糖苷、异丁基葡糖苷、正己基葡糖 苷、辛基葡糖苷、辛基葡糖苷、癸基葡糖苷、2-乙基己基葡糖苷、2-戊基壬 基葡糖苷、2-己基癸基葡糖苷、月桂基葡糖苷、肉豆蔻基葡糖苷、硬脂酰基葡 糖苷、环己基葡糖苷、2-丁炔基葡糖苷。这些化合物可以是一种糖苷的葡糖苷， 也可以是葡萄糖的半缩醛羟基与其他化合物结合成醚状的物质，例如可以通过 公知的方法使得葡萄糖与醇类反应得到。这些烷基葡糖苷的一部分是由德意志 (ドイツ)Henkel社作为商品名グルコポン(GLUCOPON)出售，本发明中可以使用 它们。
作为优选糖苷的其他例子，可列举的是例如皂草苷、芸香苷三水合物、橙 皮苷甲基查耳酮、橙皮苷、ナリジン(narijin)水合物、苯酚-β-D-吡喃葡 萄糖苷、水杨苷、3’，5，7-甲氧基-7-芸香糖苷。
含有糖类化合物的水溶液的pH优选为8～11，可以使用氢氧化钾、硫酸、 碳酸、碳酸钠、磷酸、磷酸钠等调整至上述pH范围。
聚乙烯基膦酸的水溶液的浓度优选为0.01～10wt％、较优选为0.1～5wt％、 更优选为0.2～2.5wt％。浸渍的温度优选为10～70℃、更优选为30～60℃。浸 渍时间优选为0.5秒～10分钟、较优选为1～30秒、更优选为1～20秒。
另外，含有磺酸基化合物的水溶液的浓度优选为0.02～0.2wt％。浸渍温度 优选为60～100℃。浸渍时间优选为1～300秒、更优选为10～100秒。
另外，含有糖类化合物的水溶液的浓度优选为0.5～10wt％。浸渍温度优选 为40～70℃。浸渍时间优选为2～300秒、更优选为5～30秒。
作为本发明中的亲水化处理，除了上述之外，还可以采用公知的方法和条 件。作为公知的方法和条件，可列举的是例如美国专利第2714066号说明书及 第3181461号说明书中记载的使用碱金属硅酸盐(碱金属硅酸盐)处理的方法、 特公昭36-22063号公报中记载的使用氟化锆钾处理的方法、特开平9-244227 号公报中记载的使用含有磷酸盐和无机氟化合物的水溶液处理的方法、特开 2000-81704号公报及特开2000-89466号公报中记载的使用含有钛和氟的水 溶液处理的方法。
碱金属硅酸盐水溶液处理通过在优选浓度为0.01～30wt％、较优选为 0.01～10wt％、更优选为0.1～10wt％、更优选为0.5～5wt％、25℃下pH优选为 10～13的碱金属硅酸盐的水溶液中，在优选30～100℃、更优选50～90℃下浸 渍支撑体优选0.5～40秒钟、更优选1～20秒钟进行。上述碱金属硅酸盐的浓 度、pH、温度、处理时间等处理条件可以适当选择。碱金属硅酸盐水溶液的pH 如果低于10，溶液容易凝胶化，另外pH如果高于13，粒子层和阳极氧化薄膜 可能会溶解，因此这点需要注意。
亲水性表面处理中使用的碱金属硅酸盐，可列举的是例如作为上述含有无 机氟化合物和硅酸化合物的水溶液中使用的碱金属硅酸盐所列举的物质。
碱金属硅酸盐的水溶液，为了提高pH，也可以含有适当量的氢氧化钠、氢 氧化钾、氢氧化锂等氢氧化物。其中优选氢氧化钠、氢氧化钾。
另外，碱金属硅酸盐的水溶液也可以含有碱土类金属盐或4族(第IVA族) 金属盐。作为碱土类金属盐，可列举的是例如作为上述含有无机氟化合物和硅 酸化合物的水溶液中也可以含有的碱土类金属盐所列举的物质。碱土类金属盐 和4族(第IVA族)金属盐可以单独或2种以上组合使用。这些金属盐的用量 优选为0.01～10wt％、更优选为0.05～5.0wt％。
氟化锆钾水溶液处理通过在优选浓度为0.1～10wt％、更优选为0.5～2wt％ 的氟化锆钾水溶液中，在优选30～80℃下浸渍支撑体优选60～180秒钟进行。
另外，作为亲水性表面处理中使用的无机氟化合物，适合列举的是金属氟 化物。
具体可列举的是例如作为上述含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液中 使用的无机氟化合物所列举的物质。
支撑体在浸渍至含有这些亲水性化合物的水溶液之后，用水等洗涤、干燥。
通过上述亲水性表面处理，可以解决与通过阳极氧化处理后的扩孔处理感 光度提高(负性记录层的情况下耐印性的提高)交替产生的背面蹭脏(粘到油 墨性)劣化等印刷污染的问题。即存在如下问题：由于孔径扩大，在印刷时， 特别是印刷机停止、将平版印刷版放置在印刷机上后再开始印刷时，容易产生 油墨难以去除的现象(背面蹭脏(粘到油墨性)劣化)，但是如果实施亲水性表 面处理，可以减轻上述问题。 <底涂层>
在本发明中，在如此得到的铝支撑体上通过红外线激光曝光设置可以写入 的记录层之前，根据需要也可以设置例如硼酸锌等水溶性金属盐之类的无机底 涂层和有机底涂层。
作为有机底涂层中使用的有机化合物，可列举的是例如羧甲基纤维素；糊 精；阿拉伯胶；侧链上含有磺酸基的聚合物及共聚物；聚丙烯酸；2-氨乙基膦 酸等含有氨基的膦酸类；可以含有取代基的苯膦酸、萘膦酸、烷基膦酸、甘油 膦酸、亚甲基二膦酸、亚乙基二膦酸等有机膦酸；可以含有取代基的苯磷酸、 萘磷酸、烷基磷酸、甘油磷酸等有机磷酸；可以含有取代基的苯次磷酸、萘次 磷酸、烷基次磷酸、甘油次磷酸等有机次磷酸；甘氨酸、β-丙氨酸等氨基酸 类；三乙醇胺的盐酸盐等含有羟基的胺的盐酸盐；黄色染料。这些可以单独使 用，也可以混合2种以上使用。
有机底涂层可以使用下述方法设置。即，可以通过将上述有机化合物溶解 在水或甲醇、乙醇、甲基乙基酮等有机溶剂、或这些的混合溶剂中的溶液涂敷 在铝支撑体上并干燥设置有机底涂层的方法，将铝支撑体浸渍在上述有机化合 物溶解在水或甲醇、乙醇、甲基乙基酮等有机溶剂、或这些的混合溶剂的溶液 中、吸附上述有机化合物然后用水等洗涤并干燥设置有机底涂层的方法。
在前一种方法中，溶解了上述有机化合物的溶液的浓度优选为0.005～ 10wt％。涂敷的方法，没有特别地限定，可以使用棒涂、旋涂、喷涂、帘膜式涂 敷等任一种方法。另外，在后一种方法中，溶解了上述有机化合物的溶液的浓 度优选为0.01～20wt％、更优选为0.05～5wt％，浸渍温度优选为20～90℃、更 优选为25～50℃，浸渍时间优选为0.1秒～20分钟、更优选为2秒～1分钟。 这些方法中使用的溶液也可以通过氨、三乙胺、氢氧化钾等碱性物质和盐酸、 磷酸等酸性物质调节pH，在pH1～12的范围内使用。
有机底涂层干燥后的覆盖量优选为2～200mg/m2、更优选为5～100mg/m2。 如果在上述范围内，耐印性变得更好。
另外，特开平11-109637号公报中记载的含有酸基和翁基的高分子化合物 的中间层也可以作为底涂层使用。 <背面涂层>
在根据上述得到的支撑体上制作平版印刷版原版的时候，为了即使重叠也 不会损伤记录层，也可以根据需要在反面(没有设置记录层侧的面)设置由有 机高分子化合物组成的覆盖层(以下也称为“背面涂层”)。
作为背面涂层的主成分，优选使用选自玻璃转化温度为20℃以上的饱和共 聚聚酯树脂、酚氧树脂、聚乙烯基缩醛树脂和偏二氟乙烯共聚树脂中的至少一 种树脂。
饱和共聚聚酯树脂由二羧酸单元和二醇单元构成。作为二羧酸单元，可列 举的是例如邻苯二甲酸、对苯二甲酸、间苯二甲酸、四溴苯二甲酸、四氯苯二 甲酸等芳香族二羧酸；己二酸、壬二酸、琥珀酸、草酸、辛二酸、癸二酸(セ バチン酸)、丙二酸、1，4-环己二酸等饱和脂肪族二羧酸。
背面涂层还可以适当含有用于着色的染料和颜料、用于提高与支撑体密合 性的硅烷偶合剂、由重氮盐构成的重氮树脂、有机膦酸、有机磷酸、阳离子性 聚合物、作为润滑剂通常使用的蜡、高级脂肪酸、高级脂肪酸酰胺、由二甲基 硅氧烷构成的硅氧烷化合物、改性的二甲基硅氧烷、聚乙烯粉末等。
背面涂层的厚度，即使基本上没有垫纸、只要不损伤下面所述的记录层就 可以，优选为0.01～8μm。厚度如果不足0.01μm，很难防止在对准平版印刷 版原版操作时记录层的擦伤。另外，厚度如果超过8μm，由于在印刷中、平版 印刷版周边使用的药品，有时背面涂层膨胀厚度改变，外压改变印刷特性变差。
作为在支撑体反面设置背面涂层的方法，可以使用各种各样的方法。可列 举的是例如，在适当溶剂中溶解上述背面涂层用成分并用溶液涂敷、或者用乳 化分散液涂敷并干燥的方法；用粘结剂和热将预先形成薄膜状的东西粘合在支 撑体上的方法；用熔融挤出机形成熔融薄膜、粘合在支撑体上的方法。基于确 保合适的厚度，最优选的是在适当溶剂中溶解背面涂层用成分、干燥的方法。 在该方法中，可以单独或混合如特开昭62-251739号公报中记载的有机溶剂、 作为溶剂使用。
在平版印刷版原版的制作中，既可以在支撑体上首先设置反面的背面涂层 和表面的记录层中任何一个，另外也可以同时设置两个。 <记录层>
本发明的平版印刷版原版，通过在如此得到的铝支撑体上设置可以通过红 外线激光曝光写入的记录层制得。
用于本发明中的感热层，只要是可以通过红外线激光曝光写入的记录层， 没有特别地限定。可列举的是例如，含有具有热反应性官能团的微粒子聚合物 或包含具有热反应性官能团化合物的微胶囊的感热层，和含有红外线吸收剂和 在水中不溶但在碱性水溶液中可溶的高分子化合物、可以通过红外线激光照射 写入的感热层。
在本发明的平版印刷版原版中，记录层优选是含有： (a)具有热反应性官能团的微粒子聚合物，或 (b)包含具有热反应性官能团化合物的微胶囊的感热层。如果使用该感热层， 可以制得机上显象型平版印刷版原版。
下面，对于通过本发明得到的平版印刷版原版，例举使用含有具有热反应 性官能团的微粒子聚合物或包含具有热反应性官能团化合物的微胶囊的感热层 的情况进行说明。
作为上述(a)和(b)中共同的热反应性官能团，可列举的是例如进行聚 合反应的乙烯性不饱和基团(例如丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基)， 进行加成反应的异氰酸酯基或其嵌段体、其反应对方即含有活性氢原子的官能 团(例如氨基、羟基、羧基)，同样进行加成反应的环氧基、其反应对方即氨基、 羧基或羟基，进行缩合反应的羧基和羟基或氨基，进行开环加成反应的酸酐和 氨基或羟基。用于本发明中的热反应性官能团并不局限于这些，只要形成化学 键，也可以是进行任一个反应的官能团。
作为微粒子聚合物(a)中合适的热反应性官能团，可列举的是例如，丙烯 酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基、环氧基、氨基、羟基、羧基、异氰酸 酯基、酸酐基以及保护它们的基团。向聚合物粒子中导入热反应性官能团，既 可以在聚合物聚合时进行，也可以在聚合后利用高分子反应进行。
在聚合物聚合时导入热反应性官能团的情况下，优选使用含有热反应性官 能团的单体进行乳液聚合或悬浮聚合。
作为含有热反应性官能团单体的具体例子，可列举的是甲基丙烯酸烯丙酯、 丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸乙烯酯、丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、 丙烯酸缩水甘油酯、2-异氰酸酯基乙基甲基丙烯酸酯、由其醇等形成的嵌段异 氰酸酯、2-氨乙基甲基丙烯酸酯、2-氨乙基丙烯酸酯、2-羟基乙基甲基丙烯 酸酯、2-羟基乙基丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐、二官能丙烯酸 酯、二官能甲基丙烯酸酯。用于本发明中的含有热反应性官能团的单体并不局 限于这些。
作为可以与这些单体共聚、不含有热反应性官能团的单体，可列举的是例 如苯乙烯、丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯、丙烯腈、醋酸乙烯。用于本发 明中的不含有热反应性官能团的单体并不局限于这些。
作为在聚合物聚合之后导入热反应性官能团的情况下使用的高分子反应， 可列举的是例如国际公开第96/34316号小册子中记载的高分子反应。
上述微粒子聚合物(a)中，优选与微粒子聚合物一起通过热量合为一体的 物质，更优选其表面为亲水性分散在水中的物质。另外，在仅仅涂敷微粒子聚 合物、在比凝固温度还低的温度下干燥制作时薄膜的相切角(空中水滴)，优选 比在比凝固温度还高的温度下干燥制作时薄膜的相切角(空中水滴)还低。
要使得这样的微粒子聚合物的表面成为亲水性，只要在微粒子聚合物的表 面上吸附聚乙烯醇、聚乙二醇等亲水性聚合物或低聚物、或者亲水性低分子化 合物，但是并不局限于这些。
微粒子聚合物(a)的凝固温度优选为70℃以上，但是如果考虑经时稳定 性则更优选100℃以上。
微粒子聚合物(a)的平均粒径优选为0.01～20μm，其中更优选为0.05～ 2.0μm，优选0.1～1.0μm。在此范围内可以获得良好的分辨率和经时稳定性。
微粒子聚合物(a)的添加量，优选为感热层固体成分的50wt％以上，更优 选为60wt％以上。
作为微胶囊(b)中合适的热反应性官能团，可列举的是例如，聚合性不饱 和基团、羟基、羧基、羧酸酯基、酸酐基、氨基、环氧基、异氰酸酯基、异氰 酸酯嵌段体。
作为含有聚合性不饱和基团的化合物，优选为含有至少1个、优选2个以 上乙烯性不饱和键例如丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基的化合物。 这样的化合物群是该工业领域中众所周知的化合物，在本发明中，并没有特别 地局限于这些可以使用。这些作为化学形态是单体、预聚物即二聚物、三聚物 及低聚物，或者它们的混合物，以及它们的共聚物。
具体可列举的是例如，不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、 巴豆酸、异巴豆酸、马来酸)、其酯、不饱和羧酸酰胺。其中，优选为不饱和羧 酸和脂肪族多元醇的酯以及不饱和羧酸和脂肪族多元胺的酰胺。
另外，含有羟基、氨基、巯基等亲核性取代基的不饱和羧酸酯或不饱和羧 酸酰胺与单官能或多官能异氰酸酯或环氧化物的加成产物，以及与单官能或多 官能羧酸的脱水缩合产物等也适合使用。
另外，含有异氰酸酯基、环氧基等亲电子性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺 与单官能或多官能醇、胺或硫醇的加成产物，以及含有卤素基团和对甲苯磺酰 氧基等脱离性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇、胺或硫醇的 置换产物也适合。
另外，作为其他合适的例子，可列举的是将上述不饱和羧酸替换为不饱和 膦酸或氯甲基苯乙烯的化合物。
不饱和羧酸和脂肪族多元醇的酯的聚合性化合物中，作为丙烯酸酯，可列 举的是例如二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸1，3-丁二醇酯、 二丙烯酸1，4-丁二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、三羟甲基 丙烷二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙 基)酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、二丙烯酸己二醇酯、二丙烯酸1，4-环己 二醇酯、二丙烯酸四甘醇酯、二丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯、四 丙烯酸季戊四醇酯、二丙烯酸二季戊四醇酯、五丙烯酸二季戊四醇酯、六丙烯 酸二季戊四醇酯、三丙烯酸山梨醇酯、四丙烯酸山梨醇酯、五丙烯酸山梨醇酯、 六丙烯酸山梨醇酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰尿酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物。
作为甲基丙烯酸酯，可列举的是例如二甲基丙烯酸1，4-丁二醇酯、二甲 基丙烯酸三甘醇酯、二甲基丙烯酸新戊二醇酯、三羟甲基丙烷甲基丙烯酸酯、 三羟甲基乙烷甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸1，3-丁 二醇酯、二甲基丙烯酸己二醇酯、二甲基丙烯酸季戊四醇酯、三甲基丙烯酸季 戊四醇酯、四甲基丙烯酸季戊四醇酯、二甲基丙烯酸二季戊四醇酯、六甲基丙 烯酸二季戊四醇酯、三甲基丙烯酸山梨醇酯、四甲基丙烯酸山梨醇酯、二[p- (3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、二[p-(甲基丙烯 酰氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷。
作为衣康酸酯，可列举的是例如二衣康酸乙二醇酯、二衣康酸丙二醇酯、 二衣康酸1，3-丁二醇酯、二衣康酸1，4-丁二醇酯、二衣康酸四亚甲基二醇 酯、二衣康酸季戊四醇酯、四衣康酸山梨醇酯。
作为巴豆酸酯，可列举的是例如二巴豆酸乙二醇酯、二巴豆酸四亚甲基二 醇酯、二巴豆酸季戊四醇酯、四巴豆酸山梨醇酯。
作为异巴豆酸酯，可列举的是例如二异巴豆酸乙二醇酯、二异巴豆酸季戊 四醇酯、四异巴豆酸山梨醇酯。
作为马来酸酯，可列举的是例如二马来酸乙二醇酯、二马来酸三甘醇酯、 二马来酸季戊四醇酯、四马来酸山梨醇酯。
作为其他酯，可列举的是例如特公昭46-27926号公报、同样51-47334 号公报、同样57-196231号公报中记载的脂肪族醇系酯类，和特开昭59-5240 号公报、同样59-5241号公报、特开平2-226149号公报中记载的含有芳香族 系骨架的酯、特开平1-165613号公报中记载的含有氨基的酯。
另外，作为脂肪族多元胺化合物与不饱和羧酸的酰胺单体的具体例子，可 列举的是亚甲基二丙烯酰胺、亚甲基二甲基丙烯酰胺、1，6-己二丙烯酰胺、1， 6-己二甲基丙烯酰胺、二亚乙基三胺三丙烯酰胺、苯二甲基二丙烯酰胺、苯二 甲基二甲基丙烯酰胺。
作为其他优选的酰胺系单体，可列举的是例如特开昭54-21726号公报中 记载的含有亚环己基结构的单体。
另外，使用异氰酸酯和羟基的加成反应制造的氨基甲酸乙酯系加成聚合性 化合物也适合，具体可列举的是例如特公昭48-41708号公报中记载的在1个 分子中含有2个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物中加成下面式(II)表示 的含有羟基的不饱和单体而得到的、1个分子中含有2个以上聚合性不饱和基团 的氨基甲酸乙酯化合物。 CH2＝C(R1)COOCH2CH(R2)OH (II) (其中，R1和R2分别表示H或CH3。)
另外，也可以作为合适例子列举的是如特开昭51-37193号公报、特公平 2-32293号公报、同样2-16765号公报中记载的尿烷丙烯酸酯和，特公昭58 -49860号公报、同样56-17654号公报、同样62-39417号公报、同样62- 39418号公报中记载的含有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸乙酯化合物。
另外，还可以作为合适例子列举的是特开昭63-277653号公报、同样63 -260909号公报、特开平1-105238号公报中记载的、分子内含有氨基结构和 硫化物结构的聚合性化合物。
作为其他合适的例子，可列举的是如特开昭48-64183号公报、特公昭49 -43191号公报、同样52-30490号公报中记载的聚酯丙烯酸酯类、环氧树脂和 (甲基)丙烯酸反应的环氧丙烯酸酯类等多官能的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。 另外，也可以作为合适例子列举的是特公昭46-43946号公报、特公平1-40337 号公报、同样1-40336号公报中记载的特定的不饱和化合物和特开平2-25493 号公报中记载的乙烯基膦酸系化合物等。另外，在某些情况下也适合列举的是 特开昭61-22048号公报中记载的含有全氟烷基的化合物。另外也适合例举的 是日本粘结协会志、20卷7号第300～308页(1984年)中作为光固性单体和 低聚物介绍的物质。
作为合适的环氧化合物，可列举的是例如，甘油聚缩水甘油基醚、聚乙二 醇二缩水甘油基醚、聚丙烯二缩水甘油基醚、三羟甲基丙烷聚缩水甘油基醚、 山梨醇聚缩水甘油基醚、双酚类或多元酚类或者它们加氢产物的聚缩水甘油基 醚。
作为合适的异氰酸酯化合物，可列举的是例如甲苯二异氰酸酯、二苯基甲 烷二异氰酸酯、聚亚甲基聚苯聚异氰酸酯、苯二甲基二异氰酸酯、萘二异氰酸 酯、环己烷亚苯基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、 环己基二异氰酸酯，或者用醇或胺将它们嵌段的化合物。
作为合适的胺化合物，可列举的是例如乙二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基 四胺、六亚甲基二胺、丙邻二胺、聚乙烯亚胺。
作为合适的含有羟基的化合物，可列举的是例如末端含有羟甲基的化合物、 季戊四醇等多元醇、双酚·多元酚类。
作为合适的含有羧基的化合物，可列举的是例如1，2，4，5-苯四酸、1， 2，4-苯三酸、苯二甲酸等芳香族多元羧酸、己二酸等脂肪族多元羧酸。
作为合适的酸酐，可列举的是例如1，2，4，5-苯四酸酐、二苯甲酮四羧 酸酐。
作为合适的乙烯状不饱和化合物的共聚物，可列举的是例如甲基丙烯酸烯 丙酯的共聚物。具体可列举的是例如，甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸共聚物、 甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸乙酯共聚物、甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸丁 酯共聚物。
作为微胶囊化的方法，公知的方法可以适用。例如，作为微胶囊的制造方 法可列举的是美国专利第2800457号说明书、同样第2800458号说明书中记载 的利用凝聚的方法，英国专利第990443号说明书、美国专利第3287154号说明 书、特公昭38-19574号公报、同样42-446号公报、同样42-711号公报中 记载的通过界面聚合法的方法，美国专利第3418250号说明书、同样第3660304 号说明书中记载的通过析出聚合物的方法，美国专利第3796669号说明书中记 载的使用异氰酸酯多元醇壁材料的方法，美国专利第3914511号说明书中记载 的使用异氰酸酯壁材料的方法，美国专利第4001140号说明书、同样第4087376 号说明书、同样第4089802号说明书中记载的使用尿素-甲醛系或尿素甲醛- 间苯二酚系壁形成材料的方法，美国专利第4025445号说明书中记载的使用蜜 胺-甲醛树脂、羟基纤维素等壁材的方法，特公昭36-9163号公报、同样51 -9079号公报中记载的通过单体原位聚合的方法，英国专利第930422号说明 书、美国专利第3111407号说明书中记载的喷雾干燥法，英国专利第952807号 说明书、同样第967074号说明书中记载的电解分散冷却法，但是本发明并不局 限于这些。
微胶囊(b)中适合使用的微胶囊壁，是含有三维桥键、具有通过溶剂膨胀 的性质的物质。从这样的观点来看，微胶囊的壁材优选是聚脲、聚氨酯、聚酯、 聚碳酸酯、聚酰胺或这些的混合物，特别优选的是聚脲和聚氨酯。另外，在微 胶囊壁中也可以导入含有热反应性官能团的化合物。
微胶囊(b)的平均粒径优选为0.01～20μm、更优选为0.05～2.0μm、特 别优选为0.10～1.0μm。如果在上述范围内，就可以获得良好的分辨率和经时 稳定性。
微胶囊(b)既可以是胶囊相互通过热合为一体，也可以不合为一体。主要 是微胶囊的内包物中涂敷时渗出胶囊表面或微胶囊外的物质，或者浸入微胶囊 壁的物质，最好通过热发生化学反应。也可以与添加的亲水性树脂或添加的低 分子化合物反应。另外，在2种以上的微胶囊中，通过分别使之具有不同官能 团相互热反应的官能团，微胶囊也可以相互反应。
因而，通过热微胶囊相互熔融合为一体在形成图像方面是优选的，但是不 是必须的。
微胶囊(b)向感热层中的添加量，换算成固体成分，优选为10～60wt％、 更优选为15～40wt％。如果是上述范围，可以获得良好的机上显象性、同时获得 良好的感光度和耐印性。
在向感热层中添加微胶囊(b)时，可以溶解内包物，同时向微胶囊分散剂 中添加壁材膨胀的溶剂。通过这样的溶剂，可以促进内包的含有热反应性官能 团的化合物向微胶囊外扩散。
这样的溶剂取决于微胶囊分散剂、微胶囊壁的材质、壁厚和内包物，但是 多数可以很容易从市场上出售的溶剂中选择。例如在由交联聚脲、聚氨酯构成 的水分散性微胶囊的情况下，优选醇类、醚类、乙缩醛类、酯类、酮类、多元 醇类、酰胺类、胺类、脂肪酸类等。
具体可列举的是例如，甲醇、乙醇、叔丁醇、正丙醇、四氢呋喃、乳酸甲 酯、乳酸乙酯、甲基乙基酮、丙二醇一甲基醚、乙二醇二乙基醚、乙二醇一甲 基醚、γ-丁内酯、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺，但是本发明 并不局限于这些。另外，也可以混合2种以上这些溶剂。
也可以使用在微胶囊分散液中不溶解、但是如果混合上述溶剂则溶解的溶 剂。添加量取决于原材料的组合，但是通常优选为涂敷液的5～95wt％，更优选 为10～90wt％，特别优选为15～85wt％。
作为记录层，在使用含有上述具有热反应性官能团的微粒子聚合物(a)或 包含具有热反应性官能团化合物的微胶囊(b)的感热层的情况下，根据需要也 可以添加这些引发或促进反应的化合物。作为引发或促进反应的化合物，可列 举的是例如通过热产生自由基或阳离子的化合物。具体可列举的是例如三苯咪 唑二聚物、三卤代甲基化合物、过氧化物、偶氮化合物、包含重氮盐或二苯基 碘翁盐等翁盐、酰基膦、亚氨基磺酸盐。
这些化合物优选在感热层固体成分的1～20wt％范围内添加，更优选在3～ 10wt％的范围内。如果在上述范围内，不会损害机上显象性，可以获得良好的 反应引发效果或反应促进效果。
感热层中也可以添加亲水性树脂。通过添加亲水性树脂不仅机上显象性变 得良好，而且也提高了感热层自体的薄膜强度。
作为亲水性树脂，优选为含有羟基、羧基、羟乙基、羟丙基、氨基、氨乙 基、氨丙基、羧甲基等亲水基团的树脂。
作为亲水性树脂的具体例子，可列举的是例如阿拉伯胶、酪蛋白、明胶、 淀粉衍生物、羧甲基纤维素及其钠盐、醋酸纤维素、海藻酸钠、醋酸乙烯-马 来酸共聚物类、苯乙烯-马来酸共聚物类、聚丙烯酸类及其盐、聚甲基丙烯酸 类及其盐、羟乙基甲基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟乙基丙烯酸酯的均聚物 及共聚物、羟丙基甲基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟丙基丙烯酸酯的均聚物 及共聚物、羟丁基甲基丙烯酸酯的均聚物及共聚物、羟丁基丙烯酸酯的均聚物 及共聚物、聚乙二醇类、羟基丙烯聚合物类、聚乙烯醇类、水解度至少60wt％、 优选至少80wt％的水解聚醋酸乙烯酯、聚乙烯基缩甲醛、聚乙烯基丁缩醛、和聚 乙烯基吡咯烷酮、丙烯酰胺的均聚物及共聚物、甲基丙烯酰胺的均聚物及聚合 物、N-羟甲基丙烯酰胺的均聚物及共聚物。
亲水性树脂向感热层中的添加量，优选为感热层固体成分的5～40wt％、更 优选为10～30wt％。如果是上述范围，可以获得良好的机上显象性和薄膜强度。
为了提高感光度，在感热层上可以含有吸收红外线并发热的光热转换剂。 这样的光热转换剂只要是在700～1200nm的至少一部分中具有吸收带的光吸收 物质，就可以使用各种颜料、染料和金属微粒子。
作为颜料的种类，可列举的是例如黑色颜料、褐色颜料、红色颜料、紫色 颜料、蓝色颜料、绿色颜料、荧光颜料、金属粉颜料、其他聚合物结合颜料。 具体可列举的是例如不溶性偶氮颜料、偶氮沉淀(アゾレ-キ)颜料、缩合偶氮 颜料、螯合偶氮颜料、酞菁系染料、蒽醌系颜料、二萘嵌萘颜料及ペリノン (perynon)系颜料、硫靛系颜料、喹吖啶酮系颜料、二恶嗪系颜料、异吲哚酮(イ ソインドリノン)系颜料、喹酞酮系颜料、光敏处理的沉淀颜料、吖嗪颜料、 亚硝基颜料、硝基颜料、天然颜料、荧光颜料、无机颜料、碳黑。
在本发明中，可以使用市场上出售的颜料，以及染料索引(C.I.)手册、 《最新颜料手册》(日本颜料技术协会编，1977年刊)、《最新颜料应用技术》 (CMC出版，1986年刊)和《印刷油墨技术》(CMC出版，1984年刊)中记载的 红外吸收性颜料。
颜料既可以不进行表面处理使用，也可以进行表面处理使用。作为表面处 理的方法，可列举的是例如表面涂敷亲水性树脂和亲油性树脂的方法、粘附表 面活性剂的方法、在颜料表面上结合反应性物质(例如硅溶胶、氧化铝溶胶、 硅烷偶合剂和环氧化合物、异氰酸酯化合物)的方法。上述表面处理方法记载 在《金属皂碱的性质和应用》(幸书房)、《印刷油墨技术》(CMC出版，1984年 刊)和《最新颜料应用技术》(CMC出版，1986年刊)中。这些颜料中，吸收红 外线的颜料在适用于红外线发光的激光器中方面是优选的。作为这样吸收红外 线的颜料优选为碳黑。
颜料的粒径优选在0.01～1μm的范围内，更优选在0.01～0.5μm的范围 内。
作为染料，可以使用市场上出售的染料和、文献(例如，《染料手册》(有 机合成化学协会编集，昭和45年刊)、《化学工业》1986年5月号第45～51的 “近红外吸收色素”、“90年代功能性色素的开发和市场动向”第2章2.3项 (1990)CMC)或专利中记载的公知的染料。
具体优选的是偶氮染料、金属络合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、蒽醌 染料、酞菁染料、碳翁染料、醌亚胺染料、多次甲基染料、花青染料等红外线 吸收染料。
另外，可列举的是例如特开昭58-125246号公报、同样59-84356号公报、 同样60-78787号等中记载的花青染料，特开昭58-173696号公报、同样58 -181690号公报、同样58-194595号等中记载的次甲基染料，特开昭58- 112793号公报、同样58-224793号公报、同样59-48187号公报、同样59- 73996号公报、同样60-52940号公报、同样60-63744号等中记载的萘醌染料， 特开昭58-112792号等中记载的スクワリリウム(squarilium)染料，英国专 利第434875号说明书中记载的花青染料，美国专利第4756993号说明书中记载 的染料，美国专利4973572号说明书中记载的花青染料，特开平10-268512号 公报中记载的染料，同样11-235883号公报中记载的酞菁化合物。
另外，作为染料美国专利第5156938号说明书中记载的近红外吸收敏感剂 也适合使用，另外美国专利第3881924号说明书中记载的取代的芳基苯并(硫 代)芘盐，特开昭57-142645号中记载的三次甲基噻喃翁盐，特开昭58-181051 号公报、同样58-220143号公报、同样59-41363号公报、同样59-84248号 公报、同样59-84249号公报、同样59-146063号公报、同样59-146061号 公报中记载的芘系化合物，特开昭59-216146号公报中记载的花青染料，美国 专利第4283475号说明书中记载的五次甲基噻喃翁盐等和特公平5-13514号公 报、同样5-19702号公报中记载的芘化合物，挨剖林(エポリン)公司制造的 挨剖来的(エポライト)III-178、挨剖来的(エポライト)III-130、挨剖 来的(エポライト)III-125等也适合使用。
这些当中，优选的染料是水溶性染料。下面表示具体的例子。 化2和化3 【化2】 【化3】
作为可以与感热层微胶囊的亲油性的含有热反应性官能团的化合物一起使 用的光热转换剂，也可以使用上述红外线吸收染料，但是更优选使用亲油性的 染料。作为具体例子，可列举以下花青染料。 (P55，化4) 【化4】
上述有机类的光热转换剂，优选以多达30wt％的范围添加至感热层中。更 优选为5～25wt％，特别优选7～20wt％。如果在上述范围内，可以获得良好的感 光度。
在感热层中，作为光热转换剂也可以使用金属微粒子。金属微粒子多数具 有光热转换性、并且具有自发热性。作为优选的金属微粒子，可列举的是例如 Si、Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Mo、Ag、Au、Pt、Pd、 Rh、In、Sn、W、Te、Pb、Ge、Re、Sb的单质或合金，或者这些氧化物或硫化物 的微粒子。
在构成这些金属微粒子的金属中优选的金属，是在光照射时通过热容易形 成合为一体、熔点约1000℃以下并且在红外、可见光或紫外线区域有吸收的金 属，例如Re、Sb、Te、Au、Ag、Cu、Ge、Pb、Sn。
另外，特别优选的是熔点比较低、相对红外线的吸光度又比较高的金属微 粒子，例如Ag、Au、Cu、Sb、Ge、Pb，作为最优选的元素，可列举的是Ag、Au、 Cu。
另外，可以混合使用例如Re、Sb、Te、Au、Ag、Cu、Ge、Pb、Sn等低熔点 金属的微粒子和Ti、Cr、Fe、Co、Ni、W、Ge等自发热性金属的微粒子，也可 以用2种以上的光热转换物质构成。另外在制作AgPtPd等微小片时组合光吸收 特别大的金属种的微小片和其他金属微小片使用也是优选的。
这些粒子的粒径，优选为10μm以下，更以下为0.003～5μm，特别优选 为0.01～3μm。如果在上述范围内，可以获得良好的感光度和分辨力。
在本发明中，在使用这些金属微粒子作为光热转换剂时，其添加量优选为 感热层固体成分的10wt％，更优选为20wt％以上，特别优选为30wt％以上。如果 在上述范围内，可以获得较高的感光度。
感热层的邻接层即底涂层和下面所述的水溶性外涂层中也可以含有光热转 换剂。通过使得感热层、底涂层和外涂层中至少一个层含有光热转换剂，可以 提高红外线的吸收效率、提高感光度。
另外根据需要，感热层中还可以添加除上述之外各种化合物。例如，为了 进一步提高耐刷力，可以在感热层基体中添加多官能单体。作为该多官能单体， 可以使用作为微胶囊中加入的单体所例举的单体。作为特别优选的单体，可以 列举三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。
另外，为了在感热层中、在形成图像之后容易产生图像部分和非图像部分 的区别，可以使用可见光区域中具有较大吸收的染料作为图像的着色剂。具体 可列举的是油黄#101、油黄103、油粉红312、油绿BG、油蓝BOS、油蓝#603、 油黑BY、油黑BS、油黑T-505(以上由哦林岸特(オリエント)化学工业公司制 造)、维多利亚纯蓝、龙胆紫(CI42555)、甲基紫(CI42535)、乙基紫、若丹明 B(CI145170B)、孔雀绿(CI42000)、亚甲蓝(CI52015)、特开昭62-293247号 公报中记载的染料。另外，酞菁系颜料、偶氮系颜料、氧化钛等颜料也能够适 合使用。添加量相对于感热层涂敷液的全部固体成分优选为0.01～10wt％。
另外，在本发明中，为了阻止在感热层涂敷液的调制中和保存中乙烯性不 饱和化合物不需要的热聚合，优选添加少量的热聚合抑制剂。作为适合的热聚 合抑制剂，可列举的是例如氢醌、对甲氧基苯酚、二叔丁基对甲酚、苯三酚、 叔丁基邻苯二酚、苯醌、4，4’-硫代二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2’-亚 甲基二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基-N-羟基苯胺铝盐。热聚合抑制 剂的添加量优选为相对于总组合物重量的约0.01～5wt％。
另外根据需要，为了防止由于氧产生的聚合阻碍，也可以添加二十二烷酸 和二十二酸酰胺之类的高级脂肪酸及其衍生物、在涂敷后的干燥过程中普遍存 在于感热层的表面上。高级脂肪酸及其衍生物的添加量优选为感热层固体成分 的约0.1～约10wt％。
另外，在感热层中，根据需要可以加入用于赋予涂层柔软性等的增塑剂。 作为增塑剂，可列举的是例如聚乙二醇、柠檬酸三丁酯、邻苯二甲酸二乙酯、 邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二己酯、邻苯二甲酸二辛酯、磷酸三甲苯酯、 磷酸三丁酯、磷酸三辛酯、油酸四氢糠酯。
感热层是将必需的上述各成分溶解在溶剂中调制成涂敷液，然后涂敷。作 为这里使用的溶剂，可列举的是例如二氯乙烯、环己酮、甲基乙基酮、甲醇、 乙醇、丙醇、乙二醇一甲基醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-甲氧基乙基乙缩醛、1- 甲氧基-2-丙基乙缩醛、二甲氧基乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N，N-二甲基 乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、四甲基脲、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、环丁 砜、γ-丁内酯、甲苯、水，但是并不局限于此。这些溶剂可以单独或混合使 用。涂敷液的固体成分浓度优选为1～50wt％。
另外，涂敷并干燥后得到的支撑体上的感热层涂敷量(固体成分)，根据用 途而不同，但是一般优选为0.5～5.0g/m2。如果涂敷量比上述范围少，表观感 光度变大，但是完成图像记录功能的感热层的薄膜特性降低。作为涂敷的方法， 可以使用各种方法。可列举的是例如棒涂、旋涂、喷涂、帘膜式涂敷、浸涂、 气刀式涂敷、刀片式涂敷、滚涂。
在感热层的涂敷液中，可以加入用于提高涂敷性的表面活性剂例如特开昭 62-170950号公报中记载的氟系表面活性剂。添加量优选为感热层固体成分的 0.01～1wt％，更优选为0.05～0.5wt％。
在本发明的平版印刷版原版中，为了防止由于亲油性物质造成的感热层表 面的污染，在感热层上可以设置水溶性的外涂层。本发明中使用的水溶性外涂 层是在印刷时可以很容易除去的涂层，含有选自水溶性的有机高分子化合物的 树脂。
作为水溶性的有机高分子化合物，可列举的是可以通过涂敷干燥、涂膜含 有薄膜形成能的物质。具体可例举的是聚醋酸乙烯酯(其中水解率为65％以上的 物质)；聚丙烯酸、其碱金属盐或胺盐；聚丙烯酸共聚物、其碱金属盐或胺盐； 聚甲基丙烯酸、其碱金属盐或胺盐；聚甲基丙烯酸共聚物、其碱金属盐或胺盐； 聚丙烯酰胺、其共聚物；聚羟乙基丙烯酸酯；聚乙烯基吡咯烷酮、其共聚物； 聚乙烯基甲基醚；乙烯基甲基醚/马来酸酐共聚物；聚-2-丙烯酰胺-2-甲基 -1-丙磺酸、其碱金属盐或胺盐；聚-2-丙烯酰胺-2-甲基-1-丙磺酸共 聚物、其碱金属盐或胺盐；阿拉伯胶；纤维素衍生物(例如羧甲基纤维素、羧 乙基纤维素、甲基纤维素)、其变性体；白糊精；呋喃(プルラン)；发酵醚化 糊精。另外，根据目的，可以混合2种以上这些物质使用。
另外，在外涂层上也可以添加上述光热转换剂。
作为光热转换剂使用的颜料，为了提高相对于添加层的分散性，根据需要 可以进行公知的表面处理使用。作为表面处理的方法，可列举上述方法。
添加至外涂层的颜料，优选是表面用水溶性树脂和容易分散并且不损害亲 水性的亲水性树脂和硅溶胶涂敷的颜料。作为分散颜料的方法，可以使用可用 于油墨制造、色粉制造等中的公知的分散技术。
作为特别优选的颜料，可列举的是碳黑。
在使用颜料系和染料系光热转换剂的情况下，其添加比例优选为外涂层固 体成分的1～70wt％，更优选为2～50wt％。
如果在上述范围内，可以获得良好的感光度，但是在外涂层中添加光热转 换剂的情况下，根据其添加量，可以有时减少感热层和底涂层的光热转换剂的 添加量，有时不添加。
另外，为了确保外涂层中涂敷的均匀性，在水溶液涂敷的时候，可以添加 聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯十二烷基醚等非离子系表面活性剂。
外涂层的干燥涂敷量，优选为0.1～2.0g/m2。在该范围内不损害机上显影 性，通过指纹粘附的污渍等亲油性物质可以很好地防止感热层表面的污染。
在本发明的平版印刷版原版中，作为记录层也可以使用除了上述含有(a) 具有热反应性官能团的微粒子聚合物或(b)包含具有热反应性官能团化合物的 微胶囊的感热层以外的记录层。可列举的是例如使用负型红外线激光记录材料 的感光层、使用正型红外线激光记录材料的感光层、使用磺酸盐型红外线激光 材料的感光层。
在制造本发明的平版印刷版原版可以在红外线激光中曝光的负型平版印刷 版、所谓热负片型平版印刷版原版的情况下，优选使用负型红外线激光记录材 料设置感光层。
作为负型红外线激光记录材料，适合使用由(A)通过光或热分解并产生酸 的化合物、(B)通过酸交联的交联剂、(C)碱可溶性树脂、(D)红外线吸收剂 和(E)通式(R3-X)n-Ar-(OH)m表示的化合物(式中，R3表示碳原子数 为6～32的烷基或烯基，X表示单键、O、S、COO或CONH，Ar表示芳香族烃基、 脂肪族烃基或杂环基团，n表示1～3的整数，m表示1～3的整数。)组成的组 合物。
一般来说，热负片型平版印刷版原版存在所谓在显影后指纹容易粘附、图 像部分的强度减弱的缺陷，但是这样的缺陷可以通过上述组合物形成感光层来 消除。
作为(A)通过光或热分解产生酸的化合物，可列举的是代表特愿平3- 140109号说明书(特开平04-365048号公报)中记载的亚氨基磺酸盐、光分解 产生磺酸的化合物，又可列举的是通过200～500nm波长的照射或100℃以上的 加热产生酸的化合物。
作为合适的酸产生剂，可列举的是例如光阳离子聚合引发剂、光自由基聚 合的引发剂、色素类的光脱色剂、光变色剂。这些酸产生剂优选以相对于记录 材料总固体含量0.01～50wt％的量添加。
作为(B)通过酸交联的交联剂，适合列举的是例如(i)用烷氧基甲基或 羟基取代的芳香族化合物、(ii)含有N-羟基甲基、N-烷氧基甲基或N-酰基 氧甲基的化合物、(iii)环氧化合物。
作为(C)碱可溶性树脂，可列举的是例如酚醛树脂和侧链上含有羟基芳基 的聚合物。
作为(D)红外线吸收剂，可列举的是例如有效吸收760～1200nm红外线的 偶氮染料、蒽醌染料、酞菁染料等市场上出售的染料；染料索引中记载的黑色 颜料、红色颜料、金属粉颜料、酞菁系颜料。另外，为了提高图像的易见性， 优选添加油黄、油蓝#603等图像着色剂。另外，为了改善感光层涂膜的柔软性， 可以添加聚乙二醇和邻苯二甲酸酯之类的增塑剂。
另外，在制造本发明的平版印刷版原版可以在红外线激光中曝光的正型平 版印刷版、所谓热正片型平版印刷版原版的情况下，优选使用正型红外线激光 记录材料设置感光层。
作为正型红外线激光记录材料，适合使用由(A)碱可溶性高分子、(B)与 该碱可溶性高分子互溶并使得碱溶解性降低的化合物和(C)吸收红外激光的化 合物组成的正型红外线激光记录材料。
如果使用该正型红外线激光记录材料，可以消除非图像部分相对于碱性显 影液溶解性不足，另外可以制得难以破损、图像部分的耐碱性显影适应性方面 优良、图像稳定性好的平版印刷版原版。
作为碱可溶性高分子，可列举的是例如(i)苯酚树脂、甲酚树脂、酚醛树 脂、苯三酚树脂等代表的含有酚性羟基的高分子化合物、(ii)使得含有磺酰胺 基团的聚合单体单独聚合或与其他聚合性单体共聚得到的化合物、(iii)N- (对甲苯磺酰基)甲基丙烯酰胺、N-(对甲苯磺酰基)丙烯酰胺等代表的分子 内含有活性亚氨基的化合物。
作为(B)与上述(A)成分互溶并使得碱溶解性降低的化合物，可列举的 是例如砜化合物、铵盐、锍盐、酰胺化合物等与上述(A)成分相互作用的化合 物。例如在上述(A)成分是酚醛树脂的情况下，作为(B)成分适合列举的是 花青色素。
作为(C)吸收红外激光的化合物，优选在750～1200nm红外区域有吸收带、 具有光/热转换功能的材料。作为具有这样功能的材料，可列举的是例如是库洼 里屋木(スクワリリウム)色素、扑里屋木(ピリリウム)盐色素、碳黑、不 溶性偶氮染料、蒽醌系染料。这些优选为0.01～10μm范围的大小。
热正片型平版印刷版原版可以通过如下步骤制得：将该正型红外线激光记 录材料溶解在甲醇、甲基乙基酮等有机溶剂中，根据需要添加染料，在支撑体 上涂敷并干燥使得干燥后的重量为1～3g/m2。
另外，在本发明的平版印刷版原版中，作为记录层也可以使用磺酸盐型红 外线激光记录材料。
作为磺酸盐型红外线激光记录材料，可以使用例如专利第270480号说明 书、专利第2704872号说明书等中记载的磺酸盐化合物。另外也可以使用通过 由红外线激光照射产生的热产生磺酸、可溶于水的感光材料，用溶胶凝胶固定 苯乙烯磺酸酯、然后照射红外线激光表面极性改变的感光材料，和特愿平9- 89816号说明书(特开平10-282646号公报)、特愿平10-22406号说明书(特 开平11-218928号公报)、特愿平10-027655号说明书(特开平10-282672 号公报)中记载的通过激光曝光疏水性表面改变至亲水性的感光材料。
另外，为了进一步改善由该通过热产生磺酸基的高分子化合物组成的感光 层的特性，优选结合使用下面列举的方法。作为这样的方法，可列举的是例如 (1)特愿平10-7062号说明书(特开平11-202483号公报)中记载的通过结 合使用酸或碱发生剂的方法、(2)特愿平9-340358号说明书(特开平11- 174685号公报)中记载的设置特定中间层的方法、(3)特愿平9-248994号说 明书(特开平11-84658号公报)中记载的结合使用特定交联剂的方法、(4) 特愿平10-115354号说明书(特开平11-301131号公报)中记载的以固体粒 子表面修饰的形式使用的方法。
另外，作为利用通过激光曝光产生的热改变感光层的亲/疏水性的组合物的 其他例子，可列举的是例如美国专利第2764085号说明书中记载的由Werner络 合物组成的通过热改变至疏水性的组合物、特公昭46-27219号公报中记载的 特定糖类、蜜胺甲醛树脂等通过曝光改变至亲水性的组合物、特开昭51-63704 号公报中记载的通过加热方式曝光改变至疏水性的组合物、美国专利第4081572 号说明书中记载的由像邻苯二甲酰肼那样通过加热脱水/疏水化的聚合物组成 的组合物、特公平3-58100号公报中记载的具有四唑翁盐结构并通过加热亲水 化的组合物、特开昭60-132760号公报中记载的由磺酸改性聚合物组成的通过 曝光疏水化的组合物、特开昭64-3543号公报中记载的由亚氨基前体聚合物组 成的通过曝光疏水化的组合物、特开昭51-74706号公报中记载的由氟化碳聚 合物组成的通过曝光亲水化的组合物，可以使用这些组合物形成记录层。
另外，可列举的是特开平3-197190号公报中记载的由疏水性结晶性聚合 物组成的通过曝光改变至亲水性的组合物、特开平7-186562号公报中记载的 由通过加热不熔化的侧基改变至亲水性的聚合物和光热转换剂组成的组合物、 特开平7-1849号公报中记载的由含有微胶囊的三维交联的亲水性粘合剂组成 的通过曝光疏水化的组合物、特开平8-3463号公报中记载的原子价异构化或 质子移动异构化的组合物、特开平8-141819号公报中记载的通过加热发生层 内的相结构改变(相熔化)、改变亲/疏水性的组合物、特公昭60-228号公报 中记载的通过加热表面形态、表面的亲/疏水性改变的组合物，可以使用这些组 合物形成记录层。
在本发明中，作为用于记录层的优选记录材料的其他例子，可列举的是利 用由高功率和高密度的激光产生的热量、所谓通过加热方式曝光改变感光层和 支撑体之间的粘结性的组合物。具体可列举的是特公昭44-22957号公报中记 载的由热粘性物质或热反应性物质组成的组合物。
如此得到的本发明的平版印刷版原版，其特征在于在设置上述记录层之后 的阳极氧化薄膜的剖切面上，用下面式(1)表示的碳和铝的原子数比(C/Al) 为1.0以下。 C/Al＝(Ic/Sc)/(Ia1/Sa1) (1) Ic：碳(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度 Ia1：铝(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度 Sc：碳(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数 Sa1：铝(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数
对于碳和铝的原子数比(C/Al)的计算方法，采用附图进行更具体地说明。
图1是对于平版印刷版原版的阳极氧化薄膜的剖切面进行俄歇电子分光分 析得到的一例示意图。图1中，C是碳的峰，Al是铝的峰，O是氧的峰。俄歇电 子分光分析可以通过如下步骤进行：在即将分析之前将平版印刷版原版折弯几 乎180℃制成阳极氧化薄膜的剖切面，固定在俄歇电子分光分析装置附属的样品 架上，导入装置内。
从图1可以求出Ic(碳(KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度)和Ia1(铝 (KLL)的俄歇电子微分型峰至峰强度)。Sc(碳(KLL)的俄歇电子的相对感光 度系数)值为0.076，Sa1(铝(KLL)的俄歇电子的相对感光度系数)值为0.105， 通过将求出的Ic和Ia1值代入上述式(1)中，算出C/Al。在图1中，C/Al＝ 0.76。
还有，C/Al优选采用阳极氧化薄膜的剖切面的多个点(例如5点)进行俄 歇电子分光分析，求出其平均值。
以下表示一例俄歇电子分光分析的条件。 测定机器：FE-AES型SMART-200，阿路半促库发乙(アルバツクファイ)公司 制造 照射电流：约10nA 加速电压：10kV 照射电子束径：聚焦 腔室内压：约1×10-10Torr(约1.33×10-8Pa) 检测范围：20～2020eV、0eV/step，20ms/step 放大器电压：2250V
在本发明中，在设置记录层后的阳极氧化薄膜的剖切面上C/Al为1.0以下， 优选为0.8以下。C/Al为1.0以下，通过抑制侵入阳极氧化薄膜的微孔中，可 以较低地维持设置记录层后的阳极氧化薄膜的热传导率，由此本发明的平版印 刷版原版在制作平版印刷版时的耐印性、感光度和耐污渍性均变得优良。
下面，针对本发明中使用的铝支撑体的制造装置进行说明。
作为本发明中使用的铝支撑体的制造过程，优选为(1)将轧制、卷绕成螺 旋状的铝板从由多轴转塔组成的送经装置中输出，(2)在上述各处理(机械的 表面粗化处理、电化学的表面粗化处理、碱性腐蚀处理、酸性腐蚀处理、去斑 处理、阳极氧化处理、扩孔处理(酸处理或碱处理)、封孔处理、亲水性表面处 理等)之后，干燥处理铝板，(3)将铝板在上述由多轴转塔组成的卷绕装置中 卷绕成螺旋状，或者矫正铝板的平面性，然后切割成规定的长度并集聚。另外， 根据需要，在上述过程中也可以设置形成底涂层和记录层并干燥处理的工序， 通过上述卷绕装置将平版印刷版原版卷绕成螺旋状。
另外，在铝支撑体的制造中，优选具有1个以上使用检查铝板表面缺陷的 装置连续检查该缺陷、在发现的缺陷铝板的边缘部分粘贴目标标签的工序。另 外，在本发明的平版印刷版原版的制造中，优选设置在铝板输出工序和卷绕工 序中，在铝卷材交换的时候即使停止该铝板的移动，也能保持在上述各工序中 铝板的移动速度恒定的备用装置，在上述铝卷材输出工序之后，优选设置超声 波或电弧焊接铝板的接合工序。
铝支撑体制造中使用的装置，优选具有1个以上测量铝板的移动位置并矫 正移动位置的装置，另外，优选分别具有1个以上用于控制铝板张力降低(カツ ト)和移动速度的驱动装置和用于控制张力的张力调节装置。
另外，也优选用跟踪装置记录各工序的状态是否是希望的条件，在铝卷材 卷绕之前，在铝连结板(ウエブ)的边缘部分粘贴标签，在其标签后可以判定 是否是希望的条件。
在本发明中，优选使得铝板与合纸一起带电并相互吸附，然后切割和/或分 割成规定的长度。另外，优选根据在铝板边缘部分粘贴的标签的信息，在裁剪 成规定长度之后或裁剪之前，以其标签作为标记区分合格品部分和次品部分， 仅仅收集合格品部分。
在含有上述输出工序等各工序中，根据铝板的尺寸(厚度和宽度)、铝的材 质和铝连结板的移动速度，在各自的条件下设定最佳的张力是重要的。因此， 优选利用用于控制张力降低和移动速度的驱动装置和用于控制张力的张力调节 装置，设置多个反馈控制来自张力传感装置信号的张力控制装置。驱动装置一 般使用组合直流马达和主驱动滚筒的控制方法。主驱动滚筒以一般的树胶作为 材质，但是铝连结板在湿(wet)状态的工序中可以使用层压无纺织物制作的滚 筒。另外，作为各通道辊子(パスロ-ラ)，一般可以使用树胶或金属，但是在 铝连结板和容易产生滑动的地方为了防止滑动，在各通道辊子(パスロ-ラ) 上也可以设置连接马达和减速机、通过来自主驱动装置的信号以恒定的速度旋 转控制等辅助的驱动装置。
本发明中使用的铝支撑体，如特开平10-114046号公报中记载的那样，在 以轧制方向的算术平均粗糙度(Ra)作为R1，以宽方向的算术平均粗糙度(Ra) 作为R2的情况下，R1-R2优选在R1的30％以内，另外优选的是轧制方向的平均曲 率为1.5×10-3mm-1以下，宽方向的平均曲率为1.5×10-3mm-1以下，轧制方向和垂 直方向的平均曲率为1.0×10-3mm-1以下。
另外，进行上述表面粗化处理等制造的铝支撑体，优选使用滚筒直径为20～ 80mm、树胶硬度为50～95度的矫正滚筒矫正。由此，即使在平版感光印刷机的 自动传送工序中，也可以供给不会产生平版印刷版原版曝光偏移的平面性的铝 螺旋状的粗加工薄板。在特开平9-194093号公报中，记载了连结板的卷曲测定 方法及装置、卷曲校正方法及装置、以及连结板切断装置，本发明中也可以使 用这些。
另外，当连续制造铝支撑体时，电监测各工序是否在适当的条件下运行， 用跟踪装置记录各工序的状态是否是希望的条件，在铝卷材卷绕之前，在铝连 结板的边缘部分粘贴标签，之后通过其标签可以判断是否是希望的条件，在裁 剪、收集时可以判定其部分是否合格。
在上述表面粗化处理中使用的铝板的处理装置，优选是测定液体温度、比 重、电导率、超声波的传播速度中的一个以上，求出液体的组成，并进行反馈 控制，和/或前馈控制控制液体浓度恒定的装置。
在上述处理装置中的酸性水溶液中，开始为铝离子的铝板中含有的成分伴 随着铝板表面处理的进行而溶解。因此，为了保持铝离子浓度和酸或碱的浓度 恒定，优选间隙地添加水和酸或者水和碱并保持液体组成恒定。这里添加的酸 或碱的浓度优选为10～98wt％。
在控制上述酸或碱的浓度中，优选例如以下的方法。
首先，预先每次在各温度下测定预定使用的浓度范围内每个成分溶液的导 电率、比重或超声波的传播速度并作出数据表。然后参照预先作出被测定液的 导电率、比重或超声波的传播速度和温度数据的被测定液的数据表测定浓度。 高精度、高稳定地测定上述超声波的传播时间的方法，记载在特开平6-235721 号公报中。另外，对于利用上述超声波的传播速度测定浓度的系统，记载在特 开昭58-77656号公报中，另外，预先作出表示涉及每个液体成分的多个物理量 数据的数据表、并参照该数据表测定多成分液体的浓度的方法，记载在特开平 4-19559号公报中。
如果将采用上述超声波传播速度的浓度测定方法结合被测定液的导电率和 温度值并应用于铝支撑体的表面粗化工序中，由于实时准确进行操作的管理， 就会制造恒定质量的制品，牵连到产率的提高。另外，如果将不仅结合温度、 超声波的传播速度和导电率，而且使用温度和比重、温度和导电率、温度和导 电率和比重等各自的物理量预先作出对于每个浓度和温度的数据表、并参照该 数据表测定多成分液体的浓度的方法应用于铝支撑体的表面粗化处理工序中， 可以获得与上述同样的效果。
另外，通过参照测定比重和温度、预先作出的数据表求出被测定物的浆液 浓度，也会迅速并且准确地进行浆液浓度的测定。
由于上述超声波传播速度的测定容易受到溶液中气泡的影响，因此更优选 在垂直配置并且从下方向上方流动的某个管路中进行。上述超声波传播速度的 测定，优选在管路内的压力为1～10kg/cm2的压力范围内进行，超声波的频率优 选为0.5～3MHz。
另外，由于上述比重、导电率、超声波传播速度的测定容易受到温度的影 响，因此优选在处于保温状态、并且温度变动控制在±0.3℃以内的管路内测定。 另外，由于导电率和超声波的传播速度优选在相同温度下测定，因此特别优选 在相同管路内和相同管路液流内测定。由于测定时的压力变动牵连到温度的变 动，因此优选尽可能低。另外，测定的管路内的流速分布也优选尽可能的少。 另外，由于上述测定容易受到浆液、废渣和气泡的影响，优选测定通过过滤器 和脱气装置等的溶液。
由此制得的本发明平版印刷版原版通过加热形成图像。具体地讲，通过热 记录头等的直接图像样记录、通过红外线激光的扫描曝光、加能闪光灯等高照 度闪光曝光、通过红外灯的固体高功率红外线激光曝光是适合的。
在本发明的平版印刷版原版是含有(a)具有热反应性官能团的微粒子聚合 物或(b)包含具有热反应性官能团化合物的微胶囊、所谓机上显影型感热层的 情况下，可以在图像曝光之后没有以上处理而装载在印刷机上，使用油墨和/或 润版药水按照通常的顺序印刷。另外，如专利第2938398号说明书中所记载的， 在安装在印刷机滚筒上之后，通过装载在印刷机上的激光曝光，然后涂上油墨 和/或润版药水，也可以机上显影。在这些情况下，由于通过印刷机上的油墨和 /或润版水除去感热层，不需要其他显影工序，另外在显影之后，不需要停止用 于印刷的印刷机，可以在显影结束后立即继续进行印刷。
即，本发明的原版印刷版的制板及印刷方法，其特征在于设置机上显影型 感热层的平版印刷版原版通过激光进行图像曝光然后直接安装在印刷机上进行 印刷，或者安装在印刷机上之后通过激光进行图像曝光然后直接印刷。作为激 光，可以使用放射760～1200nm红外线的固体激光或半导体激光。
还有，即使在含有机上显影型感热层的情况中，也可以在使用水或适当的水 溶液作为显影液进行显影之后，用于印刷。
另外，在本发明的平版印刷版原版含有现有热正片型或热负片型记录层的情 况下，可以按照通常的方法，在图像曝光之后，通过显影液显影，装载在印刷 机上，供于印刷。
对于上述各项中记载的各处理的详细内容，适宜采用公知的条件。另外，本 说明书中列举的文献的内容引用并作为本说明书的内容。
具体实施方式
下面举出的实施例只是为了具体说明本发明，本发明并不限于这些。
1-1.铝支撑体的制造
(支撑体的制造例1)
从含有表1所示的组成A的合金成分的铝合金金属溶液中如下所述制作本 发明的实施例和比较例中所采用的铝板。
首先，在铝合金金属溶液中进行由脱气和过滤构成的金属溶液处理，通过 DC铸造法制成厚500mm的铸块。将得到的铸块表面切成10mm的平面后，加热铸 块，在不进行均热化处理的情况下在400℃的温度下开始热轧，轧制至板厚4mm 为止。接着，冷轧至厚1.5mm，进行中间烧钝后，再次冷轧，整修为0.24mm后， 经过平面性矫正，得到铝板。
表1 组 成 Fe (Wt ％) Si (Wt ％) Cu (Wt ％) Ti (Wt ％) Mn (Wt ％) Mg (Wt ％) Zn (Wt ％) Cr (Wt ％) 其它 (Wt ％) Al (Wt％ ) A 0.31 0.06 0.01 0.03 0.01 0.01 0.0 0.01 0.01 99.55
对得到的组成A的铝板进行按照下示的(1)～(9)的顺序进行表面处理。 另外，在各表面处理和水洗后，要用轧辊进行挤水。水洗要从喷嘴中进行喷水。
(1)机械的表面粗化处理
用比重为1.12的硅砂(研磨剂，平均粒径为25μm)和水的悬浊液作为研 磨浆液，一边通过喷管向铝板表面供给，一边用带有旋转的尼龙刷的刷辊进行 机械的表面粗化处理。
使用的尼龙刷的材质是6，10-尼龙，毛长为50mm，毛的直径为0.48mm。 该尼龙刷是在φ300mm的不锈钢筒中开设空穴，在空穴中密植毛制成的。
刷辊使用3个尼龙刷，设在刷子下部的2个支持辊(φ200mm)之间的距 离为300mm。
相对于尼龙刷压在铝板上之前的负荷来管理旋转刷子的驱动马达的负荷， 压下上述刷辊，使表面粗化后的铝板的平均算术粗糙度(Ra)为0.45μm。刷子 的旋转方向与铝板的移动方向相同。此后进行水洗。
研磨剂的浓度是参照根据预先的研磨剂浓度和温度、比重的关系而作成的 对照表，根据温度和比重求出研磨剂的浓度的，通过反馈控制添加水和研磨剂， 使上述研磨剂的浓度保持恒定。由于研磨剂如果粉碎的粒度减小，就会改变表 面粗化的铝板的表面形状，因此可通过旋风分离器把粒度较小的研磨剂依次排 出。使得研磨剂的粒径保持在1～35μm范围内。
(2)碱性腐蚀处理
含有27wt％NaOH和6.5％铝离子的温度为70℃的水溶液通过喷管喷射到铝 板上，进行碱性腐蚀处理。铝板的此后经过电化学表面粗化处理的表面的溶解 量为8g/m2，其里面的溶解量为2g/m2。
碱性腐蚀处理采用的腐蚀液的浓度参照预先根据NaOH的浓度、铝离子的 浓度、温度、比重、液体的导电率的关系作成的对照表，根据温度、比重和导 电率求出腐蚀液的浓度，通过反馈控制，添加水和48wt％的NaOH水溶液，以确 保浓度恒定。此后进行水洗。
(3)去斑处理
用喷嘴向铝板喷射温度为35℃的硝酸水溶液，进行10秒时间的去斑处理。 硝酸水溶液可采用从下一个工序所用的电解装置中溢出的废液。设定喷射去斑 处理液的喷管的数量和位置，使得直至下一个工序铝板表面都不会干燥。
(4)电化学的表面粗化处理
采用图2所示的梯形波的交流电和图3所示的电解装置2的槽进行连续的 电化学表面粗化处理。酸性水溶液采用1wt％的硝酸水溶液(含有0.5wt％的铝离 子和浓度为0.007wt％的铵离子)。液体温度为50℃。交流电的电流值从0直至 达到阴极周波侧和阳极周波侧的峰值的时间tp和tp’为1msec，石墨电极形成 对极。交流电达到峰值时的电流密度在铝板作为阳极时和阴极时都是50A/dm2， 交流电阴极时的电量(Qc)与阳极时的电量(QA)之比(Qc/QA)为0.95，功率 比为0.50，频率为60Hz，阳极时的电量的总和是180C/dm2。此后用喷嘴进行水 洗。
硝酸水溶液的浓度控制是与通电量成比例地添加67wt％的硝酸原液和水， 与硝酸和水的添加容积相同容量的酸性水溶液(硝酸水溶液)逐渐从电解装置 中溢出，并排出电解装置外。同时，参照预先根据硝酸浓度和铝离子浓度、温 度、液体的导电率、液体的超声波传输速度之间的关系作成的对照表，根据硝 酸水溶液的温度、导电率、超声波传输速度求出该硝酸水溶液的浓度，逐渐调 整硝酸原液和水的添加量进行控制，从而确保浓度恒定的。
(5)碱性腐蚀处理
用喷嘴向铝板喷射含有NaOH26wt％和铝离子6.5wt％的温度为45℃的水溶 液，进行碱性腐蚀处理。铝板的溶解量为1g/m2。腐蚀液的浓度参照预先根据NaOH的浓度和铝离子的浓度、温度、比重、液体的导电率之间的关系作成的对照表， 根据温度、比重和导电率求出腐蚀液的浓度，通过反馈控制，添加水和48wt％ 的NaOH水溶液，以确保浓度恒定。此后进行水洗。
(6)酸性腐蚀处理
用硫酸(硫酸浓度为300g/L，铝离子的浓度为15g/L)作为酸性腐蚀液， 在80℃的条件下从喷管向铝板喷射硫酸8秒，进行酸性腐蚀处理。参照预先根 据硫酸浓度与铝离子浓度、温度、比重及液体导电率的关系作成的对照表，根 据温度、比重及导电率求出酸性腐蚀液的浓度，通过反馈控制，添加水和50wt ％的硫酸，使酸性腐蚀液的浓度保持恒定。此后，进行水洗。
(7)阳极氧化处理
采用硝酸浓度为50g/L的水溶液(含有0.5wt％的铝离子)作为阳极氧化 溶液，用电流密度为12A/dm2的直流电压，在50℃、30秒的条件下对铝板进行 阳极氧化处理，形成阳极氧化被膜。参照预先根据硝酸浓度与铝离子浓度、温 度、比重及液体导电率的关系作成的对照表，根据温度、比重及导电率求出液 体浓度，通过反馈控制，添加水和50wt％的硝酸，使阳极氧化处理液的浓度保 持稳定。此后，用喷嘴进行水洗。
(8)扩孔处理
将经过阳极氧化处理后的铝板在PH值为13的50℃的NaOH水溶液中浸泡 30秒，进行扩孔处理。此后进行水洗。
(9)亲水性表面处理
用浓度为2.5wt％的3号硅酸钠水溶液在70℃的条件下处理10秒，进行 亲水性表面处理。
此后，经过水洗、干燥，得到铝支撑体1。
(支撑体的制造例2)
除了用下述(10)的含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液进行处理， 来代替上述(9)的亲水性表面处理之外，通过与支撑体制造例1同样的方法得 到铝支撑体2。
(10)用含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液的处理
采用纯水调制，使得氟化钠和3号硅酸钠的浓度分别达到2wt％和2.5wt ％的水溶液浸泡扩孔处理后的铝板，在100℃的条件下浸泡10秒。此后进行水 洗。
(支撑体制造例3)
除了在上述(8)的扩孔处理和(9)的亲水性表面处理之间用下述(11) 的用含有粒子的水溶液进行处理之外，通过与支撑体制造例1同样的方法得到 铝支撑体3。
(11)用含有粒子的液体进行处理
以扩孔处理后的板作为阴极，采用含有1wt％的平均粒径为30nm的氧化铝 粒子的悬浊液为电解液，在110V的电压下进行60秒稳定电压的电解处理，此 后进行水洗、干燥，并进行封孔处理。
(用于比较例的支撑体制造例1)
除了用下述(7’)的阳极氧化处理代替上述(7)的阳极氧化处理和(8) 的扩孔处理之外，用与支撑体制造例1同样的方法得到用于比较例的铝支撑体 1。
(7’)阳极氧化处理
用硫酸浓度为170g/L的水溶液(含有0.5wt％的铝离子)作为阳极氧化 溶液，采用直流电压，在电流密度为5A/dm2、43℃、33秒的条件下对铝板进行 阳极氧化处理，形成阳极氧化被膜。参照预先根据硫酸浓度与铝离子浓度、温 度、比重及液体导电率的关系作成的对照表，根据温度、比重及导电率求出液 体浓度，通过反馈控制，添加水和50wt％的硫酸，使阳极氧化处理液的浓度保 持恒定。此后，用喷嘴进行水洗。
(用于比较例的支撑体制造例2)
除了用下述(12)的磷酸盐/无机氟化合物进行处理，来代替上述(10) 的用含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液进行处理之外，通过与支撑体制 造例2同样的方法得到铝支撑体2。
(12)用磷酸盐/无机氟化合物进行处理
采用纯水调制，使得氟化钠和磷酸二氢钠的浓度分别达到0.1wt％和10wt ％的水溶液浸泡扩孔处理后的铝板，在100℃的条件下浸泡10秒。此后进行水 洗。
<阳极氧化被膜的孔隙率的测定>
通过下式求出铝支撑体1～3和用于比较例的铝支撑体1和2的阳极氧化 被膜的孔隙率，表示在第2表中。
孔隙率(％)＝(1-(氧化被膜密度/3.98))×100
其中，氧化被膜的密度(g/cm3)是每单位面积的氧化被膜的重量(g/cm2) 除以氧化被膜的厚度(cm)求得的。将上述支撑体通过后述的平版印刷版原版 的显影处理而得到的平版印刷版的非图像部分切成适当的尺寸，浸泡在由铬酸 /磷酸构成的メイソン(mason)液中，使阳极氧化被膜溶解，测定溶解前、后的 重量，重量差除以切割的面积即可求出每单位面积的氧化被膜的重量。而氧化 被膜的厚度是通过扫描型显微镜(T20，日本电子社制)观察显影处理后的非图 像部的阳极氧化被膜，实测50处的膜厚的平均值而求出的。
3.98是按照日本化学会编的《化学手册》(丸善)的氧化铝的密度(g/cm3)。
<阳极氧化被膜表面微孔的孔径的测量>
各平版印刷版原版中，显影处理后的非图像部的阳极氧化被膜表面微孔的 孔径是利用扫描型电子显微镜(S-900，日立制作所社制)在加速电压为12kV， 不蒸镀的条件下，根据用15万倍的倍率观察到的SEM照片求出的。任意选择50 个微孔的平均值作为微孔的孔径，表示在第2表中。
1-2.微粒子聚合物的合成及微胶囊的调制
(1)微粒子聚合物的合成
加入7.5g甲基丙烯酸烯丙酯、7.5g甲基丙烯酸丁酯、200ml聚氧乙烯壬 基苯酚水溶液(浓度为9.84×10-3mol/L)，一边以250rpm搅拌，一边用氮气置 换。该液体到达25℃后，添加10ml铈(IV)铵盐水溶液(浓度为0.984× 10-3mol/L)。此时，加入硝酸铵水溶液(浓度为58.8×10-3mol/L)，将PH值调整 到1.3～1.4。此后，搅拌8个小时，从而得到含有微粒子聚合物的液体。得到 的液体的固体成分的浓度为9.5wt％，微粒子聚合物的平均粒径为0.2μm。
(2)微胶囊的调制
将40g二甲苯二异氰酸酯、10g三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、10g甲基丙烯 酸烯丙酯和甲基丙烯酸丁酯的共聚物(摩尔比为7/3)及0.1g表面活性剂(先 驱A41C，竹本油脂社制)溶解在60g醋酸乙酯中，形成油相成分。另一方面， 调制120g4wt％的聚乙烯醇(PVA205，クラレ社制)水溶液，作为水相成分。将 上述油相成分和水相成分投入均化器中，用10000rpm进行乳化。此后，添加40g 水，在室温下搅拌30分钟，再在40℃下搅拌3个小时，从而得到微胶囊液体。 得到的微胶囊液体的固体成分的浓度为20wt％，微胶囊的平均粒径为0.2μm。
1-3.平版印刷版原版的制作
(实施例1～3及比较例1、2)
由在上述得到的铝支撑体1～3及用于比较例的铝支撑体1和2上涂敷下 述组成的感热层(1)的涂敷液，用烘箱在60℃下干燥150秒，从而得到实施例 1～3及比较例1和2的平版印刷版原版。感热层(1)的干燥涂敷量为0.5g/ m2。
<感热层(1)涂敷液的组成>
.含有上述合成的微粒子聚合物的液体 5g(固体成分)
.聚羟乙基丙烯酸酯(重均分子量2.5万) 0.5g
.光热转换剂(本说明书记载的IR-11) 0.3g
.水 100g
(实施例4～6及比较例3和4)
由在上述得到的铝支撑体1～3及用于比较的铝支撑体1和2上涂敷下述 组成的感热层(2)的涂敷液，用烘箱在60℃下干燥150秒，从而得到实施例4～ 6及比较例3和4的平版印刷版原版。感热层(2)的干燥涂敷量为0.7g/m2。
<感热层(2)的涂敷液的组成>
.上述合成的微胶囊液体 5g(固体成分)
.三羟甲基丙烷三丙烯酸酯 3g
.光热转换剂(本说明书记载的IR-11) 0.3g
.水 60g
.1-甲氧基-2-丙醇 40g
1-4.设置感热层后的阳极氧化被膜的剖切面中碳和铝的原子数比(C/ Al)的测定
如下所述，对于实施例1～6和比较例1～4的平版印刷版原版，测定剖 切面中的碳和铝的原子数之比(C/Al)。
在即将分析之前，将平版印刷版原版弯折近180度，从而形成阳极氧化 被膜的剖切面，固定在俄歇电子分光分析装置附属的样品架中，并导入装置内， 进行俄歇电子分光分析。
根据得到的图表求出Ic和Ia1。Sc的值为0.076，Sa1的值为0.105，将求出 的Ic和Ia1的值代入上式(1)，从而算出C/Al。结果表示在第2表中。
还有，C/Al是对距离阳极氧化被膜的剖切面的感热层和阳极氧化被膜的 界面约0.2μm位置处的5个点进行俄歇电子分光分析，求出其平均值。
俄歇电子分光分析的条件如下所示。
测定机器：FE-AES型SMART-200，阿路八次库发以(ァルバツクファ イ)社制
照射电流：约10nA
加速电压：10kV
照射电子束直径：聚焦
腔室内压：约1×10-10Torr(约1.33×10-8Pa)
检测范围：20～2020eV、0eV/step、20ms/step
放大器的电压：2250V
1-5.感光度的测定
(实施例1～3及比较例1和2)
采用装载有水冷式40W的红外线半导体激光的クレオ社制的转向调节器 3244VFS，在分辨率为2400dpi的条件下输出并曝光实施例1～3和比较例1和2 的可机上显影的平版印刷版原版。此时，通过改变外面滚筒的旋转数可改变版 面的能量，根据可形成图像的最低曝光量来评价感光度。结果表示在第2表中。
(实施例4～6和比较例3和4)
采用装载有多通道激光头的富士照片株式会社制的Luxel T-9000CTP， 在分辨率为2400dpi的条件下输出并曝光实施例4～6和比较例3和4的可机上 显影的平版印刷版原版。此时，通过改变每束光的输出和外面滚筒的旋转数， 根据可形成图像的最低曝光量来评价感光度。结果表示在第2表中。
1-6.印刷试验
将实施例1～6和比较例1～4的平版印刷版原版如上所述曝光后，不进 行任何处理，即安装在哈衣特路背了库(ハイデルベルグ社)制的印刷机SOR-M 的滚筒上，供给润版药水后，供给油墨，再供给纸，进行印刷试验。在所有实 施例的平版印刷版原版中，毫无疑问可实现机上显影，也可以印刷。
在上述印刷试验中，起脏、背面蹭脏(粘到油墨性)及耐印性通过下述 方法来评价。其结果分别表示在第2表中。
(1)起脏
在印刷试验中，调整印刷机的水位刻度，根据产生起脏的水位的刻度来 评价起脏。产生起脏的水位刻度不到2时记作○，2以上不到3时记作○△，3 以上不到4时记作△，4以上时记作×。
(2)背面蹭脏(粘到油墨)
机上显影后仅向印刷版供给油墨，此后再供给润版药水，并擦去油墨， 求出直到得到鲜明的印刷品为止的印刷页数，页数越少耐背面蹭脏性(粘到油 墨性)越好。
(3)耐印性
通过得到的鲜明的印刷品的印刷页数来评价耐印性。印刷页数越多耐印 性越好。
从第2表可以看出，本发明的平版印刷版原版(实施例1～6)的感光度 好，难以发生起脏，耐背面蹭脏性(粘到油墨性)和耐印性都很好。 与此相对，设置感热层后的阳极氧化被膜的剖切面中C/Al过大时(比较例1～4) 要么容易发生起脏，耐背面蹭脏性(粘到油墨性)差，要么感光度低耐印性差。
【表2】
第2表 支撑 体 感热 层 C/Al 孔隙率 (％) 微孔孔 径(nm) 起脏 背面蹭 脏 (页) 感光度 (m/cm2) 耐印 性 (万 页) 实施例1 1 (1) 0.88 60 40 ○△ 19 190 2.2 实施例2 2 (1) 0.65 55 8 ○ 15 180 1.9 实施例3 3 (1) 0.62 40 12 ○ 16 180 2.0 比较例1 4 (1) 1.09 15 10 ○ 19 370 0.1 比较例2 5 (1) 1.10 40 15 × 48 250 0.5 实施例4 1 (2) 0.88 60 40 ○△ 19 230 1.8 实施例5 2 (2) 0.65 55 8 ○ 15 220 1.7 实施例6 3 (2) 0.62 40 12 ○ 16 200 2.0 比较例3 4 (2) 1.09 15 10 ○△ 19 390 0.1 比较例4 5 (2) 1.10 40 15 × 48 270 0.5
2-1.平版印刷版原版的调制
(实施例7)
采用板厚0.24mm的JIS A1050中规定的铝板作为基板，依次进行下述处理， 作成铝支撑体。
(a)用碱性溶剂进行腐蚀处理
以氢氧化钠浓度为26wt％、铝离子浓度为6.5wt％、温度为70℃的溶液， 用喷嘴对铝板进行腐蚀处理，铝板溶解6g/m2。此后用喷嘴进行水洗。
(b)去斑处理
用温度为30℃的硝酸浓度为1wt％的水溶液(含0.5wt％铝离子)通过喷嘴 进行去斑处理，此后用喷嘴进行水洗。前述去斑所用的硝酸水溶液可以利用在 硝酸水溶液中采用交流电的电化学表面粗化工序中的废液。
(c)电化学的表面粗化处理
用60Hz的交流电连续进行电化学的表面粗化处理。此时的电解液是硝酸浓 度为1wt％、温度为50℃的水溶液(含有铝离子0.5wt％、铵离子浓度为0.007wt ％)。交流电源的波形如图2所示，电流值从0达到峰值的时间TP为2msec，DUTY 比为1∶1，采用梯形的矩形波交流电，以碳电极作为对极进行电化学的表面粗 化处理。辅助阳极采用铁氧体。使用的电解槽如图3所示采用2个。
电流密度在电流峰值处是30A/dm2，铝板为阳极时的电量的总和为270C/ dm2。从电源流出的电流的5％分流到辅助阳极。
此后用喷嘴进行水洗。
(d)腐蚀处理
用浓度为26wt％的氢氧化钠在铝离子浓度为6.5wt％、温度为70℃的溶液通 过喷嘴对铝板进行腐蚀处理，铝板溶解0.2g/m2，从而除去以前采用交流电进行 电化学表面粗化时生成的以氢氧化铝为主体的斑点成分，且溶解生成的凹坑的 边缘部分，使边缘部分变得光滑。此后用喷嘴进行水洗。
(e)去斑处理
用温度为60℃的硫酸浓度为25wt％的水溶液(含有铝离子0.5wt％)通过 喷嘴进行去斑处理，此后，通过喷嘴进行水洗并干燥，从而得到基板1。
(f)阳极氧化处理
在硫酸浓度为170g/L的电解液中，在温度为33℃、电流密度为5A/dm2的 条件下，用直流电对基板1进行66秒的阳极氧化处理，形成阳极氧化被膜。
(g)扩孔处理
将阳极氧化处理后的基板1浸泡在30℃的PH值为13的氢氧化钠水溶液中60 秒，此后进行水洗并干燥，随后进行扩孔处理。
(h)粒子层的形成
用纯水稀释含有平均粒径为10～20nm的Al2O3粒子的氧化铝溶胶分散液(氧 化铝溶胶-520，日产化学工业社制，固体成分(Al2O3)的浓度为20wt％)，使 固体成分的浓度达到0.2wt％，在温度为70℃的条件下用液体浸泡处理扩孔处理 后的基板14秒，此后进行水洗并干燥，形成粒子层。
(i)亲水化处理
形成粒子层后的基板1在3号硅酸钠的2.5wt％的水溶液中连续浸泡，进行 亲水性处理(硅化处理)。处理液的温度为70℃，浸泡处理的时间为10秒。此 后，用喷嘴进行水洗并干燥，在阳极氧化被膜上形成粒子层，从而得到平版印 刷版的支撑体。
(j)感热层的形成
如下所示，在上述平版印刷版的支撑体上涂敷感热层涂敷液并干燥，从而 得到平版印刷版原版。
调制下述组成的感热层涂敷液，用涂镀设备在上述平版原版的支撑体上涂 敷该感热层涂敷液1，使得干燥后的涂敷量(感热层的涂敷量)为0.7g/m2，用 烘箱在100℃下干燥60秒，形成感热层，从而得到平版印刷版原版。
<感热层涂敷液的组成>
.后述微胶囊液体 25g(固体成分5g)
.三羟甲基丙烷三丙烯酸酯 3g
.本说明书记载的红外线吸收染料(IR-11) 0.3g
.水 60g
.1-甲氧基-2-丙醇 1g
<微胶囊>
将40g二甲苯二异氰酸酯、10g三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、10g甲基丙烯酸 烯丙酯和甲基丙烯酸丁酯的共聚物(摩尔比为7/3)及0.1g表面活性剂(先驱 A41C，竹本油脂社制)溶解在60g醋酸乙酯中，形成油相成分。另一方面调制 120g4wt％聚乙烯醇(PVA205，クラレ社制)的水溶液，作为水相成分。将上述 油相成分和水相成分投入均化器中，用10000rpm乳化10分钟。此后，添加40g水， 在室温下搅拌30分钟，进而在40℃下搅拌3个小时，从而得到微胶囊液体。得到 的微胶囊液体的固体成分的浓度为20wt％，微胶囊的平均粒径为0.5μm。
(实施例8～10)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用第3表所示平均粒径的胶态硅 石分散液((是特库事)スノ-テツクス N、(是特库事)スノ-テツクス XL及(是特库事)スノ-テツクス ZL，都是日产化学社制)代替氧化铝溶胶 的分散液以外，通过与实施例7相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例11、12)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用第3表所示平均粒径的Al2O3 粒子的水悬浊液代替氧化铝溶胶的分散液以外，通过与实施例7相同的方法得 到平版印刷版原版。
(实施例13)
除了在50℃下将形成粒子层后的基板1浸泡在1wt％的磷酸聚乙烯水溶液 中10秒，从而进行亲水化处理来代替上述(i)的亲水化处理以外，通过与实 施例7相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例14)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用平均粒径为10～20μm的胶态 硅石分散液((是糯特库事)スノ-テツクス N，日产化学社制)代替氧化铝溶 胶的分散液以外，通过与实施例13相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例15)
除了不进行上述(i)的亲水化处理工序以外，通过与实施例7相同的方 法得到平版印刷版原版。
(实施例16)
除了不进行上述(i)的亲水化处理工序以外，通过与实施例8相同的方 法得到平版印刷版原版。
(实施例17～19)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了将氧化铝溶胶分散液稀释后的固 体成分的浓度分别变为第3表所示的固体成分的浓度以外，通过与实施例7同 样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例20和21)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了将温度分别变为第3表所示的温 度以外，通过与实施例7同样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例22和23)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了将浸泡时间分别变为第3表所示 的浸泡时间以外，通过与实施例7同样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例24)
除了不进行上述(g)的扩孔处理工序以外，通过与实施例7相同的方法 得到平版印刷版原版。
(实施例25～27)
在上述(g)的扩孔处理过程中，除了将浸泡时间分别变为第3表所示的 浸泡时间以外，通过与实施例7同样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例28)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用纯水10wt％和甲醇90wt％的混 合液稀释含有平均粒径为10～20nm的Al2O3粒子的氧化铝溶胶分散液(氧化铝溶 胶-520，日产化学社制，固体成分(Al2O3)的浓度为20wt％)，使得固体成分的 浓度为0.2wt％而得到的液体通过涂敷机(北村写真制版用品制造社制)以180rpm 对扩孔处理后的基板1旋转涂敷10秒，此后用烘箱(恒温器S四-201，踏八以 爱是陪尺库(タバイエスペツク社制)在120℃下干燥1分钟，从而形成粒子层 来代替浸泡处理以外，通过与实施例7同样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例29～31)
在上述(h)形成粒子层的过程中，用第5表所示平均粒径的胶态硅石分 散液((是糯特库事)スノ-テツクスN，(是糯特库事)スノ-テツクス XL和 (是糯特库事)スノ-テツクス ZL，都是日产化学社制)来代替氧化铝溶胶的 分散液以外，通过与实施例28相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例32和33)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用第5表所示平均粒径的Al2O3 粒子的水悬浊液代替氧化铝溶胶的分散液以外，通过与实施例28相同的方法得 到平版印刷版原版。
(实施例34)
除了在50℃下将形成粒子层后的基板1浸泡在1wt％的磷酸聚乙烯水溶液 中10秒，从而进行亲水化处理来代替上述(i)的亲水化处理以外，通过与实 施例28相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例35)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用平均粒径为10～20μm的胶态 硅石分散液(スノ-テツクス N，日产化学社制)代替氧化铝溶胶的分散液以外， 通过与实施例34相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例36)
除了不进行上述(i)的亲水化处理工序以外，通过与实施例28相同的 方法得到平版印刷版原版。
(实施例37)
除了不进行上述(i)的亲水化处理工序以外，通过与实施例29相同的 方法得到平版印刷版原版。
(实施例38～40)
在上述(h)形成粒子层的过程中，除了将氧化铝溶胶分散液稀释后的固 体成分的浓度分别变为第5表所示的固体成分的浓度以外，通过与实施例28同 样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例41)
除了不进行上述(g)的扩孔处理工序以外，通过与实施例28相同的方 法得到平版印刷版原版。
(实施例42～44)
在上述(g)的扩孔处理过程中，除了将浸泡时间分别变为第5表所示的 浸泡时间以外，通过与实施例28同样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例45)
在上述(h)形成粒子层的过程中，除了以扩孔处理后的基板1作为阴极， 用含有0.5wt％的平均粒径为15nm的Al2O3粒子的水悬浊液作为电解液，用110V 电压的稳定电压进行60秒的电解处理，此后进行水洗并干燥，从而形成粒子层 以外，通过与实施例7同样的方法得到平版印刷版原版。
2-2.观察平版印刷版原版的剖切面
在各平版印刷版原版中，用扫描型电子显微镜(S-900，日立制作所制) 在加速电压为12kV，不蒸镀的条件下以5～15万倍的倍率观察显影处理后的非 图像部分的剖切面。
通过实施例7得到的平版印刷版原版的显影处理后的非图像部分的剖切 面的SEM照片如图5所示。可以看出在铝板2上设置阳极氧化被膜3而形成的 铝支撑体4上带有粒子层5。而且，可以看出阳极氧化被膜3上的微孔7被粒子 层5堵塞了，但内部仍有孔隙。另外图5中不仅是平版印刷版原版的剖切面， 还可以看到非图像部分的表面8。
对于实施例8～45的平版印刷版原版也是同样的。
2-3.平版印刷版原版的阳极氧化被膜表面的微孔孔径
各平版印刷版原版中，通过与上述同样的方法求出的显影处理后的非图 像部分的阳极氧化被膜表面的微孔孔径表示在第3和第5表中。
2-4.平版印刷版原版的阳极氧化被膜的孔隙率
在各平版印刷版原版中，通过与上述同样的方法求出的阳极氧化被膜的 孔隙率表示在第3和第5表中。
2-5.平版印刷版原版的粒子层的亲水性粒子的热传导率
第3和第5表中示出的亲水性粒子的热传导率是按照新金属陶瓷字典编 委会编辑的《新金属陶瓷字典》、日本学术振兴会未来加工技术第136委员会编 辑的《新金属陶瓷技术手册》及日本化学会编辑的《化学手册》。
2-6.设置感热层后的阳极氧化被膜的剖切面中碳和铝的原子数比 (C/Al)的测定
在实施例7～45的平版印刷版原版中，通过与上述同样的方法对剖切面 中碳和铝的原子数比(C/Al)进行测定。结果表示在第3和第5表中。
2-7.平版印刷版原版的感光度
用CREO社制造的扑勒特社踏-参时社踏-(プレ-トセツタ- Trendsetter3244F)(搭载192通路的多波束)在调整各种参数(Sr、Sd、bmslope、 bmcurve)后，以2400dpi对各平版印刷版原版的图像进行曝光。曝光是通过阶 段性地改变滚筒的转数和输出功率进行的。曝光后，在印刷机上进行显影处理， 以能形成1％网点的能量作为平版印刷版原版的感光度。结果表示在第4和第6 表中。
2-8.耐印性和耐背面蹭脏性
曝光后的各平版印刷版原版安装到印刷机上，供给润版药水后供给油墨， 在印刷机上进行显影处理，并连续进行印刷。这里印刷机采用小森印刷机社制 造的印刷机时扑林特(スプリント)，油墨采用大日本油墨化学工业社制造的 Geos油墨，润版药水采用富士写真胶片(株)制造的润版药水EU-3的水稀释 液(1∶100)90vol％和异丙醇10vol％的混合物，印刷纸采用质量好的纸张。
在上述条件下进行印刷，测定图像部没有粘到油墨的页数作为耐印性的 评价。结果表示在第4和第6表中。
在上述条件下印刷500页后，从印刷机上取下平版印刷版，在室内放置 30分钟后，再次安装到印刷机上同时开始供给润版药水和油墨、纸张，测定直 到形成在与印品的非图像部分相对应的区域中没有附着油墨，没有起脏的非图 像部分为止的废纸的页数，作为耐起脏性的评价。废纸的页数越少耐起脏性越 好。结果表示在第4和第6表中。
如第3～第6表明示的，由本发明的第2方案的平版印刷版原版的制造方 法(实施例7～45)获得的平版印刷版原版的无论感光度、耐印性和耐起脏性都 很好。
在通过电解处理设置粒子层时(实施例45)感光度和耐印性很好，但与 通过浸泡或涂敷设置粒子层的情况(实施例11和32)相比，其耐起脏性较差。 【表3】
第3表 阳极氧化被膜 粒子层 电解液 扩孔处理 微孔 孔径 (nm) 孔隙率 (％) 处理液的种 类 粒子的平均粒 径(nm) 粒子的热传 导率 (W/(m*k) 形成 方法 处理液固 体成分浓 度(质量 ％) 处理液 温度(C) 处理时 间 C/Al 温度 (℃) 时间(秒) 实施例7 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.64 实施例8 硫酸 30 60 15 50 是糯特库事 N 10-20 10 浸泡 处理 0.2 70 14 0.68 实施例9 硫酸 30 60 15 50 是糯特库事 XL 40-60 10 浸泡 处理 0.2 70 14 0.78 实施例10 硫酸 30 60 15 50 是糯特库事 ZL 70-100 10 浸泡 处理 0.2 70 14 0.82 实施例11 硫酸 30 60 15 50 Al2O3水悬浊 液 15 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.74 实施例12 硫酸 30 60 15 50 Al2O3水悬浊 液 750 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.88 实施例13 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.58 实施例14 硫酸 30 60 15 50 是糯特库事 N 10-20 10 浸泡 处理 0.2 70 14 0.54 实施例15 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.64 实施例16 硫酸 30 60 15 50 是糯特库事 N 10-20 10 浸泡 处理 0.2 70 14 0.54 实施例17 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.01 70 14 0.92 实施例18 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 5 70 14 0.64 实施例19 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 10 70 14 0.72 实施例20 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 10 14 0.59 实施例21 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 85 14 0.69 实施例22 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 10-20 36 浸泡 0.2 70 2 0.64 520 处理 实施例23 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 120 0.58 实施例24 硫酸 - - 7 16 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.59 实施例25 硫酸 30 30 10 25 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.69 实施例26 硫酸 30 65 18 60 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.68 实施例27 硫酸 30 70 20 75 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.79 【表4】
第4表 亲水化处理 感光度 (mJ/cm2) 耐印性(千 页) 起脏(页) 实施例7 硅酸盐 250 15 18 实施例8 硅酸盐 250 14 18 实施例9 硅酸盐 250 14 18 实施例10 硅酸盐 250 13 18 实施例11 硅酸盐 250 13 20 实施例12 硅酸盐 250 12 20 实施例13 聚乙烯基膦酸 250 14 20 实施例14 聚乙烯基膦酸 250 14 20 实施例15 无 250 15 23 实施例16 无 250 14 23 实施例17 硅酸盐 300 12 20 实施例18 硅酸盐 250 14 15 实施例19 硅酸盐 250 12 23 实施例20 硅酸盐 300 12 18 实施例21 硅酸盐 250 14 23 实施例22 硅酸盐 300 12 20 实施例23 硅酸盐 280 15 23 实施例24 硅酸盐 320 12 15 实施例25 硅酸盐 280 12 15 实施例26 硅酸盐 250 15 18 实施例27 硅酸盐 280 15 20 【表5】
第5表 阳极酸化被膜 粒子层 电解液 扩孔处理 微孔孔 径 (nm) 孔隙率 (％) 处理液 的种类 粒子的 平均直 径(nm) 粒子的热 传导率 (W/(m K) 形成方 法 处理液 固体成 分浓度 (质量 ％) C/Al 温度 (C) 时间 (秒) 实施例 28 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.62 实施例 29 硫酸 30 60 15 50 是糯特 库事 N 10-20 10 涂敷 0.2 0.64 实施例 30 硫酸 30 60 15 50 是糯特 库事 XL 40-60 10 涂敷 0.2 0.72 实施例 31 硫酸 30 60 15 50 是糯特 库事 ZL 70- 100 10 涂敷 0.2 0.83 实施例 硫酸 30 60 15 50 Al2O3水 15 36 涂敷 0.2 0.72 32 悬浊液 实施例 33 硫酸 30 60 15 50 Al2O3水 悬浊液 750 36 涂敷 0.2 0.88 实施例 34 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.58 实施例 35 硫酸 30 60 15 50 是糯特 库事 N 10-20 10 涂敷 0.2 0.52 实施例 36 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.57 实施例 37 硫酸 30 60 15 50 是糯特 库事 N 10-20 10 涂敷 0.2 0.53 实施例 38 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.01 0.89 实施例 39 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 5 0.62 实施例 40 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 10 0.74 实施例 41 硫酸 - - 7 16 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.58 实施例 42 硫酸 30 30 10 25 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.68 实施例 43 硫酸 30 65 18 60 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.62 实施例 44 硫酸 30 70 20 75 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.69 实施例 45 硫酸 30 60 15 50 Al2O3水 悬浊液 15 36 电解 0.5 0.72 【表6】
第6表 亲水化处理 感光度 (mJ/cm2) 耐印性(千 页) 耐起脏性 (页) 实施例28 硅酸盐 250 16 20 实施例29 硅酸盐 250 15 18 实施例30 硅酸盐 250 15 18 实施例31 硅酸盐 250 15 18 实施例32 硅酸盐 250 13 20 实施例33 硅酸盐 250 12 20 实施例34 聚乙烯基膦酸 250 15 20 实施例35 聚乙烯基膦酸 250 15 20 实施例36 无 250 16 25 实施例37 无 250 15 25 实施例38 硅酸盐 300 12 20 实施例39 硅酸盐 250 14 20 实施例40 硅酸盐 250 14 23 实施例41 硅酸盐 320 12 18 实施例42 硅酸盐 280 14 18 实施例43 硅酸盐 250 16 20 实施例44 硅酸盐 280 15 25 实施例45 硅酸盐 300 12 45
【发明的效果】
本发明第一方案的平版印刷版原版由于设置记录层后的阳极氧化被膜的 剖切面中C/Al的值在规定值以下，因此具有良好的机上显影性，感光度高，且 表显示高耐印性，印刷时不易出现起脏现象，且耐背面蹭脏性(粘到油墨性) 良好。此时，采用通过激光进行图像曝光，并安装在印刷机上印刷，或是安装 在印刷机上之后再用激光进行图像曝光，并印刷的本发明的平版印刷版的制版 印刷方法无需再另行显影处理，可在印刷机上进行显影，并可继续印刷，因此 十分有用。
另外，由于本发明的第一方案的平版印刷版原版在设置记录层后的阳极 氧化被膜的剖切面中的C/Al的值在规定值以下，因此即使是红外线激光的曝光 量低时和显影液的液感低时，相对于显影液的溶解性也可提高，其结果可提高 感光度，增大显影的宽容度，即使是低曝光时残膜也较少，非图像部分也不易 起脏。
另外，本发明的平版印刷版原版由于设置记录层之后的阳极氧化被膜的 剖切面中的C/Al的值在规定值以下，因此对于激光曝光部分中的显影液的不溶 解率增高，其结果导致感光度增高，耐印性较好。
采用本发明的第二方案的平版印刷版原版的制造方法可以在图像形成中 高效率地利用热，可以获得高感光度，耐印性好并且耐起脏性特别好的平版印 刷版原版。因而该平版印刷版原版既可适用于热正片型也可以适用于热负片型， 另外也适用于机上显影型，因此非常有用。
1-1.铝支撑体的制造
(支撑体的制造例1)
从含有表1所示的组成A的合金成分的铝合金金属溶液中如下所述制作本 发明的实施例和比较例中所采用的铝板。
首先，在铝合金金属溶液中进行由脱气和过滤构成的金属溶液处理，通过 DC铸造法制成厚500mm的铸块。将得到的铸块表面切成10mm的平面后，加热铸 块，在不进行均热化处理的情况下在400℃的温度下开始热轧，轧制至板厚4mm 为止。接着，冷轧至厚1.5mm，进行中间烧钝后，再次冷轧，整修为0.24mm后， 经过平面性矫正，得到铝板。
表1 组 成 Fe (Wt ％) Si (Wt ％) Cu (Wt ％) Ti (Wt ％) Mn (Wt ％) Mg (Wt ％) Zn (Wt ％) Cr (Wt ％) 其它 (Wt ％) Al (Wt％ ) A 0.31 0.06 0.01 0.03 0.01 0.01 0.0 0.01 0.01 99.55
对得到的组成A的铝板进行按照下示的(1)～(9)的顺序进行表面处理。 另外，在各表面处理和水洗后，要用轧辊进行挤水。水洗要从喷嘴中进行喷水。
(1)机械的表面粗化处理
用比重为1.12的硅砂(研磨剂，平均粒径为25μm)和水的悬浊液作为研 磨浆液，一边通过喷管向铝板表面供给，一边用带有旋转的尼龙刷的刷辊进行 机械的表面粗化处理。
使用的尼龙刷的材质是6，10-尼龙，毛长为50mm，毛的直径为0.48mm。 该尼龙刷是在φ300mm的不锈钢筒中开设空穴，在空穴中密植毛制成的。
刷辊使用3个尼龙刷，设在刷子下部的2个支持辊(φ200mm)之间的距 离为300mm。
相对于尼龙刷压在铝板上之前的负荷来管理旋转刷子的驱动马达的负荷， 压下上述刷辊，使表面粗化后的铝板的平均算术粗糙度(Ra)为0.45μm。刷子 的旋转方向与铝板的移动方向相同。此后进行水洗。
研磨剂的浓度是参照根据预先的研磨剂浓度和温度、比重的关系而作成的 对照表，根据温度和比重求出研磨剂的浓度的，通过反馈控制添加水和研磨剂， 使上述研磨剂的浓度保持恒定。由于研磨剂如果粉碎的粒度减小，就会改变表 面粗化的铝板的表面形状，因此可通过旋风分离器把粒度较小的研磨剂依次排 出。使得研磨剂的粒径保持在1～35μm范围内。
(2)碱性腐蚀处理
含有27wt％NaOH和6.5％铝离子的温度为70℃的水溶液通过喷管喷射到铝 板上，进行碱性腐蚀处理。铝板的此后经过电化学表面粗化处理的表面的溶解 量为8g/m2，其里面的溶解量为2g/m2。
碱性腐蚀处理采用的腐蚀液的浓度参照预先根据NaOH的浓度、铝离子的 浓度、温度、比重、液体的导电率的关系作成的对照表，根据温度、比重和导 电率求出腐蚀液的浓度，通过反馈控制，添加水和48wt％的NaOH水溶液，以确 保浓度恒定。此后进行水洗。
(3)去斑处理
用喷嘴向铝板喷射温度为35℃的硝酸水溶液，进行10秒时间的去斑处理。 硝酸水溶液可采用从下一个工序所用的电解装置中溢出的废液。设定喷射去斑 处理液的喷管的数量和位置，使得直至下一个工序铝板表面都不会干燥。
(4)电化学的表面粗化处理
采用图2所示的梯形波的交流电和图3所示的电解装置2的槽进行连续的 电化学表面粗化处理。酸性水溶液采用1wt％的硝酸水溶液(含有0.5wt％的铝离 子和浓度为0.007wt％的铵离子)。液体温度为50℃。交流电的电流值从0直至 达到阴极周波侧和阳极周波侧的峰值的时间tp和tp’为1msec，石墨电极形成 对极。交流电达到峰值时的电流密度在铝板作为阳极时和阴极时都是50A/dm2， 交流电阴极时的电量(Qc)与阳极时的电量(QA)之比(Qc/QA)为0.95，功率 比为0.50，频率为60Hz，阳极时的电量的总和是180C/dm2。此后用喷嘴进行水 洗。
硝酸水溶液的浓度控制是与通电量成比例地添加67wt％的硝酸原液和水， 与硝酸和水的添加容积相同容量的酸性水溶液(硝酸水溶液)逐渐从电解装置 中溢出，并排出电解装置外。同时，参照预先根据硝酸浓度和铝离子浓度、温 度、液体的导电率、液体的超声波传输速度之间的关系作成的对照表，根据硝 酸水溶液的温度、导电率、超声波传输速度求出该硝酸水溶液的浓度，逐渐调 整硝酸原液和水的添加量进行控制，从而确保浓度恒定的。
(5)碱性腐蚀处理
用喷嘴向铝板喷射含有NaOH26wt％和铝离子6.5wt％的温度为45℃的水溶 液，进行碱性腐蚀处理。铝板的溶解量为1g/m2。腐蚀液的浓度参照预先根据NaOH的浓度和铝离子的浓度、温度、比重、液体的导电率之间的关系作成的对照表， 根据温度、比重和导电率求出腐蚀液的浓度，通过反馈控制，添加水和48wt％ 的NaOH水溶液，以确保浓度恒定。此后进行水洗。
(6)酸性腐蚀处理
用硫酸(硫酸浓度为300g/L，铝离子的浓度为15g/L)作为酸性腐蚀液， 在80℃的条件下从喷管向铝板喷射硫酸8秒，进行酸性腐蚀处理。参照预先根 据硫酸浓度与铝离子浓度、温度、比重及液体导电率的关系作成的对照表，根 据温度、比重及导电率求出酸性腐蚀液的浓度，通过反馈控制，添加水和50wt ％的硫酸，使酸性腐蚀液的浓度保持恒定。此后，进行水洗。
(7)阳极氧化处理
采用硝酸浓度为50g/L的水溶液(含有0.5wt％的铝离子)作为阳极氧化 溶液，用电流密度为12A/dm2的直流电压，在50℃、30秒的条件下对铝板进行 阳极氧化处理，形成阳极氧化被膜。参照预先根据硝酸浓度与铝离子浓度、温 度、比重及液体导电率的关系作成的对照表，根据温度、比重及导电率求出液 体浓度，通过反馈控制，添加水和50wt％的硝酸，使阳极氧化处理液的浓度保 持稳定。此后，用喷嘴进行水洗。
(8)扩孔处理
将经过阳极氧化处理后的铝板在PH值为13的50℃的NaOH水溶液中浸泡 30秒，进行扩孔处理。此后进行水洗。
(9)亲水性表面处理
用浓度为2.5wt％的3号硅酸钠水溶液在70℃的条件下处理10秒，进行 亲水性表面处理。
此后，经过水洗、干燥，得到铝支撑体1。
(支撑体的制造例2)
除了用下述(10)的含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液进行处理， 来代替上述(9)的亲水性表面处理之外，通过与支撑体制造例1同样的方法得 到铝支撑体2。
(10)用含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液的处理
采用纯水调制，使得氟化钠和3号硅酸钠的浓度分别达到2wt％和2.5wt ％的水溶液浸泡扩孔处理后的铝板，在100℃的条件下浸泡10秒。此后进行水 洗。
(支撑体制造例3)
除了在上述(8)的扩孔处理和(9)的亲水性表面处理之间用下述(11) 的用含有粒子的水溶液进行处理之外，通过与支撑体制造例1同样的方法得到 铝支撑体3。
(11)用含有粒子的液体进行处理
以扩孔处理后的板作为阴极，采用含有1wt％的平均粒径为30nm的氧化铝 粒子的悬浊液为电解液，在110V的电压下进行60秒稳定电压的电解处理，此 后进行水洗、干燥，并进行封孔处理。
(用于比较例的支撑体制造例1)
除了用下述(7’)的阳极氧化处理代替上述(7)的阳极氧化处理和(8) 的扩孔处理之外，用与支撑体制造例1同样的方法得到用于比较例的铝支撑体 1。
(7’)阳极氧化处理
用硫酸浓度为170g/L的水溶液(含有0.5wt％的铝离子)作为阳极氧化 溶液，采用直流电压，在电流密度为5A/dm2、43℃、33秒的条件下对铝板进行 阳极氧化处理，形成阳极氧化被膜。参照预先根据硫酸浓度与铝离子浓度、温 度、比重及液体导电率的关系作成的对照表，根据温度、比重及导电率求出液 体浓度，通过反馈控制，添加水和50wt％的硫酸，使阳极氧化处理液的浓度保 持恒定。此后，用喷嘴进行水洗。
(用于比较例的支撑体制造例2)
除了用下述(12)的磷酸盐/无机氟化合物进行处理，来代替上述(10) 的用含有无机氟化合物和硅酸化合物的水溶液进行处理之外，通过与支撑体制 造例2同样的方法得到铝支撑体2。
(12)用磷酸盐/无机氟化合物进行处理
采用纯水调制，使得氟化钠和磷酸二氢钠的浓度分别达到0.1wt％和10wt ％的水溶液浸泡扩孔处理后的铝板，在100℃的条件下浸泡10秒。此后进行水 洗。
<阳极氧化被膜的孔隙率的测定>
通过下式求出铝支撑体1～3和用于比较例的铝支撑体1和2的阳极氧化 被膜的孔隙率，表示在第2表中。
孔隙率(％)＝(1-(氧化被膜密度/3.98))×100
其中，氧化被膜的密度(g/cm3)是每单位面积的氧化被膜的重量(g/cm2) 除以氧化被膜的厚度(cm)求得的。将上述支撑体通过后述的平版印刷版原版 的显影处理而得到的平版印刷版的非图像部分切成适当的尺寸，浸泡在由铬酸 /磷酸构成的メイソン(mason)液中，使阳极氧化被膜溶解，测定溶解前、后的 重量，重量差除以切割的面积即可求出每单位面积的氧化被膜的重量。而氧化 被膜的厚度是通过扫描型显微镜(T20，日本电子社制)观察显影处理后的非图 像部的阳极氧化被膜，实测50处的膜厚的平均值而求出的。
3.98是按照日本化学会编的《化学手册》(丸善)的氧化铝的密度(g/cm3)。
<阳极氧化被膜表面微孔的孔径的测量>
各平版印刷版原版中，显影处理后的非图像部的阳极氧化被膜表面微孔的 孔径是利用扫描型电子显微镜(S-900，日立制作所社制)在加速电压为12kV， 不蒸镀的条件下，根据用15万倍的倍率观察到的SEM照片求出的。任意选择50 个微孔的平均值作为微孔的孔径，表示在第2表中。
1-2.微粒子聚合物的合成及微胶囊的调制
(1)微粒子聚合物的合成
加入7.5g甲基丙烯酸烯丙酯、7.5g甲基丙烯酸丁酯、200ml聚氧乙烯壬 基苯酚水溶液(浓度为9.84×10-3mol/L)，一边以250rpm搅拌，一边用氮气置 换。该液体到达25℃后，添加10ml铈(IV)铵盐水溶液(浓度为0.984× 10-3mol/L)。此时，加入硝酸铵水溶液(浓度为58.8×10-3mol/L)，将PH值调整 到1.3～1.4。此后，搅拌8个小时，从而得到含有微粒子聚合物的液体。得到 的液体的固体成分的浓度为9.5wt％，微粒子聚合物的平均粒径为0.2μm。
(2)微胶囊的调制
将40g二甲苯二异氰酸酯、10g三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、10g甲基丙烯 酸烯丙酯和甲基丙烯酸丁酯的共聚物(摩尔比为7/3)及0.1g表面活性剂(先 驱A41C，竹本油脂社制)溶解在60g醋酸乙酯中，形成油相成分。另一方面， 调制120g4wt％的聚乙烯醇(PVA205，クラレ社制)水溶液，作为水相成分。将 上述油相成分和水相成分投入均化器中，用10000rpm进行乳化。此后，添加40g 水，在室温下搅拌30分钟，再在40℃下搅拌3个小时，从而得到微胶囊液体。 得到的微胶囊液体的固体成分的浓度为20wt％，微胶囊的平均粒径为0.2μm。
1-3.平版印刷版原版的制作
(实施例1～3及比较例1、2)
由在上述得到的铝支撑体1～3及用于比较例的铝支撑体1和2上涂敷下 述组成的感热层(1)的涂敷液，用烘箱在60℃下干燥150秒，从而得到实施例 1～3及比较例1和2的平版印刷版原版。感热层(1)的干燥涂敷量为0.5g/ m2。
<感热层(1)涂敷液的组成>
.含有上述合成的微粒子聚合物的液体 5g(固体成分)
.聚羟乙基丙烯酸酯(重均分子量2.5万) 0.5g
.光热转换剂(本说明书记载的IR-11) 0.3g
.水 100g
(实施例4～6及比较例3和4)
由在上述得到的铝支撑体1～3及用于比较的铝支撑体1和2上涂敷下述 组成的感热层(2)的涂敷液，用烘箱在60℃下干燥150秒，从而得到实施例4～ 6及比较例3和4的平版印刷版原版。感热层(2)的干燥涂敷量为0.7g/m2。
<感热层(2)的涂敷液的组成>
.上述合成的微胶囊液体 5g(固体成分)
.三羟甲基丙烷三丙烯酸酯 3g
.光热转换剂(本说明书记载的IR-11) 0.3g
.水 60g
.1-甲氧基-2-丙醇 40g
1-4.设置感热层后的阳极氧化被膜的剖切面中碳和铝的原子数比(C/ Al)的测定
如下所述，对于实施例1～6和比较例1～4的平版印刷版原版，测定剖 切面中的碳和铝的原子数之比(C/Al)。
在即将分析之前，将平版印刷版原版弯折近180度，从而形成阳极氧化 被膜的剖切面，固定在俄歇电子分光分析装置附属的样品架中，并导入装置内， 进行俄歇电子分光分析。
根据得到的图表求出Ic和Ia1。Sc的值为0.076，Sa1的值为0.105，将求出 的Ic和Ia1的值代入上式(1)，从而算出C/Al。结果表示在第2表中。
还有，C/Al是对距离阳极氧化被膜的剖切面的感热层和阳极氧化被膜的 界面约0.2μm位置处的5个点进行俄歇电子分光分析，求出其平均值。
俄歇电子分光分析的条件如下所示。
测定机器：FE-AES型SMART-200，阿路八次库发以(ァルバツクファ イ)社制
照射电流：约10nA
加速电压：10kV
照射电子束直径：聚焦
腔室内压：约1×10-10Torr(约1.33×10-8Pa)
检测范围：20～2020eV、0eV/step、20ms/step
放大器的电压：2250V
1-5.感光度的测定
(实施例1～3及比较例1和2)
采用装载有水冷式40W的红外线半导体激光的クレオ社制的转向调节器 3244VFS，在分辨率为2400dpi的条件下输出并曝光实施例1～3和比较例1和2 的可机上显影的平版印刷版原版。此时，通过改变外面滚筒的旋转数可改变版 面的能量，根据可形成图像的最低曝光量来评价感光度。结果表示在第2表中。
(实施例4～6和比较例3和4)
采用装载有多通道激光头的富士照片株式会社制的Luxel T-9000CTP， 在分辨率为2400dpi的条件下输出并曝光实施例4～6和比较例3和4的可机上 显影的平版印刷版原版。此时，通过改变每束光的输出和外面滚筒的旋转数， 根据可形成图像的最低曝光量来评价感光度。结果表示在第2表中。
1-6.印刷试验
将实施例1～6和比较例1～4的平版印刷版原版如上所述曝光后，不进 行任何处理，即安装在哈衣特路背了库(ハイデルベルグ社)制的印刷机SOR-M 的滚筒上，供给润版药水后，供给油墨，再供给纸，进行印刷试验。在所有实 施例的平版印刷版原版中，毫无疑问可实现机上显影，也可以印刷。
在上述印刷试验中，起脏、背面蹭脏(粘到油墨性)及耐印性通过下述 方法来评价。其结果分别表示在第2表中。
(1)起脏
在印刷试验中，调整印刷机的水位刻度，根据产生起脏的水位的刻度来 评价起脏。产生起脏的水位刻度不到2时记作○，2以上不到3时记作○△，3 以上不到4时记作△，4以上时记作×。
(2)背面蹭脏(粘到油墨)
机上显影后仅向印刷版供给油墨，此后再供给润版药水，并擦去油墨， 求出直到得到鲜明的印刷品为止的印刷页数，页数越少耐背面蹭脏性(粘到油 墨性)越好。
(3)耐印性
通过得到的鲜明的印刷品的印刷页数来评价耐印性。印刷页数越多耐印 性越好。
从第2表可以看出，本发明的平版印刷版原版(实施例1～6)的感光度 好，难以发生起脏，耐背面蹭脏性(粘到油墨性)和耐印性都很好。 与此相对，设置感热层后的阳极氧化被膜的剖切面中C/Al过大时(比较例1～4) 要么容易发生起脏，耐背面蹭脏性(粘到油墨性)差，要么感光度低耐印性差。
【表2】
第2表 支撑 体 感热 层 C/Al 孔隙率 (％) 微孔孔 径(nm) 起脏 背面蹭 脏 (页) 感光度 (m/cm2) 耐印 性 (万 页) 实施例1 1 (1) 0.88 60 40 ○△ 19 190 2.2 实施例2 2 (1) 0.65 55 8 ○ 15 180 1.9 实施例3 3 (1) 0.62 40 12 ○ 16 180 2.0 比较例1 4 (1) 1.09 15 10 ○ 19 370 0.1 比较例2 5 (1) 1.10 40 15 × 48 250 0.5 实施例4 1 (2) 0.88 60 40 ○△ 19 230 1.8 实施例5 2 (2) 0.65 55 8 ○ 15 220 1.7 实施例6 3 (2) 0.62 40 12 ○ 16 200 2.0 比较例3 4 (2) 1.09 15 10 ○△ 19 390 0.1 比较例4 5 (2) 1.10 40 15 × 48 270 0.5
2-1.平版印刷版原版的调制
(实施例7)
采用板厚0.24mm的JIS A1050中规定的铝板作为基板，依次进行下述处理， 作成铝支撑体。
(a)用碱性溶剂进行腐蚀处理
以氢氧化钠浓度为26wt％、铝离子浓度为6.5wt％、温度为70℃的溶液， 用喷嘴对铝板进行腐蚀处理，铝板溶解6g/m2。此后用喷嘴进行水洗。
(b)去斑处理
用温度为30℃的硝酸浓度为1wt％的水溶液(含0.5wt％铝离子)通过喷嘴 进行去斑处理，此后用喷嘴进行水洗。前述去斑所用的硝酸水溶液可以利用在 硝酸水溶液中采用交流电的电化学表面粗化工序中的废液。
(c)电化学的表面粗化处理
用60Hz的交流电连续进行电化学的表面粗化处理。此时的电解液是硝酸浓 度为1wt％、温度为50℃的水溶液(含有铝离子0.5wt％、铵离子浓度为0.007wt ％)。交流电源的波形如图2所示，电流值从0达到峰值的时间TP为2msec，DUTY 比为1∶1，采用梯形的矩形波交流电，以碳电极作为对极进行电化学的表面粗 化处理。辅助阳极采用铁氧体。使用的电解槽如图3所示采用2个。
电流密度在电流峰值处是30A/dm2，铝板为阳极时的电量的总和为270C/ dm2。从电源流出的电流的5％分流到辅助阳极。
此后用喷嘴进行水洗。
(d)腐蚀处理
用浓度为26wt％的氢氧化钠在铝离子浓度为6.5wt％、温度为70℃的溶液通 过喷嘴对铝板进行腐蚀处理，铝板溶解0.2g/m2，从而除去以前采用交流电进行 电化学表面粗化时生成的以氢氧化铝为主体的斑点成分，且溶解生成的凹坑的 边缘部分，使边缘部分变得光滑。此后用喷嘴进行水洗。
(e)去斑处理
用温度为60℃的硫酸浓度为25wt％的水溶液(含有铝离子0.5wt％)通过 喷嘴进行去斑处理，此后，通过喷嘴进行水洗并干燥，从而得到基板1。
(f)阳极氧化处理
在硫酸浓度为170g/L的电解液中，在温度为33℃、电流密度为5A/dm2的 条件下，用直流电对基板1进行66秒的阳极氧化处理，形成阳极氧化被膜。
(g)扩孔处理
将阳极氧化处理后的基板1浸泡在30℃的PH值为13的氢氧化钠水溶液中60 秒，此后进行水洗并干燥，随后进行扩孔处理。
(h)粒子层的形成
用纯水稀释含有平均粒径为10～20nm的Al2O3粒子的氧化铝溶胶分散液(氧 化铝溶胶-520，日产化学工业社制，固体成分(Al2O3)的浓度为20wt％)，使 固体成分的浓度达到0.2wt％，在温度为70℃的条件下用液体浸泡处理扩孔处理 后的基板14秒，此后进行水洗并干燥，形成粒子层。
(i)亲水化处理
形成粒子层后的基板1在3号硅酸钠的2.5wt％的水溶液中连续浸泡，进行 亲水性处理(硅化处理)。处理液的温度为70℃，浸泡处理的时间为10秒。此 后，用喷嘴进行水洗并干燥，在阳极氧化被膜上形成粒子层，从而得到平版印 刷版的支撑体。
(j)感热层的形成
如下所示，在上述平版印刷版的支撑体上涂敷感热层涂敷液并干燥，从而 得到平版印刷版原版。
调制下述组成的感热层涂敷液，用涂镀设备在上述平版原版的支撑体上涂 敷该感热层涂敷液1，使得干燥后的涂敷量(感热层的涂敷量)为0.7g/m2，用 烘箱在100℃下干燥60秒，形成感热层，从而得到平版印刷版原版。
<感热层涂敷液的组成>
.后述微胶囊液体 25g(固体成分5g)
.三羟甲基丙烷三丙烯酸酯 3g
.本说明书记载的红外线吸收染料(IR-11) 0.3g
.水 60g
.1-甲氧基-2-丙醇 1g
<微胶囊>
将40g二甲苯二异氰酸酯、10g三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、10g甲基丙烯酸 烯丙酯和甲基丙烯酸丁酯的共聚物(摩尔比为7/3)及0.1g表面活性剂(先驱 A41C，竹本油脂社制)溶解在60g醋酸乙酯中，形成油相成分。另一方面调制 120g4wt％聚乙烯醇(PVA205，クラレ社制)的水溶液，作为水相成分。将上述 油相成分和水相成分投入均化器中，用10000rpm乳化10分钟。此后，添加40g水， 在室温下搅拌30分钟，进而在40℃下搅拌3个小时，从而得到微胶囊液体。得到 的微胶囊液体的固体成分的浓度为20wt％，微胶囊的平均粒径为0.5μm。
(实施例8～10)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用第3表所示平均粒径的胶态硅 石分散液((是特库事)スノ-テツクス N、(是特库事)スノ-テツクス XL及(是特库事)スノ-テツクス ZL，都是日产化学社制)代替氧化铝溶胶 的分散液以外，通过与实施例7相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例11、12)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用第3表所示平均粒径的Al2O3 粒子的水悬浊液代替氧化铝溶胶的分散液以外，通过与实施例7相同的方法得 到平版印刷版原版。
(实施例13)
除了在50℃下将形成粒子层后的基板1浸泡在1wt％的磷酸聚乙烯水溶液 中10秒，从而进行亲水化处理来代替上述(i)的亲水化处理以外，通过与实 施例7相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例14)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用平均粒径为10～20μm的胶态 硅石分散液((是糯特库事)スノ-テツクス N，日产化学社制)代替氧化铝溶 胶的分散液以外，通过与实施例13相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例15)
除了不进行上述(i)的亲水化处理工序以外，通过与实施例7相同的方 法得到平版印刷版原版。
(实施例16)
除了不进行上述(i)的亲水化处理工序以外，通过与实施例8相同的方 法得到平版印刷版原版。
(实施例17～19)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了将氧化铝溶胶分散液稀释后的固 体成分的浓度分别变为第3表所示的固体成分的浓度以外，通过与实施例7同 样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例20和21)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了将温度分别变为第3表所示的温 度以外，通过与实施例7同样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例22和23)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了将浸泡时间分别变为第3表所示 的浸泡时间以外，通过与实施例7同样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例24)
除了不进行上述(g)的扩孔处理工序以外，通过与实施例7相同的方法 得到平版印刷版原版。
(实施例25～27)
在上述(g)的扩孔处理过程中，除了将浸泡时间分别变为第3表所示的 浸泡时间以外，通过与实施例7同样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例28)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用纯水10wt％和甲醇90wt％的混 合液稀释含有平均粒径为10～20nm的Al2O3粒子的氧化铝溶胶分散液(氧化铝溶 胶-520，日产化学社制，固体成分(Al2O3)的浓度为20wt％)，使得固体成分的 浓度为0.2wt％而得到的液体通过涂敷机(北村写真制版用品制造社制)以180rpm 对扩孔处理后的基板1旋转涂敷10秒，此后用烘箱(恒温器S四-201，踏八以 爱是陪尺库(タバイエスペツク社制)在120℃下干燥1分钟，从而形成粒子层 来代替浸泡处理以外，通过与实施例7同样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例29～31)
在上述(h)形成粒子层的过程中，用第5表所示平均粒径的胶态硅石分 散液((是糯特库事)スノ-テツクスN，(是糯特库事)スノ-テツクス XL和 (是糯特库事)スノ-テツクス ZL，都是日产化学社制)来代替氧化铝溶胶的 分散液以外，通过与实施例28相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例32和33)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用第5表所示平均粒径的Al2O3 粒子的水悬浊液代替氧化铝溶胶的分散液以外，通过与实施例28相同的方法得 到平版印刷版原版。
(实施例34)
除了在50℃下将形成粒子层后的基板1浸泡在1wt％的磷酸聚乙烯水溶液 中10秒，从而进行亲水化处理来代替上述(i)的亲水化处理以外，通过与实 施例28相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例35)
在上述(h)粒子层的形成过程中，除了用平均粒径为10～20μm的胶态 硅石分散液(スノ-テツクス N，日产化学社制)代替氧化铝溶胶的分散液以外， 通过与实施例34相同的方法得到平版印刷版原版。
(实施例36)
除了不进行上述(i)的亲水化处理工序以外，通过与实施例28相同的 方法得到平版印刷版原版。
(实施例37)
除了不进行上述(i)的亲水化处理工序以外，通过与实施例29相同的 方法得到平版印刷版原版。
(实施例38～40)
在上述(h)形成粒子层的过程中，除了将氧化铝溶胶分散液稀释后的固 体成分的浓度分别变为第5表所示的固体成分的浓度以外，通过与实施例28同 样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例41)
除了不进行上述(g)的扩孔处理工序以外，通过与实施例28相同的方 法得到平版印刷版原版。
(实施例42～44)
在上述(g)的扩孔处理过程中，除了将浸泡时间分别变为第5表所示的 浸泡时间以外，通过与实施例28同样的方法得到平版印刷版原版。
(实施例45)
在上述(h)形成粒子层的过程中，除了以扩孔处理后的基板1作为阴极， 用含有0.5wt％的平均粒径为15nm的Al2O3粒子的水悬浊液作为电解液，用110V 电压的稳定电压进行60秒的电解处理，此后进行水洗并干燥，从而形成粒子层 以外，通过与实施例7同样的方法得到平版印刷版原版。
2-2.观察平版印刷版原版的剖切面
在各平版印刷版原版中，用扫描型电子显微镜(S-900，日立制作所制) 在加速电压为12kV，不蒸镀的条件下以5～15万倍的倍率观察显影处理后的非 图像部分的剖切面。
通过实施例7得到的平版印刷版原版的显影处理后的非图像部分的剖切 面的SEM照片如图5所示。可以看出在铝板2上设置阳极氧化被膜3而形成的 铝支撑体4上带有粒子层5。而且，可以看出阳极氧化被膜3上的微孔7被粒子 层5堵塞了，但内部仍有孔隙。另外图5中不仅是平版印刷版原版的剖切面， 还可以看到非图像部分的表面8。
对于实施例8～45的平版印刷版原版也是同样的。
2-3.平版印刷版原版的阳极氧化被膜表面的微孔孔径
各平版印刷版原版中，通过与上述同样的方法求出的显影处理后的非图 像部分的阳极氧化被膜表面的微孔孔径表示在第3和第5表中。
2-4.平版印刷版原版的阳极氧化被膜的孔隙率
在各平版印刷版原版中，通过与上述同样的方法求出的阳极氧化被膜的 孔隙率表示在第3和第5表中。
2-5.平版印刷版原版的粒子层的亲水性粒子的热传导率
第3和第5表中示出的亲水性粒子的热传导率是按照新金属陶瓷字典编 委会编辑的《新金属陶瓷字典》、日本学术振兴会未来加工技术第136委员会编 辑的《新金属陶瓷技术手册》及日本化学会编辑的《化学手册》。
2-6.设置感热层后的阳极氧化被膜的剖切面中碳和铝的原子数比 (C/Al)的测定
在实施例7～45的平版印刷版原版中，通过与上述同样的方法对剖切面 中碳和铝的原子数比(C/Al)进行测定。结果表示在第3和第5表中。
2-7.平版印刷版原版的感光度
用CREO社制造的扑勒特社踏-参时社踏-(プレ-トセツタ- Trendsetter3244F)(搭载192通路的多波束)在调整各种参数(Sr、Sd、bmslope、 bmcurve)后，以2400dpi对各平版印刷版原版的图像进行曝光。曝光是通过阶 段性地改变滚筒的转数和输出功率进行的。曝光后，在印刷机上进行显影处理， 以能形成1％网点的能量作为平版印刷版原版的感光度。结果表示在第4和第6 表中。
2-8.耐印性和耐背面蹭脏性
曝光后的各平版印刷版原版安装到印刷机上，供给润版药水后供给油墨， 在印刷机上进行显影处理，并连续进行印刷。这里印刷机采用小森印刷机社制 造的印刷机时扑林特(スプリント)，油墨采用大日本油墨化学工业社制造的 Geos油墨，润版药水采用富士写真胶片(株)制造的润版药水EU-3的水稀释 液(1∶100)90vol％和异丙醇10vol％的混合物，印刷纸采用质量好的纸张。
在上述条件下进行印刷，测定图像部没有粘到油墨的页数作为耐印性的 评价。结果表示在第4和第6表中。
在上述条件下印刷500页后，从印刷机上取下平版印刷版，在室内放置 30分钟后，再次安装到印刷机上同时开始供给润版药水和油墨、纸张，测定直 到形成在与印品的非图像部分相对应的区域中没有附着油墨，没有起脏的非图 像部分为止的废纸的页数，作为耐起脏性的评价。废纸的页数越少耐起脏性越 好。结果表示在第4和第6表中。
如第3～第6表明示的，由本发明的第2方案的平版印刷版原版的制造方 法(实施例7～45)获得的平版印刷版原版的无论感光度、耐印性和耐起脏性都 很好。
在通过电解处理设置粒子层时(实施例45)感光度和耐印性很好，但与 通过浸泡或涂敷设置粒子层的情况(实施例11和32)相比，其耐起脏性较差。 【表3】
第3表 阳极氧化被膜 粒子层 电解液 扩孔处理 微孔 孔径 (nm) 孔隙率 (％) 处理液的种 类 粒子的平均粒 径(nm) 粒子的热传 导率 (W/(m*k) 形成 方法 处理液固 体成分浓 度(质量 ％) 处理液 温度(C) 处理时 间 C/Al 温度 (℃) 时间(秒) 实施例7 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.64 实施例8 硫酸 30 60 15 50 是糯特库事 N 10-20 10 浸泡 处理 0.2 70 14 0.68 实施例9 硫酸 30 60 15 50 是糯特库事 XL 40-60 10 浸泡 处理 0.2 70 14 0.78 实施例10 硫酸 30 60 15 50 是糯特库事 ZL 70-100 10 浸泡 处理 0.2 70 14 0.82 实施例11 硫酸 30 60 15 50 Al2O3水悬浊 液 15 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.74 实施例12 硫酸 30 60 15 50 Al2O3水悬浊 液 750 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.88 实施例13 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.58 实施例14 硫酸 30 60 15 50 是糯特库事 N 10-20 10 浸泡 处理 0.2 70 14 0.54 实施例15 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.64 实施例16 硫酸 30 60 15 50 是糯特库事 N 10-20 10 浸泡 处理 0.2 70 14 0.54 实施例17 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.01 70 14 0.92 实施例18 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 5 70 14 0.64 实施例19 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 10 70 14 0.72 实施例20 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 10 14 0.59 实施例21 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 85 14 0.69 实施例22 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 10-20 36 浸泡 0.2 70 2 0.64 520 处理 实施例23 硫酸 30 60 15 50 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 120 0.58 实施例24 硫酸 - - 7 16 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.59 实施例25 硫酸 30 30 10 25 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.69 实施例26 硫酸 30 65 18 60 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.68 实施例27 硫酸 30 70 20 75 氧化铝溶胶 520 10-20 36 浸泡 处理 0.2 70 14 0.79 【表4】
第4表 亲水化处理 感光度 (mJ/cm2) 耐印性(千 页) 起脏(页) 实施例7 硅酸盐 250 15 18 实施例8 硅酸盐 250 14 18 实施例9 硅酸盐 250 14 18 实施例10 硅酸盐 250 13 18 实施例11 硅酸盐 250 13 20 实施例12 硅酸盐 250 12 20 实施例13 聚乙烯基膦酸 250 14 20 实施例14 聚乙烯基膦酸 250 14 20 实施例15 无 250 15 23 实施例16 无 250 14 23 实施例17 硅酸盐 300 12 20 实施例18 硅酸盐 250 14 15 实施例19 硅酸盐 250 12 23 实施例20 硅酸盐 300 12 18 实施例21 硅酸盐 250 14 23 实施例22 硅酸盐 300 12 20 实施例23 硅酸盐 280 15 23 实施例24 硅酸盐 320 12 15 实施例25 硅酸盐 280 12 15 实施例26 硅酸盐 250 15 18 实施例27 硅酸盐 280 15 20 【表5】
第5表 阳极酸化被膜 粒子层 电解液 扩孔处理 微孔孔 径 (nm) 孔隙率 (％) 处理液 的种类 粒子的 平均直 径(nm) 粒子的热 传导率 (W/(m K) 形成方 法 处理液 固体成 分浓度 (质量 ％) C/Al 温度 (C) 时间 (秒) 实施例 28 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.62 实施例 29 硫酸 30 60 15 50 是糯特 库事 N 10-20 10 涂敷 0.2 0.64 实施例 30 硫酸 30 60 15 50 是糯特 库事 XL 40-60 10 涂敷 0.2 0.72 实施例 31 硫酸 30 60 15 50 是糯特 库事 ZL 70- 100 10 涂敷 0.2 0.83 实施例 硫酸 30 60 15 50 Al2O3水 15 36 涂敷 0.2 0.72 32 悬浊液 实施例 33 硫酸 30 60 15 50 Al2O3水 悬浊液 750 36 涂敷 0.2 0.88 实施例 34 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.58 实施例 35 硫酸 30 60 15 50 是糯特 库事 N 10-20 10 涂敷 0.2 0.52 实施例 36 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.57 实施例 37 硫酸 30 60 15 50 是糯特 库事 N 10-20 10 涂敷 0.2 0.53 实施例 38 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.01 0.89 实施例 39 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 5 0.62 实施例 40 硫酸 30 60 15 50 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 10 0.74 实施例 41 硫酸 - - 7 16 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.58 实施例 42 硫酸 30 30 10 25 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.68 实施例 43 硫酸 30 65 18 60 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.62 实施例 44 硫酸 30 70 20 75 氧化铝 溶胶 520 10-20 36 涂敷 0.2 0.69 实施例 45 硫酸 30 60 15 50 Al2O3水 悬浊液 15 36 电解 0.5 0.72 【表6】
第6表 亲水化处理 感光度 (mJ/cm2) 耐印性(千 页) 耐起脏性 (页) 实施例28 硅酸盐 250 16 20 实施例29 硅酸盐 250 15 18 实施例30 硅酸盐 250 15 18 实施例31 硅酸盐 250 15 18 实施例32 硅酸盐 250 13 20 实施例33 硅酸盐 250 12 20 实施例34 聚乙烯基膦酸 250 15 20 实施例35 聚乙烯基膦酸 250 15 20 实施例36 无 250 16 25 实施例37 无 250 15 25 实施例38 硅酸盐 300 12 20 实施例39 硅酸盐 250 14 20 实施例40 硅酸盐 250 14 23 实施例41 硅酸盐 320 12 18 实施例42 硅酸盐 280 14 18 实施例43 硅酸盐 250 16 20 实施例44 硅酸盐 280 15 25 实施例45 硅酸盐 300 12 45
【发明的效果】
本发明第一方案的平版印刷版原版由于设置记录层后的阳极氧化被膜的 剖切面中C/Al的值在规定值以下，因此具有良好的机上显影性，感光度高，且 表显示高耐印性，印刷时不易出现起脏现象，且耐背面蹭脏性(粘到油墨性) 良好。此时，采用通过激光进行图像曝光，并安装在印刷机上印刷，或是安装 在印刷机上之后再用激光进行图像曝光，并印刷的本发明的平版印刷版的制版 印刷方法无需再另行显影处理，可在印刷机上进行显影，并可继续印刷，因此 十分有用。
另外，由于本发明的第一方案的平版印刷版原版在设置记录层后的阳极 氧化被膜的剖切面中的C/Al的值在规定值以下，因此即使是红外线激光的曝光 量低时和显影液的液感低时，相对于显影液的溶解性也可提高，其结果可提高 感光度，增大显影的宽容度，即使是低曝光时残膜也较少，非图像部分也不易 起脏。
另外，本发明的平版印刷版原版由于设置记录层之后的阳极氧化被膜的 剖切面中的C/Al的值在规定值以下，因此对于激光曝光部分中的显影液的不溶 解率增高，其结果导致感光度增高，耐印性较好。
采用本发明的第二方案的平版印刷版原版的制造方法可以在图像形成中 高效率地利用热，可以获得高感光度，耐印性好并且耐起脏性特别好的平版印 刷版原版。因而该平版印刷版原版既可适用于热正片型也可以适用于热负片型， 另外也适用于机上显影型，因此非常有用。
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