专利汇可以提供表面改性剂专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种表面改性剂,其为含有有机 硅 酮 化合物的表面改性剂,所述有机硅酮化合物由通式(A)和/或通式(B)表示:F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)rSi(X')3-a(R1)a(A)和F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')2-a(R1)aSiO(F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')1-a(R1)aSiO)zF-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')2-a(R1)aSi(B),其中,q是1~3的整数;m、n和o独立地为0~200的整数;p是1或2;X是O或者二价有机基团;r是2~20的整数;R1是C1-22直链或支化的 烃 基;a是0~2的整数;X'是 水 解 性基团;以及当a为0或1时,z是0~10的整数。,下面是表面改性剂专利的具体信息内容。
1.一种表面改性剂,所述表面改性剂含有由通式(A)和/或通式(B)表示的有机硅酮化合物:
1
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)rSi(X')3-a(R)a (A)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1
1或2;r是3;R 是C1-22直链或支化的烃基;a是0~2的整数;X'是水解性基团;C3F6不是支链的亚丙基;和
1
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X')2-a(R)aSiO(F-(CF2)q-(OC3F6)
1
m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X')1-a(R)aSiO)zF-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)
1
pO(CH2)r(X')2-a(R)aSi (B)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1
1或2;r是3;R 是C1-22直链或支化的烃基;a是0~2的整数;X'是水解性基团;以及当a为0或1时,z是0~10的整数;C3F6不是支链的亚丙基
其中所述有机硅酮化合物通过由以下通式(C)表示的化合物之间的氢化硅烷化反应制备:
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pOCH2CH=CH2 (C)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1或2;C3F6不是支链的亚丙基。
2.如权利要求1所述的表面改性剂,其中,在通式(A)和/或通式(B)中,q是3,n是
1,o是0,p是1,r是3以及a是0或1。
3.如权利要求1或2所述的表面改性剂,其中加入催化剂以促进表面改性。
4.如权利要求3所述的表面改性剂,基于100重量份的所述由通式(A)和/或(B)表示的有机硅酮化合物,以0.001重量份~2重量份的量使用所述催化剂。
5.如权利要求1所述的表面改性剂,其中,所述水解性基团是氯、烷氧基(-OR)或-O-N=CR2,其中R是C1-22直链或支化的烃基。
6.一种由通式(A)和/或通式(B)表示的有机硅酮化合物的制造方法:
1
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)rSi(X')3-a(R)a (A)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1
1或2;r是3;R 是C1-22直链或支化的烃基;a是0~2的整数;X'是水解性基团;C3F6不是支链的亚丙基;和
1
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X')2-a(R)aSiO(F-(CF2)q-(OC3F6)
1
m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X')1-a(R)aSiO)zF-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)
1
pO(CH2)r(X')2-a(R)aSi (B)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1
1或2;r是3;R 是C1-22直链或支化的烃基;a是0~2的整数;X'是水解性基团;以及当a为0或1时,z是0~10的整数;C3F6不是支链的亚丙基,
其中所述有机硅酮化合物通过由以下通式(C)表示的化合物之间的氢化硅烷化反应制备:
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pOCH2CH=CH2 (C)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1或2;C3F6不是支链的亚丙基。
7.一种制备由通式(A)表示的有机硅酮化合物的方法,
1
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)rSi(X')3-a(R)a (A)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1
1或2;r是3;R 是C1-22直链或支化的烃基;X'是氯或烷氧基;以及a是0;C3F6不是支链的亚丙基,所述方法采用在过渡金属的存在下,三氯硅烷或三烷氧基硅烷与由以下通式(C)表示的化合物之间的氢化硅烷化反应:
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pOCH2CH=CH2 (C)
其中,q是1~3的整数m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1或2;C3F6不是支链的亚丙基。
8.一种制备由通式(A)表示的有机硅酮化合物的方法,
1
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)rSi(X')3-a(R)a (A)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1
1或2;r是2~20的整数;R 是C1-22直链或支化的烃基;a是0~2的整数;X'是R为C1-22直链或支化的烃基的-OR;C3F6不是支链的亚丙基,所述方法采用在过渡金属的存在下,三氯硅烷与由通式(C)表示的化合物之间的氢化硅烷化反应,然后采用在中和剂的存在下与C1-22直链或支化的脂肪醇之间的烷氧基化反应,从而除去氯化氢,或者采用与金属烷氧化物的烷氧基化反应,
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pOCH2CH=CH2 (C)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1或2;C3F6不是支链的亚丙基。
9.一种制备由通式(A)表示的有机硅酮化合物的方法,
1
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)rSi(X')3-a(R)a (A)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1
1或2;r是2~20的整数;R 是C1-22直链或支化的烃基;a是0~2的整数;X'是R为C1-22直链或支化的烃基的-O-N=CR2;C3F6不是支链的亚丙基,所述方法采用在过渡金属的存在下,三氯硅烷与由通式(C)表示的化合物之间的氢化硅烷化反应,然后采用与由R为C1-22直链或支化的烃基的HO-N=CR2表示的二烷基酮肟反应,
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pOCH2CH=CH2 (C)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数;p是
1或2;C3F6不是支链的亚丙基。
10.如权利要求6~9中任一项所述的制备有机硅酮化合物的方法,其中,所述过渡金属是铂或铑。
11.一种制备由通式(B)表示的有机硅酮化合物的方法,所述方法采用根据权利要求
7-10任一项所述的方法得到的由通式(A)表示的化合物的部分水解和缩合反应,
1
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)rSi(X')3-a(R)a (A)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数n和o独立地为0~200的整数;p是
1
1或2;r是3;R 是C1-22直链或支化的烃基;X'是氯或烷氧基;以及a是0;C3F6不是支链的亚丙基,
1
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X')2-a(R)aSiO(F-(CF2)q-(OC3F6)
1
m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X')1-a(R)aSiO)zF-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)
1
pO(CH2)r(X')2-a(R)aSi (B)
其中,q是1~3的整数;m为10~200的整数,n和o独立地为0~200的整数,;p
1
是1或2;r是3;R 是C1-22直链或支化的烃基;a是0;X'是氯或烷氧基;z是0~10的整数;C3F6不是支链的亚丙基。
12.一种通过使用权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂得到的处理表面,所述处理表面具有至少110°的水接触角和不超过5°的水滑动角。
13.一种通过使用权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂得到的处理表面,所述处理表面含有单分子膜形式的全氟聚醚。
14.一种制造权利要求12中所述的表面的方法,所述方法包括在基材上按照湿式涂布法形成权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂的膜的步骤。
15.一种制造权利要求12中所述的表面的方法,所述方法包括在基材上按照干式涂布法形成权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂的膜的步骤。
16.一种形成表面的方法,所述方法包括使用权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂浸渍多孔物品,并通过真空加热所述已用表面改性剂浸渍的多孔物品以使所述表面改性剂蒸发从而在基材上形成处理层的步骤。
17.如权利要求16所述的形成表面的方法,其中,所述多孔物品含有选自由SiO2、TiO2、ZrO2、MgO、Al2O3、CaSO4、Cu、Fe、Al、不锈钢和碳组成的组的至少一种物质。
18.如权利要求16或17所述的形成表面的方法,其中,浸渍在所述多孔物品中的所述表面改性剂按照选自电阻加热、电子束加热、离子束加热、高频加热和光学加热中的至少一种加热方法被蒸发。
19.一种形成权利要求16所述的表面的方法,所述方法包括在等离子体的存在下通过喷嘴喷射权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂从而在基材上形成膜的步骤。
20.如权利要求19所述的方法,其中,所述等离子体是氩气或氦气的大气压等离子体。
21.一种抗反射光学元件,所述抗反射光学元件包含透明基材,形成在所述透明基材的至少一侧上的抗反射膜,以及形成在最外层表面上的处理层,所述处理层含有权利要求
1~5中任一项所述的表面改性剂。
22.如权利要求21所述的抗反射光学元件,其中,所述透明基材是有机基材或者无机基材。
23.如权利要求21所述的抗反射光学元件,其中,所述透明基材是透明塑料基材或玻璃基材。
24.一种光学功能性元件,所述光学功能性元件包含权利要求21~23中任一项所述的抗反射光学元件和粘附在所述抗反射光学元件上的功能性光学元件。
25.如权利要求24所述的光学功能性元件,其中,所述功能性元件是起偏振片。
26.一种显示器装置,所述显示器装置包含用粘合剂粘附在显示屏表面的前面板前侧上的涂布元件,所述涂布元件是权利要求24或25所述的光学功能性元件。
27.如权利要求26所述的显示器装置,其中,所述显示器是液晶显示器、CRT显示器、投影显示器、等离子显示器或EL显示器。
28.一种玻璃,所述玻璃具有使用权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂得到的表面。
29.如权利要求28所述的玻璃,所述玻璃用于汽车应用或航空应用。
30.一种眼镜镜片或光学镜片,所述眼镜镜片或光学镜片具有使用权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂得到的表面。
31.一种卫浴用具,所述卫浴用具具有使用权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂得到的表面。
32.一种脱模方法,所述脱模方法使用权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂作为防粘剂。
33.一种脱模方法,所述脱模方法使用权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂用于纳米压印。
34.一种使用权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂建立微观结构的方法。
35.如权利要求34所述的微观结构在平版印刷或装置制造中的应用。
36.一种石制品,所述石制品具有使用权利要求1~5中任一项所述的表面改性剂得到的表面。
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