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4640纳米带通红外滤光片

阅读：845发布：2020-05-13

专利汇可以提供4640纳米带通红外滤光片专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种4640 纳米带通红外滤光片，包括以Si为原材料的基板、以Ge、SiO为镀膜材料的第一镀膜层和以Ge、SiO为镀膜材料的第二镀膜层，基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，主要是第一镀膜层包含了由内到外依次排列不同厚度的镀膜材料SiO层和Ge层，第二镀膜层包含了有内到外依次排列不同厚度的镀膜材料SiO层和Ge层，本实用新型得到的4640纳米带通红外滤光片，能实现中心波长定位为4640±1％纳米，峰值透过率达90％以上，截止区透过率小于0.1％，大大提高了信噪比，为精确测量所需测量的气体提供了基本保证，特别是可对一氧化碳准确的测量。，下面是4640纳米带通红外滤光片专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种4640纳米带通红外滤光片，包括以Si为原材料的基板(2)、以Ge、SiO为镀膜材料的第一镀膜层(1)和以Ge、SiO为镀膜材料的第二镀膜层(3)，基板(2)位于第一镀膜层(1)和第二镀膜层(3)之间，其特征是第一镀膜层(1)包含由内到外依次排列185nm厚度的SiO层、168nm厚度的Ge层、206nm厚度的SiO层、111nm厚度的Ge层、286nm厚度的SiO层、89nm厚度的Ge层、346nm厚度的SiO层、121nm厚度的Ge层、232nm厚度的SiO层、
100nm厚度的Ge层、308nm厚度的SiO层、190nm厚度的Ge层、419nm厚度的SiO层、125nm厚度的Ge层、480nm厚度的SiO层、261nm厚度的Ge层、260nm厚度的SiO层、164nm厚度的Ge层、567nm厚度的SiO层、152nm厚度的Ge层、227nm厚度的SiO层、241nm厚度的Ge层、
566nm厚度的SiO层、52nm厚度的Ge层、396nm厚度的SiO层、381nm厚度的Ge层、1185nm厚度的SiO层、366nm厚度的Ge层、1043nm厚度的SiO层、428nm厚度的Ge层、947nm厚度的SiO层、445nm厚度的Ge层、497nm厚度的SiO层；第二镀膜层(3)包含由内到外依次排列的122nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、659nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、
1318nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、659nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、659nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、1318nm厚度的SiO层、288nm厚度的Ge层、199nm厚度的SiO层、516nm厚度的Ge层、1355nm厚度的SiO层。

说明书全文

4640纳米带通红外滤光片

技术领域

[0001] 本实用新型涉及一种滤光片，特别是4640纳米带通红外滤光片。

背景技术

[0002] 在自然界，任何物体在绝对零度(-273度)以上，都有红外谱线发出，而每种物质都有其特殊的发射或吸收特征峰。带通红外滤光片过滤、截止可见光同时允许特定的红外线通过。利用带通红外滤光片的这种允许物体的特征红外谱线透过的特性，可以探测出特定物质的存在，广泛应用于安防、环保、工业、科研等。带通红外滤光片的质量直接影响探测的精度和灵敏度。不同气体的吸收光谱在某一些范围彼此有重叠，因而除目标外的其它气体也会吸收测量波长范围内的光能，以致造成了测量误差，如烟道气中的气体成分复杂，对于要测试的一氧化碳的测量，其它气体对它测量的结果影响很大，一氧化碳能对特定波长的红外辐射有吸水性，其浓度与红外发射呈非线性减弱的原理，故需一个特定波长的带通红外滤光片，减少误差。

[0003] 但是，就目前用于测量一氧化碳的4640纳米带通红外滤光片，其信噪比低，精度差，不能满足市场发展的需要。实用新型内容

[0004] 本实用新型的目的是为了解决上述现有技术的不足而提供一种峰值透过率高，能极大的提高信噪比的4640纳米带通红外滤光片。

[0005] 为了实现上述目的，本实用新型所设计的4640纳米带通红外滤光片，包括以Si为原材料的基板、以Ge、SiO为镀膜材料的第一镀膜层和以Ge、SiO为镀膜材料的第二镀膜层，基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是第一镀膜层包含由内到外依次排列185nm厚度的SiO层、168nm厚度的Ge层、206nm厚度的SiO层、111nm厚度的Ge层、286nm厚度的SiO层、89nm厚度的Ge层、346nm厚度的SiO层、121nm厚度的Ge层、232nm厚度的SiO层、100nm厚度的Ge层、308nm厚度的SiO层、190nm厚度的Ge层、419nm厚度的SiO层、
125nm厚度的Ge层、480nm厚度的SiO层、261nm厚度的Ge层、260nm厚度的SiO层、164nm厚度的Ge层、567nm厚度的SiO层、152nm厚度的Ge层、227nm厚度的SiO层、241nm厚度的Ge层、566nm厚度的SiO层、52nm厚度的Ge层、396nm厚度的SiO层、381nm厚度的Ge层、
1185nm厚度的SiO层、366nm厚度的Ge层、1043nm厚度的SiO层、428nm厚度的Ge层、947nm厚度的SiO层、445nm厚度的Ge层、497nm厚度的SiO层；第二镀膜层包含由内到外依次排列的122nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、659nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、
1318nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、659nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、659nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、1318nm厚度的SiO层、288nm厚度的Ge层、199nm厚度的SiO层、516nm厚度的Ge层、1355nm厚度的SiO层。

[0006] 上述各材料对应的厚度，其允许在公差范围内变化，其变化的范围属于本专利保护的范围，为等同关系。通常厚度的公差在10nm左右。

[0007] 本实用新型得到的4640纳米带通红外滤光片，能实现中心波长定位为4640±1％纳米，峰值透过率达90％以上，截止区透过率小于0.1％，大大提高了信噪比，为精确测量所需测量的气体提供了基本保证，特别是可对一氧化碳准确的测量。附图说明

[0008] 图1是实施例整体结构示意图；

[0009] 图2是实施例提供的红外光谱透过率实测曲线图。

[0010] 图中：第一镀膜层1、基板2、第二镀膜层3。

具体实施方式

[0011] 下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

[0012] 实施例：

[0013] 如图1所示，本实用新型提供的4640纳米带通红外滤光片，包括以Si为原材料的基板2、以Ge、SiO为镀膜材料的第一镀膜层1和以Ge、SiO为镀膜材料的第二镀膜层3，基板2位于第一镀膜层1和第二镀膜层3之间，第一镀膜层1包含由内到外依次排列185nm厚度的SiO层、168nm厚度的Ge层、206nm厚度的SiO层、111nm厚度的Ge层、286nm厚度的SiO层、89nm厚度的Ge层、346nm厚度的SiO层、121nm厚度的Ge层、232nm厚度的SiO层、100nm厚度的Ge层、308nm厚度的SiO层、190nm厚度的Ge层、419nm厚度的SiO层、125nm厚度的Ge层、480nm厚度的SiO层、261nm厚度的Ge层、260nm厚度的SiO层、164nm厚度的Ge层、567nm厚度的SiO层、152nm厚度的Ge层、227nm厚度的SiO层、241nm厚度的Ge层、
566nm厚度的SiO层、52nm厚度的Ge层、396nm厚度的SiO层、381nm厚度的Ge层、1185nm厚度的SiO层、366nm厚度的Ge层、1043nm厚度的SiO层、428nm厚度的Ge层、947nm厚度的SiO层、445nm厚度的Ge层、497nm厚度的SiO层；第二镀膜层3包含由内到外依次排列的
122nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、659nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、1318nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、659nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、659nm厚度的SiO层、285nm厚度的Ge层、1318nm厚度的SiO层、288nm厚度的Ge层、199nm厚度的SiO层、516nm厚度的Ge层、1355nm厚度的SiO层。

[0014] 上述得到的4640纳米带通红外滤光片，对此进行了实测，在波长4640nm时可对一氧化碳进行准确的测量，如图2所示，本实施例得到的4640纳米带通红外滤光片，能实现中心波长定位为4640±1％纳米，峰值透过率达90％以上，截止区透过率小于0.1％。

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