专利汇可以提供胺和肼的荧光检测及其分析方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本文提供了制备 荧光 1-氰基-2-取代的异吲哚化合物或N-取代的酞嗪鎓化合物的工艺,包括使芳族二 醛 或芳族醛- 酮 化合物与含有伯 氨 基或肼基的材料反应,以及涉及所述方法的分析方法。,下面是胺和肼的荧光检测及其分析方法专利的具体信息内容。
1.制备式(I)化合物的工艺:
包括使式(III)化合物:
在氰离子存在下与R-NH2化合物反应,
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为直接或通过连接子连接到固体载体上的部分;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及b
R的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰胺基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧基羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
a
2.如权利要求1所述的工艺,其中X为CR。
3.如权利要求1所述的工艺,其中X为N。
4.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
5.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基、芳基或杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
6.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
7.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
8.如权利要求7所述的工艺,其中R为任选地取代的苯基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
9.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的5元或6元的单环杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
10.如权利要求9所述的工艺,其中R为任选地取代的嘧啶基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
11.如权利要求9所述的工艺,其中R为任选地取代的三嗪基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
12.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的9元或10元的二环稠合杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
13.如权利要求12所述的工艺,其中R为任选地取代的嘌呤基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
14.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R-NH2为任选地取代的核碱基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
15.如权利要求14所述的工艺,其中所述核碱基为胞嘧啶、鸟嘌呤、腺嘌呤、胸腺嘧啶、
7-甲基鸟嘌呤、7-甲基鸟苷、5-甲基胞嘧啶、5-羟甲基胞嘧啶或5-甲基胞苷,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
16.如权利要求14或15所述的工艺,其中所述核碱基连接至糖部分,所述糖部分进一步直接或通过连接子连接到固体载体上。
17.如权利要求16所述的工艺,其中所述糖部分为核糖或2-脱氧核糖。
18.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R-NH2中–NH2基团的pKa为约7至约10、约
7.5至约10、约8至约10、约8.5至约10、或约9至约10。
19.如权利要求18所述的工艺,其中R-NH2中–NH2基团的pKa为约7.4至约10。
20.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为凝胶或连接至凝胶的连接子。
21.如权利要求20所述的工艺,其中所述凝胶为水凝胶。
22.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中所述R-NH2化合物连接到固体载体上,并与所述固体载体一起包含具有下述结构之一的化合物:
其中[SS]表示固体载体。
23.如权利要求1-22中任一项所述的工艺,其中所述固体载体为以下一种或多种:玻璃、改性或官能化的玻璃、塑料、多糖、尼龙、硝化纤维素、树脂、二氧化硅、硅、改性硅、碳、金属、无机玻璃和光纤束。
24.如权利要求1-22中任一项所述的工艺,其中所述固体载体为珠粒。
25.如权利要求24所述的工艺,其中所述珠粒为以下一种或多种:球形二氧化硅珠、无机纳米颗粒、磁性纳米颗粒、镉基点和无镉点。
26.制备式(I)化合物的工艺:
包括使式(III)化合物:
在氰离子存在下与R-NH2化合物反应,
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为任选地取代的杂芳基;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代;
条件为R不是2-吡啶基或3-吡啶基。
27.如权利要求26所述的工艺,其中X为CRa。
28.如权利要求26所述的工艺,其中X为N。
29.如权利要求26-28中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的5元或6元的单环杂芳基。
30.如权利要求29所述的工艺,其中R为任选地取代的嘧啶基。
31.如权利要求29所述的工艺,其中R为任选地取代的三嗪基。
32.如权利要求26-28中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的9元或10元的二环稠合杂芳基。
33.如权利要求32所述的工艺,其中R为任选地取代的嘌呤基。
34.如权利要求26-28中任一项所述的工艺,其中R-NH2为任选地取代的核碱基。
35.如权利要求34所述的工艺,其中所述核碱基为胞嘧啶、鸟嘌呤、腺嘌呤、7-甲基鸟嘌呤、7-甲基鸟苷、5-甲基胞嘧啶、5-羟甲基胞嘧啶或5-甲基胞苷。
36.如权利要求34或35所述的工艺,其中所述核碱基连接至糖部分。
37.如权利要求36所述的工艺,其中所述糖部分为核糖或2-脱氧核糖。
38.如权利要求26-28中任一项所述的工艺,其中R-NH2中–NH2基团的pKa为约7至约10、约7.5至约10、约8至约10、约8.5至约10、或约9至约10。
39.如权利要求38所述的工艺,其中R-NH2中–NH2基团的pKa为约7.4至约10。
40.如权利要求1-39中任一项所述的工艺,其中用于制备式(I)化合物的氰离子由氰化钾或氰化钠的氰化物源提供。
41.如权利要求1-40中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NH2之间的反应在温和碱性条件下发生。
42.如权利要求41所述的工艺,其中所述温和碱性条件的pH为约7.5至约10。
43.如权利要求1-42中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NH2之间的反应在溶剂中发生,所述溶剂为水混溶性溶剂和缓冲液的混合物。
44.如权利要求40所述的工艺,其中所述溶剂为甲醇和硼酸盐缓冲液的混合物,乙醇和硼酸盐缓冲液的混合物,甲醇和磷酸盐缓冲液的混合物,或乙醇和磷酸盐缓冲液的混合物。
45.如权利要求1-44中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NH2之间的反应在约
1小时内达到至少70%的产率。
46.制备式(II)化合物的工艺:
包括使式(III)化合物:
与R-NHNH2化合物反应,
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为直接或通过连接子连接到固体载体上的部分;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰b
基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个R取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
47.如权利要求46所述的工艺,其中X为CRa。
48.如权利要求46所述的工艺,其中X为N。
49.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
50.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基、芳基或杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
51.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基。
52.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的芳基。
53.如权利要求52所述的工艺,其中R为任选地取代的苯基。
54.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的5元或6元的单环杂芳基。
55.如权利要求54所述的工艺,其中R为任选地取代的嘧啶基。
56.如权利要求54所述的工艺,其中R为任选地取代的三嗪基。
57.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的9元或10元的二环稠合杂芳基。
58.如权利要求57所述的工艺,其中R为任选地取代的嘌呤基。
59.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的氨基羰基(NH-C=O),其直接或通过连接子连接到固体载体上。
60.如权利要求59所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基氨基羰基(烷基-NH-C=O),或为C2-6烷基-NHC(O)-或为丙基-NHC(O)-,其各自直接或通过连接子连接到固体载体上。
61.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R-NHNH2化合物连接到固体载体上,并与所述固体载体一起包含具有下述结构之一的化合物或其互变异构体:
其中[SS]表示固体载体并且链部分是核酸分子。
62.如权利要求61所述的工艺,其中所述核酸分子为DNA。
63.如权利要求46-62中任一项所述的工艺,其中所述固体载体为以下一种或多种:玻璃、改性或官能化的玻璃、塑料、多糖、尼龙、硝化纤维素、树脂、二氧化硅、硅、改性硅、碳、金属、无机玻璃和光纤束。
64.如权利要求46-62中任一项所述的工艺,其中所述固体载体为珠粒。
65.如权利要求64所述的工艺,其中所述珠粒为以下一种或多种:球形二氧化硅珠、无机纳米颗粒、磁性纳米颗粒、镉基点和无镉点。
66.制备式(II)化合物的工艺:
包括使式(III)化合物:
与R-NHNH2化合物反应,
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为任选地取代的芳基或杂芳基;
a
R的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
67.如权利要求66所述的工艺,其中X为CRa。
68.如权利要求66所述的工艺,其中X为N。
69.如权利要求66-68中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的芳基。
70.如权利要求69所述的工艺,其中R为任选地取代的苯基。
71.如权利要求66-68中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的5元或6元的单环杂芳基。
72.如权利要求71所述的工艺,其中R为任选地取代的嘧啶基。
73.如权利要求71所述的工艺,其中R为任选地取代的三嗪基。
74.如权利要求66-68中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的9元或10元的二环稠合杂芳基。
75.如权利要求74所述的工艺,其中R为任选地取代的嘌呤基。
76.如权利要求66-68中任一项所述的工艺,其中R-NHNH2化合物为任选地取代的三嗪,或为4,6-二肼基-N-(3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基)-1,3,5-三嗪-2-胺或N-(2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基)氨基甲酰肼。
77.如权利要求46-76中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NHNH2之间的反应在温和碱性条件下发生。
78.如权利要求77所述的工艺,其中所述温和碱性条件的pH为约9至约10。
79.如权利要求46-78中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NHNH2之间的反应在溶剂中发生,所述溶剂为水混溶性溶剂和缓冲液的混合物。
80.如权利要求79所述的工艺,其中所述溶剂为甲醇和硼酸盐缓冲液的混合物,或乙醇和硼酸盐缓冲液的混合物。
81.如权利要求46-80中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NHNH2之间的反应在约1小时内达到至少70%的产率。
82.分析R-NH2化合物的方法,包括以下步骤:
(i)在氰离子存在下,使含有R-NH2化合物的样品与式(III)化合物反应:
以形成式(I)化合物:
以及(ii)检测并测量式(I)化合物的荧光;
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为直接或通过连接子连接到固体载体上的部分;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
83.分析R-NH2化合物的方法,包括以下步骤:
(i)在氰离子存在下,使含有R-NH2化合物的样品与式(III)化合物反应:
以形成式(I)化合物:
以及(ii)检测并测量式(I)化合物的荧光;
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
3 b
R为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个R取代;
R为任选地取代的杂芳基;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰b
基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个R取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
84.如权利要求83所述的方法,其中R不是2-吡啶基或3-吡啶基。
85.分析R-NHNH2化合物的方法,包括以下步骤:
(i)使含有R-NHNH2化合物的样品与式(III)化合物反应:
以形成式(II)化合物:
(ii)任选地将pH调至适当值;以及
(iii)检测并测量式(I)化合物的荧光;
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为直接或通过连接子连接到固体载体上的部分;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰b
基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个R取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
86.分析R-NHNH2化合物的方法,包括以下步骤:
(i)使含有R-NHNH2化合物的样品与式(III)化合物反应:
以形成式(II)化合物:
(ii)任选地将pH调至适当值;以及
(iii)检测并测量式(I)化合物的荧光;
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为任选地取代的芳基或杂芳基;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰b
基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个R取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及b
R的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
87.如权利要求85或86所述的方法,其中步骤(ii)中的适当pH值为约1至约4。
88.珠粒生产的质量控制方法,包括:
(a)提供含有–NH2基团的材料;
(b)任选地,通过在氰离子存在下使所述材料中的–NH2基团与本文提供的式(III)化合物反应以形成本文提供的式(I)化合物,以及检测并测量式(I)化合物的荧光,从而测定所述材料中–NH2基团的密度;
(c)使–NH2基团与 反应以提供 基团;
(d)任选地,通过重复步骤(b)测定所述材料中–NH2基团的剩余量;
(e)使 基团与肼反应以提供 基团;以及
(f)任选地,通过使–NHNH2基团与本文提供的式(III)化合物反应以形成本文提供的式(II)化合物,任选地调节pH至适当值,以及检测并测量式(II)化合物的荧光,从而测定所述材料中–NHNH2基团的密度。
89.如权利要求88所述的方法,还包括:
(g)使 基团与含醛的DNA反应以提供 基团;以
及
(h)任选地,通过重复步骤(f),测定所述材料中–NHNH2基团的剩余量。
90.如权利要求1-25、46-65、82、85和87-89中任一项所述的工艺或方法,其中R-NH2通过连接子连接到固体载体上。
91.如权利要求90所述的工艺或方法,其中所述连接子包含一种或多种选自以下的官能团:烷基、杂烷基(例如聚乙二醇)、肽、硅烷、烷氧基硅烷和其它合适的连接子基团。
92.如权利要求91所述的工艺或方法,其中所述连接子为-OSi(OZ)2-或-OSi(OZ)2-烷基-(NH)0-1,其中Z如上文所定义。
93.如权利要求92所述的工艺或方法,其中所述连接子为–OSi(OZ)2-丙基-或–OSi(OZ)2-丙基-NH-。
94.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成任选地被一个或多个Ra1取代的单环或多环的芳基或杂芳基环。
1 2
95.如权利要求94所述的工艺或方法,其中R 和R与它们所连接的碳原子一起形成任选地被一个或多个Ra1取代的单环的芳基环。
96.如权利要求95所述的工艺或方法,其中R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成任选地取代的苯环。
1 2
97.如权利要求94所述的工艺或方法,其中R 和R与它们所连接的碳原子一起形成任选地取代的单环杂芳基环。
98.如权利要求94所述的工艺或方法,其中R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成任选地取代的二环稠合的芳基环。
99.如权利要求98所述的工艺或方法,其中R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成任选地取代的萘基环。
100.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R1和R2各自为Ra。
101.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中R3为氢、烷基、芳基或杂芳基。
102.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R3为氢。
103.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R3为烷基。
104.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R3为苯基。
105.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中Ra的每一处独立地为氢、卤素、氰基、烷基、羟基或烷氧基。
106.如权利要求105所述的方法,其中Ra的每一处为氢。
107.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰胺基、羧基、酰基、酰氧基或烷氧羰基。
a1
108.如权利要求107所述的工艺或方法,其中R 的每一处独立地为卤素、烷基、羟基、烷氧基、氰基、酰胺基、羧基、酰基、酰氧基或烷氧羰基。
109.如权利要求108所述的工艺或方法,其中Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、羟基、烷氧基或氰基。
b
110.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R 的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰胺基、羧基、酰基、酰氧基或烷氧羰基。
111.如权利要求110所述的工艺或方法,其中Rb的每一处独立地为卤素、烷基、羟基、烷氧基、氰基、酰胺基、羧基、酰基、酰氧基或烷氧羰基。
112.如权利要求111所述的工艺或方法,其中Rb的每一处独立地为卤素、烷基、羟基、烷氧基、羧基或氰基。
113.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中所述式(III)化合物为:
114.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中所述式(III)化合物为:
其中n为0、1、2、3或4;并且m为0、1、2、3或4。
115.如权利要求114所述的工艺,其中所述式(III)化合物为:
116.如权利要求115所述的工艺或方法,其中所述式(III)化合物为:
117.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R-NH2连接到固体载体上,并且与所述固体载体和任选的连接子一起包含:[SS]-OSi(OZ)2-烷基-NH2,其中[SS]为固体载体,并且每个Z为相邻固体载体所连接基团的烷基、H或硅原子。
118.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R-NHNH2连接到固体载体上,并且与所述固体载体和任选的连接子一起包含:[SS]-OSi(OZ)2-烷基-NHC(O)NHNH2,其中[SS]为固体载体,并且每个Z为相邻固体载体所连接基团的烷基、H或硅原子。
1.制备式(I)化合物的工艺:
包括使式(III)化合物:
在氰离子存在下与R-NH2化合物反应,
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为直接或通过连接子连接到固体载体上的部分;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及b
R的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰胺基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧基羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
a
2.如权利要求1所述的工艺,其中X为CR。
3.如权利要求1所述的工艺,其中X为N。
4.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
5.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基、芳基或杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
6.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
7.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
8.如权利要求7所述的工艺,其中R为任选地取代的苯基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
9.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的5元或6元的单环杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
10.如权利要求9所述的工艺,其中R为任选地取代的嘧啶基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
11.如权利要求9所述的工艺,其中R为任选地取代的三嗪基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
12.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的9元或10元的二环稠合杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
13.如权利要求12所述的工艺,其中R为任选地取代的嘌呤基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
14.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R-NH2为任选地取代的核碱基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
15.如权利要求14所述的工艺,其中所述核碱基为胞嘧啶、鸟嘌呤、腺嘌呤、胸腺嘧啶、
7-甲基鸟嘌呤、7-甲基鸟苷、5-甲基胞嘧啶、5-羟甲基胞嘧啶或5-甲基胞苷,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
16.如权利要求14或15所述的工艺,其中所述核碱基连接至糖部分,所述糖部分进一步直接或通过连接子连接到固体载体上。
17.如权利要求16所述的工艺,其中所述糖部分为核糖或2-脱氧核糖。
18.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R-NH2中–NH2基团的pKa为约7至约10、约
7.5至约10、约8至约10、约8.5至约10、或约9至约10。
19.如权利要求18所述的工艺,其中R-NH2中–NH2基团的pKa为约7.4至约10。
20.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中R为凝胶或连接至凝胶的连接子。
21.如权利要求20所述的工艺,其中所述凝胶为水凝胶。
22.如权利要求1-3中任一项所述的工艺,其中所述R-NH2化合物连接到固体载体上,并与所述固体载体一起包含具有下述结构之一的化合物:
其中[SS]表示固体载体。
23.如权利要求1-22中任一项所述的工艺,其中所述固体载体为以下一种或多种:玻璃、改性或官能化的玻璃、塑料、多糖、尼龙、硝化纤维素、树脂、二氧化硅、硅、改性硅、碳、金属、无机玻璃和光纤束。
24.如权利要求1-22中任一项所述的工艺,其中所述固体载体为珠粒。
25.如权利要求24所述的工艺,其中所述珠粒为以下一种或多种:球形二氧化硅珠、无机纳米颗粒、磁性纳米颗粒、镉基点和无镉点。
26.制备式(I)化合物的工艺:
包括使式(III)化合物:
在氰离子存在下与R-NH2化合物反应,
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为任选地取代的杂芳基;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代;
条件为R不是2-吡啶基或3-吡啶基。
27.如权利要求26所述的工艺,其中X为CRa。
28.如权利要求26所述的工艺,其中X为N。
29.如权利要求26-28中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的5元或6元的单环杂芳基。
30.如权利要求29所述的工艺,其中R为任选地取代的嘧啶基。
31.如权利要求29所述的工艺,其中R为任选地取代的三嗪基。
32.如权利要求26-28中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的9元或10元的二环稠合杂芳基。
33.如权利要求32所述的工艺,其中R为任选地取代的嘌呤基。
34.如权利要求26-28中任一项所述的工艺,其中R-NH2为任选地取代的核碱基。
35.如权利要求34所述的工艺,其中所述核碱基为胞嘧啶、鸟嘌呤、腺嘌呤、7-甲基鸟嘌呤、7-甲基鸟苷、5-甲基胞嘧啶、5-羟甲基胞嘧啶或5-甲基胞苷。
36.如权利要求34或35所述的工艺,其中所述核碱基连接至糖部分。
37.如权利要求36所述的工艺,其中所述糖部分为核糖或2-脱氧核糖。
38.如权利要求26-28中任一项所述的工艺,其中R-NH2中–NH2基团的pKa为约7至约10、约7.5至约10、约8至约10、约8.5至约10、或约9至约10。
39.如权利要求38所述的工艺,其中R-NH2中–NH2基团的pKa为约7.4至约10。
40.如权利要求1-39中任一项所述的工艺,其中用于制备式(I)化合物的氰离子由氰化钾或氰化钠的氰化物源提供。
41.如权利要求1-40中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NH2之间的反应在温和碱性条件下发生。
42.如权利要求41所述的工艺,其中所述温和碱性条件的pH为约7.5至约10。
43.如权利要求1-42中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NH2之间的反应在溶剂中发生,所述溶剂为水混溶性溶剂和缓冲液的混合物。
44.如权利要求40所述的工艺,其中所述溶剂为甲醇和硼酸盐缓冲液的混合物,乙醇和硼酸盐缓冲液的混合物,甲醇和磷酸盐缓冲液的混合物,或乙醇和磷酸盐缓冲液的混合物。
45.如权利要求1-44中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NH2之间的反应在约
1小时内达到至少70%的产率。
46.制备式(II)化合物的工艺:
包括使式(III)化合物:
与R-NHNH2化合物反应,
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为直接或通过连接子连接到固体载体上的部分;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰b
基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个R取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
47.如权利要求46所述的工艺,其中X为CRa。
48.如权利要求46所述的工艺,其中X为N。
49.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
50.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基、芳基或杂芳基,其直接或通过连接子连接到固体载体上。
51.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基。
52.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的芳基。
53.如权利要求52所述的工艺,其中R为任选地取代的苯基。
54.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的5元或6元的单环杂芳基。
55.如权利要求54所述的工艺,其中R为任选地取代的嘧啶基。
56.如权利要求54所述的工艺,其中R为任选地取代的三嗪基。
57.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的9元或10元的二环稠合杂芳基。
58.如权利要求57所述的工艺,其中R为任选地取代的嘌呤基。
59.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的氨基羰基(NH-C=O),其直接或通过连接子连接到固体载体上。
60.如权利要求59所述的工艺,其中R为任选地取代的烷基氨基羰基(烷基-NH-C=O),或为C2-6烷基-NHC(O)-或为丙基-NHC(O)-,其各自直接或通过连接子连接到固体载体上。
61.如权利要求46-48中任一项所述的工艺,其中R-NHNH2化合物连接到固体载体上,并与所述固体载体一起包含具有下述结构之一的化合物或其互变异构体:
其中[SS]表示固体载体并且链部分是核酸分子。
62.如权利要求61所述的工艺,其中所述核酸分子为DNA。
63.如权利要求46-62中任一项所述的工艺,其中所述固体载体为以下一种或多种:玻璃、改性或官能化的玻璃、塑料、多糖、尼龙、硝化纤维素、树脂、二氧化硅、硅、改性硅、碳、金属、无机玻璃和光纤束。
64.如权利要求46-62中任一项所述的工艺,其中所述固体载体为珠粒。
65.如权利要求64所述的工艺,其中所述珠粒为以下一种或多种:球形二氧化硅珠、无机纳米颗粒、磁性纳米颗粒、镉基点和无镉点。
66.制备式(II)化合物的工艺:
包括使式(III)化合物:
与R-NHNH2化合物反应,
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为任选地取代的芳基或杂芳基;
a
R的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
67.如权利要求66所述的工艺,其中X为CRa。
68.如权利要求66所述的工艺,其中X为N。
69.如权利要求66-68中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的芳基。
70.如权利要求69所述的工艺,其中R为任选地取代的苯基。
71.如权利要求66-68中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的5元或6元的单环杂芳基。
72.如权利要求71所述的工艺,其中R为任选地取代的嘧啶基。
73.如权利要求71所述的工艺,其中R为任选地取代的三嗪基。
74.如权利要求66-68中任一项所述的工艺,其中R为任选地取代的9元或10元的二环稠合杂芳基。
75.如权利要求74所述的工艺,其中R为任选地取代的嘌呤基。
76.如权利要求66-68中任一项所述的工艺,其中R-NHNH2化合物为任选地取代的三嗪,或为4,6-二肼基-N-(3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基)-1,3,5-三嗪-2-胺或N-(2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基)氨基甲酰肼。
77.如权利要求46-76中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NHNH2之间的反应在温和碱性条件下发生。
78.如权利要求77所述的工艺,其中所述温和碱性条件的pH为约9至约10。
79.如权利要求46-78中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NHNH2之间的反应在溶剂中发生,所述溶剂为水混溶性溶剂和缓冲液的混合物。
80.如权利要求79所述的工艺,其中所述溶剂为甲醇和硼酸盐缓冲液的混合物,或乙醇和硼酸盐缓冲液的混合物。
81.如权利要求46-80中任一项所述的工艺,其中式(III)化合物和R-NHNH2之间的反应在约1小时内达到至少70%的产率。
82.分析R-NH2化合物的方法,包括以下步骤:
(i)在氰离子存在下,使含有R-NH2化合物的样品与式(III)化合物反应:
以形成式(I)化合物:
以及(ii)检测并测量式(I)化合物的荧光;
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为直接或通过连接子连接到固体载体上的部分;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
83.分析R-NH2化合物的方法,包括以下步骤:
(i)在氰离子存在下,使含有R-NH2化合物的样品与式(III)化合物反应:
以形成式(I)化合物:
以及(ii)检测并测量式(I)化合物的荧光;
其中:
a
X为CR或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为任选地取代的杂芳基;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
a1
R 的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
84.如权利要求83所述的方法,其中R不是2-吡啶基或3-吡啶基。
85.分析R-NHNH2化合物的方法,包括以下步骤:
(i)使含有R-NHNH2化合物的样品与式(III)化合物反应:
以形成式(II)化合物:
(ii)任选地将pH调至适当值;以及
(iii)检测并测量式(I)化合物的荧光;
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为直接或通过连接子连接到固体载体上的部分;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰b
基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个R取代;以及Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
86.分析R-NHNH2化合物的方法,包括以下步骤:
(i)使含有R-NHNH2化合物的样品与式(III)化合物反应:
以形成式(II)化合物:
(ii)任选地将pH调至适当值;以及
(iii)检测并测量式(I)化合物的荧光;
其中:
X为CRa或N,
R1和R2为Ra;或R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成单环或多环稠合的芳基或杂芳基环,其任选地被一个或多个Ra1取代;
R3为氢、烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基;其各自任选地被一个或多个Rb取代;
R为任选地取代的芳基或杂芳基;
Ra的每一处独立地为氢、卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰b
基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个R取代;
Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个Rb取代;以及b
R的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰氨基、羧基、磺酰基、磺酰氨基、酰基、酰氧基、烷氧羰基或磷酸根;其各自任选地被一个或多个卤素、烷基或烷氧基取代。
87.如权利要求85或86所述的方法,其中步骤(ii)中的适当pH值为约1至约4。
88.珠粒生产的质量控制方法,包括:
(a)提供含有–NH2基团的材料,其中所述–NH2通过连接子连接到固体载体;
(b)任选地,通过在氰离子存在下使所述材料的一部分中的–NH2基团与本文提供的式(III)化合物反应以形成本文提供的式(I)化合物,以及检测并测量式(I)化合物的荧光,从而测定所述材料中–NH2基团的密度;
(c)使步骤(b)中未使用的材料中的–NH2基团与 反应以提供
基团;
(d)任选地,通过对来自步骤(c)中反应的材料的一部分重复步骤(b),测定步骤(c)中反应后所述材料中剩余–NH2基团的量;
(e)使步骤(d)中未使用的、来自步骤(c)的反应的材料中的 基团与肼反应
以提供 基团;以及
(f)任选地,通过使步骤(e)中产生的材料的一部分中的–NHNH2基团与本文提供的式(III)化合物反应以形成本文提供的式(II)化合物,任选地调节pH至适当值,以及检测并测量式(II)化合物的荧光,从而测定步骤(e)中产生的材料中–NHNH2基团的密度,其中实施步骤(b)、(d)和(f)中至少一个。
89.如权利要求88所述的方法,还包括:
(g)使 基团与含醛的DNA反应以提供 基团;以
及
(h)任选地,通过对步骤(g)中产生的材料的一部分重复步骤(f),测定所述材料中–NHNH2基团的剩余量。
90.如权利要求89所述的工艺或方法,其中所述连接子包含一种或多种选自以下的官能团:烷基、杂烷基(例如聚乙二醇)、肽、硅烷、烷氧基硅烷和其它合适的连接子基团。
91.如权利要求90所述的工艺或方法,其中所述连接子为-OSi(OZ)2-或-OSi(OZ)2-烷基-(NH)0-1,其中Z如上文所定义。
92.如权利要求91所述的工艺或方法,其中所述连接子为–OSi(OZ)2-丙基-或–OSi(OZ)2-丙基-NH-。
93.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成任选地被一个或多个Ra1取代的单环或多环的芳基或杂芳基环。
94.如权利要求93所述的工艺或方法,其中R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成任选地被一个或多个Ra1取代的单环的芳基环。
95.如权利要求94所述的工艺或方法,其中R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成任选地取代的苯环。
96.如权利要求93所述的工艺或方法,其中R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成任选地取代的单环杂芳基环。
97.如权利要求93所述的工艺或方法,其中R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成任选地取代的二环稠合的芳基环。
98.如权利要求97所述的工艺或方法,其中R1和R2与它们所连接的碳原子一起形成任选地取代的萘基环。
1 2 a
99.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R和R各自为R。
100.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中R3为氢、烷基、芳基或杂芳基。
101.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R3为氢。
102.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R3为烷基。
3
103.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R为苯基。
104.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中Ra的每一处独立地为氢、卤素、氰基、烷基、羟基或烷氧基。
105.如权利要求104所述的方法,其中Ra的每一处为氢。
a1
106.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R 的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰胺基、羧基、酰基、酰氧基或烷氧羰基。
107.如权利要求106所述的工艺或方法,其中Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、羟基、烷氧基、氰基、酰胺基、羧基、酰基、酰氧基或烷氧羰基。
108.如权利要求107所述的工艺或方法,其中Ra1的每一处独立地为卤素、烷基、羟基、烷氧基或氰基。
109.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中Rb的每一处独立地为卤素、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、羟基、烷氧基、环烷氧基、杂环氧基、芳氧基、杂芳氧基、氰基、硝基、氨基、酰胺基、羧基、酰基、酰氧基或烷氧羰基。
110.如权利要求109所述的工艺或方法,其中Rb的每一处独立地为卤素、烷基、羟基、烷氧基、氰基、酰胺基、羧基、酰基、酰氧基或烷氧羰基。
b
111.如权利要求110所述的工艺或方法,其中R的每一处独立地为卤素、烷基、羟基、烷氧基、羧基或氰基。
112.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中所述式(III)化合物为:
113.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中所述式(III)化合物为:
其中n为0、1、2、3或4;并且m为0、1、2、3或4。
114.如权利要求113所述的工艺,其中所述式(III)化合物为:
115.如权利要求114所述的工艺或方法,其中所述式(III)化合物为:
116.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R-NH2连接到固体载体上,并且与所述固体载体和任选的连接子一起包含:[SS]-OSi(OZ)2-烷基-NH2,其中[SS]为固体载体,并且每个Z为相邻固体载体所连接基团的烷基、H或硅原子。
117.如前述权利要求中任一项所述的工艺或方法,其中R-NHNH2连接到固体载体上,并且与所述固体载体和任选的连接子一起包含:[SS]-OSi(OZ)2-烷基-NHC(O)NHNH2,其中[SS]为固体载体,并且每个Z为相邻固体载体所连接基团的烷基、H或硅原子。
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