专利汇可以提供一种制备高纯石英砂的方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种制备高纯 石英 砂的方法,本方法采用石英砂为基本原料,通过对 块 状原料的 焙烧 、 水 碎去除砂粒表面和内部的矿异物以及再次焙烧、水碎去除石英砂中的某些可燃和可溶性杂质,最后通 过酸 浸去除绝大多数的矿异物,得到高纯石英砂,该方法生产的石英砂可用来生产多晶 硅 材料。,下面是一种制备高纯石英砂的方法专利的具体信息内容。
1、一种制备高纯石英砂的方法,其特征在于:所述制备方法包 括以下各步骤,
(1)粗选:将各类石英原矿中的明显的杂质和异物去除;
(2)破碎:采用专业破碎机将石英原矿破碎至粒径为1~20mm 的颗粒;
(3)焙烧:采用专业焙烧炉,将石英原矿颗粒在300~1500℃ 的条件下焙烧2~5小时;
(4)水碎:将被烧后的石英颗粒至于冷水中快速冷却,以达到 去除矿物内部的汽泡、水文以及一些包裹的杂质的目的,使矿物裂开;
(5)粉碎:采用湿磨或干磨将原料制成5-50μm的超细石英砂;
(6)高梯磁磁选:选用磁场强度为50~15000高斯的高梯磁磁 选选矿设备,取出原料本身和操作过程中引入的铁等单质以及具有弱 磁性的这些单质的化合物;
(7)分级:利用分级设备按标准将原料分成多种粒度范围产品, 在后续处理中,根据粒度范围均进行分别处理;
(8)焙烧:采用专业焙烧炉,将石英原矿颗粒在300~1500℃ 的条件下焙烧2~5小时;
(9)水碎:将被烧后的石英颗粒迅速置于热水中冷却,以更大 程度的溶去焙烧生成的易溶性物质,并通过对水加热,以增加该部分 可溶性物质在水中的溶解度;
(10)浮选:向水碎后的石英砂细粉加入浮选剂,将比重小于1 的杂质除去;
(11)去离子水洗:用去离子水洗去残余的浮选剂和石英表面的 杂质;
(12)干燥:先将去离子水洗后的石英砂进行风干或晾干,除去 大批量的水,然后再在特种干燥设备中进行干燥,并加热至100℃~ 200℃;
(13)酸浸:将干燥后的石英砂加入浸渍槽,在干燥高温的条件 下迅速加入酸浸所用的酸(硫酸、盐酸、硝酸或氢氟酸),酸的浓度 为5%~20%,在30~100℃的条件下恒温搅拌2~24小时,除去石 英砂细粉中的微量金属和非金属杂质;
(14)去离子水洗:将酸浸后的原料用去离子水洗去原料包含的 酸液等,直至呈中性;
(15)干燥及包装:用特种干燥设备将原料进行干燥,并在净化 车间内进行真空包装,得到最终产品;。
2、根据权利要求1所述的一种制备高纯石英砂的方法,其特征 在于:所述的两次水碎,第一次是焙烧取出后迅速放入冷水中,在 0.5~2小时内,达到石英砂和水的温度平衡。第二次是焙烧取出后迅 速放入室温热水中,然后加热至沸腾并保持0.5~2小时。
3、根据权利要求1所述的一种制备高纯石英砂的方法,其特征 在于:所述的酸浸是将不同目数的石英砂分开处理,分别放入不同的 反应釜,在1~2吨石英砂加入5%~20%酸液,恒温在60~90℃, 搅拌反应3~8小时。
4、根据权利要求3所述的一种制备高纯石英砂的方法,其特征 在于:所用到的酸为硫酸、盐酸、硝酸和氢氟酸中的一种或几种的混 合酸。
本发明涉及一种制备高纯石英砂的方法,具体地说是制备适用于 物理法生产多晶硅材料的石英砂的方法。
背景技术:
石英砂是制备多晶硅和单晶硅的基本原料,被大量的应用于半导 体技术、太阳能、航天等高科技领域。石英砂的纯度和元素含量直接 影响着所制备产品的好坏。目前,美国的尤尼明公司制备高纯石英砂 的水平较高,其杂质含量在20ppm以内,但是其工艺复杂,成本十 分昂贵。传统石英砂的制备工艺为:粗选→破碎→焙烧→水碎 →粉碎→除铁→酸浸泡→浮选等工序,最后制成80~100目的 产品。这种生产和提纯工艺较简单,不能有效去除石英的包裹杂质、 表面杂质以及生产过程中存在的一些杂质,使得纯度不高,特别是内 部对多晶硅有很大影响的硼和磷等,去除效果更差。
CN1562743A公开了一种“超纯石英砂的制取方法”,其方法是通 过粉碎筛分制备粗的硅砂;通过热酸浸洗除去表面杂质;通过冷爆炸 除去沙粒内部的气泡、裂痕;通过超声振动酸洗更好地除掉矿粒内部 异物。该专利的不足之处在于所用酸的浓度较高,并且反应时间较长, 并且用到腐蚀能力特别强的王水等,对设备有较强的腐蚀作用;另外 专利所涉及的条件如要采用超低温,很难达到;最主要的是该专利技 术不能除掉石英砂中的硼和磷,这两种元素在物理法提纯金属硅中又 是较难的,所以说达不到物理法制备多晶硅和单晶硅的要求。
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