专利汇可以提供浇注槽、出口砖和铸造铜阳极用的方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及一个浇注槽和浇注熔融金属在一个 铸造 模内的方法。由于浇注槽的设计和轨迹,达到由浇注槽至铸造模的一个均匀和迅速的浇注。浇注槽的出口包括一个弯曲的浇注边缘以及一个向下引导的弯曲的浇注表面。熔融金属的 质量 流率借助配合在浇注槽内的一个扼流元件控制。熔融金属的 动能 的方向和数量受到浇注槽的出口的设计以及浇注运动的适当选择的轨迹的影响。,下面是浇注槽、出口砖和铸造铜阳极用的方法专利的具体信息内容。
1.一种浇注槽,用于将金属浇注进一个铸造模,上述的浇注槽包 括一个底部,一个出口,侧壁和与出口相对的一个后壁,该浇注槽具 有一个浇注机构,该浇注机构带有至少一个重量传感器,用于精密地 供给金属进入铸造模,其特征在于,该出口具有一个浇注表面,它朝 着出口的浇注边缘方向加宽,并且相对于浇注槽底部的方向引导向下, 以及各侧壁基本上平行于熔体流。
2.按照权利要求1的浇注槽,其特征在于,顶着浇注槽底部和侧 壁,在出口和后壁之间配备一个扼流元件,用于减缓熔融金属的质量 流,该熔融金属由后壁和扼流元件之间的空间流动至出口。
3.按照权利要求2的浇注槽,其特征在于,扼流元件(12,22) 是排列在浇注槽的出口(15,25)和后壁(13,23)之间,从而使40-90% 的准备浇注入铸造模的金属能够供给在浇注槽的扼流元件(12,22) 和出口(15,25)之间的空间(11,21)内。
4.按照权利要求2的浇注槽,其特征在于,扼流元件(12,22) 是这样配置,使在铸造情况下,由扼流元件(12,22)限定的一个或 数个孔(19,51,52,53)完全地位于熔融金属的表面下面。
5.按照权利要求2的浇注槽,其特征在于,扼流元件(12,22) 是一个板形结构,它排列为与熔融金属的流动方向成直角,以及处于 相对于浇注槽底部(16,26)基本上竖直的位置。
6.按照权利要求2的浇注槽,其特征在于,扼流元件(12,22) 是在底部边缘凹陷的,在此种情况下,孔由扼流元件的缺口和浇注槽 的底部限定。
7.按照权利要求6的浇注槽,其特征在于,扼流元件缺口(19, 51,52,53)的高度为10-100mm。
8.按照权利要求6的浇注槽,其特征在于,扼流元件缺口(19, 51,52,53)的总面积在1,500-17,000mm2的范围内。
9.按照权利要求6的浇注槽,其特征在于,扼流元件缺口(19, 51,52,53)的宽度总和为扼流元件宽度的0.05-0.9倍。
10.按照权利要求2的浇注槽,其特征在于,扼流元件的高度是 这样选择的,使其从浇注槽底部延伸至少至浇注槽处于充填的位置时 的熔体表面水平。
11.按照权利要求1或2的浇注槽,其特征在于,当由上面观察 时,所述浇注边缘(18,45)是弯曲的。
12.按照权利要求1或2的浇注槽,其特征在于,所述浇注边缘 (18,45)是抛物线形状。
13.按照权利要求1或2的浇注槽,其特征在于,所述浇注边缘 (18,45)具有可变的曲率半径。
14.按照权利要求1或2的浇注槽,其特征在于,所述浇注边缘 (18,45)是一个圆的部分周边。
15.按照权利要求1或2的浇注槽,其特征在于,出口的浇注表 面(9,29,49)由基本上直线限定,该直线为从浇注边缘至浇注槽底 部,以及相对于浇注槽底部的浇注表面角度在12-55°范围内改变。
16.按照权利要求1或2的浇注槽,其特征在于,浇注表面是一 个锥形段。
17.按照权利要求1或2的浇注槽,其特征在于,浇注边缘(45) 的宽度(K)为铸造空腔宽度(A)的0.5-0.98倍。
18.按照权利要求17的浇注槽,其特征在于,浇注边缘(45)的 宽度(K)为铸造空腔宽度(A)的0.6-0.7倍。
19.按照权利要求1或2的浇注槽,其特征在于,出口是由一个 出口砖(40)形成的,它能够单独地制造并配合在浇注槽内。
20.按照权利要求19的浇注槽,其特征在于,出口砖(40)是用 一种耐火材料在一个模具中铸造而成。
21.按照权利要求20的浇注槽,其特征在于,出口砖(40)是用 制砖材料或铸铁制成。
22.按照权利要求19的浇注槽,其特征在于,出口砖(40)包括 一个底部元件(41),其被排列为平行于浇注槽底部,一个浇注表面 (49),该浇注表面(49)是由底部元件(41)弯曲向下并朝向浇注边 缘(45)加宽,以及侧壁(42,43),该侧壁(42,43)相对于底部元 件(41)基本上是竖直的。
23.按照权利要求22的出口砖,其特征在于,浇注边缘(45)具 有一个曲率半径(r),它与铸造空腔的宽度(A)成正比。
24.按照权利要求23的出口砖,其特征在于,所述曲率半径(r) 为铸造空腔的宽度(A)的0.2-6倍。
25.按照权利要求22的出口砖,其特征在于,浇注表面(49)相 对于出口砖底部元件(41)的倾斜角度(ε)为12-55°。
26.按照权利要求22的出口砖,其特征在于,出口砖(40)的最 狭窄宽度(C)为铸造模空腔的宽度(A)的0.3-0.8倍。
27.一种铸造金属阳极的方法,其中熔融金属浇注入一个平坦的 浇注槽;从此浇注槽熔融金属浇注入一个铸造模,熔融金属由浇注槽 至铸造模的质量流率受控制,以便达到一个均匀的铸造表面,以及铸 造目标的重量借助设置为与浇注槽相关的一个或数个重量传感器控 制,其特征在于,在浇注步骤的开始时,当至少40%的准备铸造的熔 融金属浇注入铸造模时,由浇注槽至铸造模的熔融金属的质量流率是 较高的,以及在浇注步骤结束时,由浇注槽至铸造模的熔融金属的质 量流率是借助配合在浇注槽内的扼流元件控制的,其中,所述浇注槽 包括一个出口,该出口具有一个浇注表面,该浇注表面朝着出口的浇 注边缘方向加宽,并且相对于浇注槽底部的方向引导向下。
28.按照权利要求27的方法,其特征在于,当至少70-80%的准 备铸造的熔融金属浇注入铸造模时,由浇注槽至铸造模的熔融金属的 质量流率是较高的。
29.按照权利要求27的方法,其特征在于,在浇注步骤的开始时, 质量流率是借助浇注槽的轨迹控制的。
30.按照权利要求27的方法,其特征在于,在浇注步骤的结束时, 质量流率是借助浇注槽的轨迹和浇注槽的扼流元件两者控制的。
31.一种配合在一个金属铸造模内的出口砖,其特征在于,该出 口砖包括一个浇注表面(49),它是由铸造模底部元件弯曲向下的,以 及朝向浇注边缘(18,45)加宽;以及侧壁(42,43),它们相对于底 部元件基本上是竖直的。
32.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,浇注边缘(45)具 有一个曲率半径(r),它与铸造模空腔的宽度(A)成正比。
33.按照权利要求32的出口砖,其特征在于,所述曲率半径(r) 为铸造模空腔的宽度(A)的0.2-6倍。
34.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,浇注表面(49)相 对于出口砖底部元件(41)的倾斜角度(ε)为12-55°。
35.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,出口砖(40)的最 狭窄宽度(C)为铸造模空腔的宽度(A)的0.3-0.95倍。
36.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,当由上面观察时, 浇注边缘(18,45)是弯曲的。
37.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,所述浇注边缘(18, 45)是抛物线形状。
38.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,所述浇注边缘(18, 45)具有可变的曲率半径。
39.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,当由上面观察时, 浇注边缘(18,45)形成一个圆的部分周边。
40.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,开口的浇注表面(9, 29,49)由从浇注边缘至浇注槽底部绘制的基本上直线所限定,以及 浇注表面相对于浇注槽底部的角度在12-55°范围内改变。
41.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,出口的浇注表面(9, 29,49)是一个锥形段。
42.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,出口是由一个出口 砖(40)形成的,它能够单独地制造和配合在浇注槽内。
43.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,出口砖是用一种耐 火材料在一个模具中铸造而成。
44.按照权利要求43的出口砖,其特征在于,出口砖是用制砖材 料或铸铁制成。
45.按照权利要求31的出口砖,其特征在于,浇注边缘(45)的 宽度(K)为铸造模空腔的宽度(A)的0.5-0.98倍。
46.按照权利要求45的出口砖,其特征在于,浇注边缘(45)的 宽度(K)为铸造模空腔的宽度(A)的0.6-0.7倍。
本发明涉及浇注熔融材料,比如熔融金属进入一个铸造模用的一 种方法和设备。更准确地说,本发明涉及在电解精制中使用的铸造阳 极用的方法和设备。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
---|---|---|
金属铸造和轧制线 | 2020-05-14 | 893 |
一种金属铸造用浇包 | 2020-05-14 | 501 |
金属铸造用结晶器 | 2020-05-14 | 925 |
金属铸造用模具 | 2020-05-11 | 513 |
金属铸造 | 2020-05-11 | 361 |
一种低压金属铸造模具 | 2020-05-12 | 524 |
一种低压金属铸造模具 | 2020-05-12 | 409 |
金属铸造构件以及用于制造金属铸造构件的方法 | 2020-05-15 | 513 |
金属铸造模具 | 2020-05-16 | 857 |
金属铸造模具 | 2020-05-16 | 188 |
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。