专利汇可以提供制备微流体器件的方法和微流体器件专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及制备具有流路的微 流体 器件的方法,所述微流体器件任选包括一个或多个室,所述室例如为反应室。该方法包括如下步骤:(i)提供具有第一表面的底 基板 和具有第二表面的顶基板,所述基板例如为 聚合物 材料,(ii)对所述第一和所述第二表面中的至少一个进行亲 水 处理 以给表 面层 提供比在进行所述亲水处理前的表面张 力 更高的表面 张力 ,例如约60mN/m或更高,(iii)例如利用激光,部分或全部除去在经亲水处理的第一和/或第二表面的选择的图案中的具有较高表面张力的表面层,以从而给所述选择的图案提供比在部分或全部除去在所述经亲水处理的第一和/或第二表面的选择的图案中的具有较高表面张力的表面层之前的表面张力更低的表面张力,和(iv)将所述底基板和顶基板彼此连结以提供在所述第一和第二表面之间的流路。所述选择的图案可被成形具有多种形状以获得所述流路需要的亲水/疏水特性,例如以一个或多个区段具有至少一个尺度为小于25μm的形式的微观图案、微圆点图案、以一个或多个例如全部或部分延伸跨过所述流路的直线或环绕线形式的图案。本发明还涉及通过该方法获得的微流体器件。,下面是制备微流体器件的方法和微流体器件专利的具体信息内容。
1.制备具有至少一个流路的微流体器件的方法,所述方法包括如 下步骤:
i.提供具有第一表面的底基板和具有第二表面的顶基板,
ii.对所述第一表面和第二表面中的至少一个进行亲水处理以给 表面层提供比进行所述亲水处理前的表面张力更高的表面张力,
iii.部分或全部除去在经亲水处理的第一和/或第二表面的选择的 图案中的具有较高表面张力的表面层,从而给所述选择的图案提供比 在部分或全部除去在所述经亲水处理的第一和/或第二表面的选择的图 案中的具有较高表面张力的表面层之前的表面张力更低的表面张力, 和
iv.将所述底基板和顶基板彼此连结以提供在所述第一表面和第 二表面间的流路。
2.如权利要求1中所述的方法,其中所述的底基板为包括底腔的 底盒,所述第一表面优选包括所述底腔的表面,并且所述亲水处理包 括所述第一表面的亲水处理。
3.如权利要求2中所述的方法,其中所述底腔包括底部表面和一 个或多个边缘表面,所述底腔在所述底盒中形成至少一个通道。
4.如权利要求2和3中任一项所述的方法,其中所述的底腔在所 述底盒中形成一个或多个通道部分,和一个或多个室,所述一个或多 个通道部分和一个或多个室优选彼此流体连接。
5.如权利要求2-4中任一项所述的方法,其中所述的底腔包含一 个或多个具有边缘表面的边缘部分,所述一个或多个边缘部分包括结 构性边缘微结构,所述微结构优选为一个或多个结构性形状间隙、凸 出和凹陷的形式,其中所述边缘微结构优选具有比所述底盒的腔基本 上更小的尺度。
6.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的顶基板为盖 的形式,所述第二表面任选经历亲水处理。
7.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中进行将所述的底基 板和顶基板彼此连结以提供在所述第一表面和第二表面之间的流路的 步骤,使得在沿着至少一条流路的所述第一表面和第二表面之间的距 离为毛细尺度,该毛细尺度优选在1μm-1000μm,例如25μm-250μm, 例如50μm-100μm的范围。
8.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的流路为流动 通道的形式,所述流动通道具有由所述第一表面形成的底部和边缘以 及由所述第二表面形成的盖。
9.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的底基板和所 述的顶基板中的一个或多个由如下材料制成,所述材料选自玻璃、陶 瓷、金属、硅、例如塑料的聚合物,优选至少所述底基板为聚合物材 料,所述底基板优选利用注塑成形。
10.如权利要求9中所述的方法,其中所述底基板和所述顶基板 中的一个或多个由聚合物制成,优选所述底基板和所述顶基板中的一 个或多个由可注塑的聚合物制成,所述可注塑的聚合物例如为选自如 下的聚合物:丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、聚碳酸酯、聚二甲基硅氧 烷(PDMS)、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚甲基戊烯、 聚丙烯、聚苯乙烯、聚砜、聚四氟乙烯(PTEE)、聚氨酯、聚氯乙烯 (PVC)、聚偏二氟乙烯、尼龙、苯乙烯-丙烯酰基共聚物及其混合物。
11.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述基板的第一 表面和第二表面中的至少一个具有的在进行所述亲水处理前的表面张 力小于80,优选小于73,例如小于60,例如20至50mN/m,优选经 历所述亲水处理的基板的第一表面和第二表面中的至少一个具有的在 进行所述亲水处理前的初始表面张力小于80,优选小于73,例如小于 60,例如20至50mN/m。
12.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的亲水处理 给所述第一表面和所述第二表面中的至少一个提供大于60mN/m,优 选大于70mN/m,更优选大于85mN/m的表面张力。
13.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述亲水处理给 所述第一表面和所述第二表面中的至少一个提供比在进行所述亲水处 理之前的初始表面张力增加至少5mN/m,例如至少10mN/m,例如至 少15mN/m,例如至少20mN/m的表面张力。
14.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中部分或全部除去 在经亲水处理的第一和/或第二表面的选择的图案中的具有较高表面张 力的表面层的步骤给所述图案提供比在部分或全部除去所述表面层的 步骤之前的表面张力降低至少3mN/m,例如至少5mN/m,例如至少 10mN/m,例如至少15mN/m,例如至少20mN/m的表面张力。
15.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中部分或全部除去 在经亲水处理的第一和/或第二表面的选择的图案中的具有较高表面张 力的表面层的步骤给所述图案提供低于80mN/m,优选低于73mN/m, 例如低于60mN/m,例如20至50mN/m的表面张力。
16.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中部分或全部除去 在经亲水处理的第一和/或第二表面的选择的图案中的具有较高表面张 力的表面层的步骤给所述图案提供比在所述亲水处理之前的所述表面 的表面张力高25mN/m和低10mN/m的之间的表面张力。
17.如前述权利要求中任一项所述的方法,其与选择的液体样品 组合,其中所述基板的第一表面和第二表面中的至少一个具有的在进 行所述亲水处理以前的对所选择样品的接触角大于45度,例如大于50 度,例如大于60度,例如大于70度。
18.如前述权利要求中任一项所述的方法,其与选择的液体样品 组合,其中所述的亲水处理给所述第一表面和第二表面中的至少一个 提供对所选择样品的接触角为小于45度,优选小于30度,例如小于 20度,例如小于10度,例如小于5度。
19.如前述权利要求中任一项所述的方法,其与选择的液体样品 组合,其中部分或全部除去在经亲水处理的第一和/或第二表面的选择 的图案中的具有较高表面张力的表面层的步骤给所述图案提供对所选 择样品的接触角为大于45度,优选大于50度,例如大于60度,例如 大于70度,例如大于75度,例如大于90度。
20.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的亲水处理 通过对所述表面进行涂覆和/或对所述表面进行化学改性和/或对所述 表面进行物理改性而提供。
21.如权利要求20中所述的方法,其中所述的亲水处理通过对所 述表面进行化学改性而提供,化学改性优选包括用一种或多种如下处 理方法进行对所述表面的处理,所述处理方法选自气体等离子体处理、 电晕放电处理、UV/臭氧处理、火焰处理、例如利用氩气和/或氧气的 离子束处理和用氧化性化学品例如酸,例如铬酸的处理。
22.如权利要求20和21中任一项所述的方法,其中所述的亲水 处理通过施加涂层而提供,所述涂层优选利用一种或多种如下方法施 加,所述方法选自等离子体沉积、喷施、浸渍、印刷、真空沉积、化 学镀、涂漆、移接、固定法、水凝胶封装、和例如包括用高能粒子轰 击的离子注入法。
23.如权利要求20-22中任一项所述的方法,其中所述的亲水处理 包括用一种或多种如下组合物涂覆,所述组合物选自纤维素聚合物、 聚丙烯酰胺、聚二甲基丙烯酰胺、基于丙烯酰胺的共聚物、聚乙烯醇、 聚乙烯基吡咯烷酮、聚环氧乙烷、PluronicTM聚合物或聚-N-羟乙基丙烯 酰胺、聚亚胺、聚唑啉、TweenTM(脱水山梨醇酯的聚氧乙烯衍生物)、 硅氧烷聚合物(例如硅氧烷,例如五硅氧烷和聚醚改性的硅氧烷)、 葡聚糖、糖类、羟乙基methacrylene、和indoleactic酸。
24.如权利要求20-23中任一项所述的方法,其中所述的亲水处理 包括利用等离子体沉积的涂覆,任选利用一种或多种如下单体,所述 单体选自甲基丙烯酸酐,丙烯酸,甲基丙烯酸,丙烯酸酐,4-戊酸酐, 丙烯醛,甲基丙烯醛,1,2-环氧-5-己烯,1-乙烯基-2-吡咯烷酮,1-乙烯 基-2-甲酰胺,R-唑啉(R是但不限于甲基、乙基),含乙二醇的前 体,如乙二醇、二甘醇、二甘醇二乙烯基醚、二甘醇二甲醚、三甘醇 二甲醚、四甘醇二甲醚,冠醚,例如12-冠-4醚、15-冠-5醚,甲基丙 烯酸缩水甘油基酯,乙腈,丙烯腈,烯丙胺,烯丙基硫醇有机硅组合 物,例如六甲基二硅氧烷和甲氧基三甲基硅烷;有机磷,例如亚磷酸 三甲酯和磷酸三甲酯;和有机硼,例如硼酸三甲酯和硼酸三乙酯。
25.如权利要求20-24中任一项所述的方法,其中所述的亲水处理 包括对所述表面的涂覆,涂覆厚度优选为小于1μm,例如5nm至50 nm 。
26.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的亲水处理 包括处理所述第一表面或第二表面的整个,优选所述亲水处理包括处 理至少所述第一表面的整个。
27.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中部分或全部除去 具有较高表面张力的表面层的步骤采用激光处理而实施,进行所述激 光处理优选采用的激光可提供在所述表面处足以除去(例如,消除) 所述具有较高表面张力的表面层的至少一部分的吸收能量密度。
28.如前述权利要求20和26-27中任一项所述的方法,其中所述 的亲水处理通过例如利用激光处理来增加所述表面的粗糙度而对所述 表面进行物理改性而提供,利用激光处理而部分或全部除去具有较高 表面张力的表面层的步骤包括将所述表面激光处理成至少部分软化或 甚至熔融所述表面从而降低所述表面的粗糙度的步骤。
29.如权利要求27和28中任一项所述的方法,其中所述激光为 CO2激光或紫外激光,优选UV受激准分子激光,任选在所述激光处理 过程中提供惰性气体流,例如氦气流。
30.如权利要求27-29中任一项所述的方法,其中所述的激光处理 包括用100至10000mJ/cm2的能量,例如200至2000mJ/cm2的能量, 例如250至1000mJ/cm2的能量处理在希望的图案中的表面。
31.如权利要求27-30中任一项所述的方法,其中所述的激光处理 利用掩模进行,所述掩模任选对应于所需要的图案或者所述掩模和基 板在所述激光处理过程中彼此相对移动从而提供所述选择的图案。
32.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中部分或全部除去 具有较高表面张力的表面层的步骤包括:除去在所述选择的图案中0.1 nm-10μm,优选0.1nm-500nm的层厚。
33.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的选择的图 案为包括一个或多个图案区段的微观图案,所述图案区段具有至少一 个尺度为小于250μm,优选小于200μm,例如小于150μm,例如小 于100μm,例如小于50μm,例如小于25μm,优选小于10μm,例如 小于5μm。
34.如权利要求33中所述的方法,其中所述的选择的图案为包含 多个具有尺度为高至30μm,例如高至25μm,例如高至20μm,例如 高至15μm,例如1至20μm的微圆点,所述微圆点的大部分(数量上 为50%或更高)优选具有到最近微圆点的最短距离为30μm或更小, 例如最大25μm,例如最大20μm。
35.如权利要求34所述的方法,其中所述单独的微圆点具有一种 或多种选自圆形、卵形或多边形,例如三角形、正方形、矩形、五边 形和六边形的形状,和其它欧几里德形状,所述单独的微圆点优选以 周期性图案应用。
36.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的选择的图 案全部或部分延伸跨过流路。
37.如权利要求36中所述的方法,其中所述的选择的图案包括从 所述流路的各边界线延伸出并延伸向彼此的障碍线对,在所述障碍线 对之间的距离优选小于所述流路的深度,例如小于所述流路深度的 50%,更优选在所述障碍线对之间的距离优选为在所述障碍线对所接触 的边界线处的边界线之间的路径的宽度的50%或更低,更优选在所述 障碍线对之间的距离优选为小于250μm,例如小于200μm,例如小于 150μm,例如小于100μm,例如小于50μm,例如小于25μm,优选 为小于10μm,例如小于5μm。
38.如权利要求37中所述的方法,其中所述的选择的图案包括多 个障碍线对,所述障碍线优选彼此之间以一定距离沿着流路被安排。
39.如权利要求37和38中任一项所述的方法,其中所述一个或 多个障碍线对,成对地基本平行,各障碍线对优选具有与所述流路的 边界线的角度为80至100度,更优选约90度。
40.如权利要求37和38中任一项所述的方法,其中所述一个或 多个障碍线对,成对地彼此间具有角度,各障碍线对优选具有与所述 流路的边界线的角度为45至135度,例如55至80、或100至125度。
41.如权利要求36中所述的方法,其中所述的选择的图案包括一 个或多个交错的流动线对,该流动线从所述流路的各边界线延伸出并 延伸向所述流路的各相对边界线,所述交错的流动线对彼此之间以一 定距离沿着所述流路被安排,所述距离优选为在流动方向中第一个所 述交错的流动线与所述边界线之一接触处的边界线之间的流路的宽度 的5至100%。
42.如权利要求41所述的方法,其中所述的选择的图案包含多个 交错的流动线对,所述交错的流动线优选彼此之间以一定距离沿着流 路被安排。
43.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的选择的图 案包括岛形区段,所述岛形区段优选通过全部或部分环绕流动阻碍线 而形成,所述岛的中心部分任选具有较高表面张力的表面层。
44.如权利要求43中所述的方法,其中在所述岛面向使用中的流 动前锋的那侧上,所述的阻碍线至少延伸跨过所述流路的50%或更多, 例如75%或更多,例如90%或更多,优选所述阻碍线在所述岛面向使 用中的流动前锋的那侧上,至少延伸跨过所述流路的足够的部分,使 得任选的开口小于所述流路的深度,在所述岛面向使用中的流动前锋 的那侧上,在所述流路的阻碍线中的任选的开口优选小于100μm,优 选小于50μm,例如25至100μm。
45.如权利要求44所述的方法,其中所述的阻碍线环绕所述岛至 少延伸跨过50%或更高,例如75%或更高,例如90%或更高,任选地, 在所述环绕的阻碍线中提供的一个或多个间隙优选各自小于100μm, 优选小于50μm,例如25至100μm。
46.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的选择的图 案形成单向阀,该选择的图案完全或部分延伸跨过流路以提供疏水障 碍,并被安排为具有一定的几何形状以在一个流动方向中提供毛细中 断。
47.如权利要求46所述的方法,其中所述的选择的图案形成单向 阀,该选择的图案被安排为具有一定几何形状,使得为克服从所述流 路的一侧的疏水障碍所需的力高于从所述流路的另一侧所需的力。
48.如权利要求46和47中任一项所述的方法,其中所述的选择 的图案被安排为具有完全跨过所述流路的几何形状,使得在所述流路 的边界线的一定距离处的跨过所述流路的宽度部分包括比跨过所述流 路的其余部分窄化的疏水障碍区段。
49.如权利要求48所述的方法,其中所述的选择的图案具有V形 前锋,优选将所述V形的开口端安排为面向沿着所述流路的液流前锋。
50.如权利要求48和49中任一项所述的方法,其中将所述的选 择的图案形成为具有一个或多个窄化的疏水障碍区段的带,所述疏水 障碍区段由在所述带状的一侧中的一个或多个V形刻痕提供。
51.如权利要求48-50中任一项所述的方法,其中所述V形具有 的在其腿之间的角度小于120度,优选小于100度,例如小于90度。
52.如权利要求46和47中任一项所述的方法,其中所述的选择 的图案被安排为具有部分跨过所述流路的几何形状,使得在所述流路 的边界线的一定距离处跨过所述流路的流路宽度部分没有所述的选择 的图案,所述流路宽度部分优选具有小于100μm,优选小于50μm, 例如25至100μm的宽度。
53.如权利要求52所述的方法,其中所述的选择的图案具有没有 尖端的V形前锋,在所述V形的腿之间提供没有所述图案的流路宽度 部分代替尖端,优选所述V形的开口端被安排为面向沿着所述流路的 液流前锋。
54.如权利要求52和53中任一项所述的方法,其中所述的选择 的图案被形成为间断的带,所述一个或多个间断由一个或多个没有所 述图案的流路宽度部分提供,形状为一个或多个贯穿所述带状的没有 尖端的V形交叉点。
55.如权利要求52-54中任一项所述的方法,其中所述的没有尖端 的V形具有的在其腿之间的角度小于120度,优选小于100度,例如 小于90度。
56.如权利要求46-55中任一项所述的方法,其中所述的全部或部 分跨过所述流路的选择的图案包括V形图案,所述V形任选是没有尖 端的,所述V形由障碍线提供,所述障碍线具有相等或变化的厚度, 例如更接近所述流路的边界线比更接近于在与沿着所述流路的两个边 界线相等距离处的沿着所述流路的中心线具有更宽的厚度。
57.如权利要求46-56中任一项所述的权利要求,其中所述的毛细 中断是完全中断或临时中断,所述临时中断优选提供至少1秒,例如 至少5秒,例如至少10秒,例如至少30秒,例如高至1分钟,例如 高至5分钟,例如高至10分钟的毛细中断。
58.如权利要求46-57中任一项所述的方法,其中所述的选择的图 案包括两个单向阀,所述单向阀彼此以一定距离位于流路中,在所述 两个单向阀之间的距离形成岛形区段,所述两个单向阀被安排为提供 在所述流路的两个方向中从所述岛形区段向外的毛细中断。
59.如权利要求44、45和58中任一项所述的方法,其还包括在 将所述底基板和所述顶基板彼此连结的步骤之前将试剂施加到所述岛 形区段上、和任选将其干燥的步骤。
60.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的选择的图 案形成一个或多个分割线,将流路分割成2个或更多个流路区段,该 选择的图案优选包括多个分割线,并从而包括多个流路区段。
61.如权利要求60的方法,其中各流路区段各自具有足以提供流 动延缓的低的宽度,该宽度优选为小于250μm,优选小于200μm,例 如小于150μm,例如小于100μm,例如小于50μm,例如小于25μm, 例如小于10μm。
62.如权利要求60和61中任一项所述的方法,其中各流路区段 具有的宽度小于在所述第一表面和所述第二表面之间的流路的高度。
63.如权利要求60至62中任一项所述的方法,其中在各流路区 段中的流路的第一表面和第二表面中的至少一个具有的表面张力大于 75mN/m,优选大于85mN/m。
64.如权利要求60-62中任一项所述的方法,其与选择的样品相结 合,其中在各流路区段中所述流路的第一表面和第二表面中的至少一 个具有与所述样品的接触角度为小于5度,优选约0度。
65.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述的选择的图 案形成完全中断的疏水障碍,该疏水障碍完全延伸跨过所述流路,所 述完全中断的疏水障碍优选被安排为邻近所述流路的出口。
66.如前述权利要求中任一项所述的方法,该方法还包括如下步 骤,该步骤为将所述第一表面和第二表面中的至少一个进行疏水处理 以给表面层提供比在所述疏水处理前的表面张力更低的表面张力。
67.如权利要求66所述的方法,其中在对所述第一表面和所述第 二表面中的至少一个进行亲水处理的步骤之前进行对所述第一表面和 所述第二表面中的至少一个进行疏水处理的步骤,经历了疏水处理的 一个或多个表面优选还经历所述亲水处理。
68.如权利要求66和67中任一项所述的方法,其中所述基板的 第一表面和所述第二表面中的至少一个在进行所述疏水处理之前具有 的表面张力高于30mN/m,优选高于35mN/m,例如37至80mN/m, 优选所述疏水处理直接在所述基板的本体材料上实施。
69.如权利要求66-68中任一项所述的方法,其中所述的疏水处理 给所述第一表面和所述第二表面中的至少一个提供小于50,优选小于 40,例如小于30,例如小于20mN/m的表面张力。
70.如权利要求66-69中任一项所述的方法,其中所述疏水处理给 所述第一表面和所述第二表面中的至少一个提供比在所述疏水处理之 前的表面张力降低至少5mN/m,例如至少10mN/m,例如至少15 mN/m,例如至少20mN/m的表面张力。
71.如权利要求66-70中任一项所述的方法,其中部分或全部除去 在经亲水处理的第一和/或第二表面的选择的图案中的具有较高表面张 力的表面层的步骤使由在所述选择的图案的至少一部分中进行的疏水 处理提供的疏水层暴露。
72.如在权利要求66-71中任一项所述的方法,其中部分或全部除 去在经亲水处理的第一和/或第二表面的选择的图案中的具有较高表面 张力的表面层的步骤还包括部分或完全除去由在所述的选择的图案中 进行的疏水处理提供的层。
73.如在权利要求66-72中任一项所述的方法,其中部分或全部除 去在经亲水处理的第一和/或第二表面的选择的图案中的具有较高表面 张力的表面层的步骤给所述选择的图案提供小于所述基板的本体材料 的表面张力的表面张力,优选所述的选择的图案具有两个或更多个彼 此之间表面张力不同的图案部分。
74.如权利要求66-73中任一项所述的方法,其中所述的疏水处理 通过涂覆所述表面和/或化学改性所述表面而提供。
75.如权利要求74所述的方法,其中所述的疏水处理通过施加涂 层而提供,所述涂层可优选利用一种或多种如下方法施加,所述方法 选自等离子体沉积、喷施、浸渍、印刷、真空沉积、化学镀、移接和 固定法、水凝胶封装。
76.如权利要求74-75中任一项所述的方法,其中所述的疏水处理 包括利用等离子体沉积的涂覆,任选利用一种或多种选自如下的单体, 所述单体选自酰卤,例如丙烯酰氯和甲基丙烯酰氯,碳氟化合物,例 如全氟烷烃、全氟烯烃,例如四氟乙烯和六氟丙烯,全氟环烷烃;烃, 例如烷烃和烯烃,例如乙烯、乙炔、丙烯、1-己烯;部分取代的烃,如 C2F2H2;或者1,2-环氧-3-苯氧基丙烷。
77.如权利要求74-76中任一项所述的方法,其中所述的疏水处理 包括涂覆所述表面,所述涂覆厚度优选高至1μm,例如25nm至500 nm。
78.制备具有至少一个流路的微流体器件的方法,所述方法包括 如下步骤:
i.提供具有第一表面的底基板和具有第二表面的顶基板,
ii.对所述第一表面和所述第二表面中的至少一个进行疏水处理 以给表面层提供比进行所述疏水处理之前的表面张力更低的表面张 力,
iii.部分或全部除去在经疏水处理的第一和/或第二表面的选择的 图案中的具有较低表面张力的表面层,从而给所述选择的图案提供比 部分或全部除去在经疏水处理的第一和/或第二表面的选择的图案中的 具有较低表面张力的表面层之前的表面张力更高的表面张力,和
iv.将所述底基板和顶基板互相连结以提供在所述第一表面和第 二表面之间的流路。
79.如权利要求78中所述的方法,其中在所述流路的第一表面和 第二表面中的至少一个上的具有较高表面张力的选择的图案具有沿着 所述流路被安排为给所述流路提供足以提供沿着所述流路流动的亲水 特性的形状。
80.可根据如权利要求1-79中任一项所述的方法获得的微流体器 件。
81.与液体样品组合的微流体器件,所述微流体器件为可根据如 权利要求1-79中任一项所述的方法获得。
82.根据权利要求80和81中任一项所述的微流体器件,其中所 述的选择的图案优选具有比周围表面的粗糙度更高的粗糙度。
83.如权利要求80-82中任一项所述的微流体器件,其中所述的选 择的图案为具有至少一个尺度为小于250μm,优选小于200μm,例如 小于150μm,例如小于100μm,例如小于50μm,例如小于25μm, 优选小于10μm,例如小于5μm的微观图案。
84.微流体器件,其具有至少一个流路和包括具有第一表面的底 基板和具有第二表面的顶基板,所述第一表面和所述第二表面彼此面 对,所述至少一个流路在所述第一表面和第二表面之间被提供,所述 表面中的至少一个包括亲水表面区域和疏水表面区域,其中所述疏水 表面区域具有比所述亲水表面区域更低的表面张力,所述疏水表面区 域在所述亲水表面区域中形成微观图案,所述微观图案包括具有至少 一个尺度为小于250μm,优选小于200μm,例如小于150μm,例如小 于100μm,例如小于50μm,例如小于25μm,优选小于10μm,例如 小于5μm的一个和多个图案区段。
85.如权利要求84中所述的微流体器件,其中所述的微观图案包 括多个具有尺度为高至30μm,例如高至25μm,例如高至20μm,例 如高至15μm,例如1至20μm的多个微圆点,所述微圆点的大部分(数 量上50%或更多)优选具有与最近的微圆点最短的距离为30μm或更 小,例如高至25μm,例如高至20μm,所述微观图案可以例如形成完 全延伸跨过所述流路的全中断疏水微圆点化的障碍,该全中断疏水微 圆点化的障碍优选位于邻近所述流路的出口。
86.如权利要求85所述的微流体器件,其中单独的微圆点具有一 种或多种选自圆形、卵形或多边形,例如三角形、正方形、矩形、五 边形和六边形的形状,所述单独的微圆点优选以周期性图案应用。
87.如权利要求84所述的微流体器件,其中所述的微观图案包括 一条或多条优选具有小于100μm,例如小于50μm,例如小于25μm, 优选小于10μm,例如小于5μm的宽度的线,所述一条或多条线优选 全部或部分延伸跨过所述流路。
88.任选根据权利要求87的微流体器件,其具有至少一个流路并 包含具有第一表面的底基板和具有第二表面的顶基板,所述第一表面 和所述第二表面彼此相对,所述至少一个流路在所述第一表面和第二 表面之间被提供,所述表面中的至少一个包括亲水表面区域和疏水表 面区域,其中所述疏水表面区域具有比所述亲水表面区域更低的表面 张力,所述疏水表面区域在所述亲水表面区域中形成图案,该图案包 括从所述流路的各边界线延伸出并延伸向彼此的障碍线对,在所述障 碍线对之间的距离优选小于所述流路的深度,例如小于所述流路深度 的50%,更优选在所述障碍线对之间的距离优选为在所述障碍线对与 所述边界线接触处的边界线之间的流路宽度的50%或更低,更优选在 所述障碍线对之间的距离优选为小于250μm,例如小于200μm,例如 小于150μm,例如小于100μm,例如小于50μm,例如小于25μm, 优选小于10μm,例如小于5μm。
89.如权利要求87中所述的微流体器件,其中所述的图案包括多 个障碍线对,所述障碍线优选彼此之间以一定距离沿着流路被安排。
90.如权利要求87和88中任一项所述的微流体器件,其中所述 一个或多个障碍线对,成对地基本平行,各障碍线对优选具有对所述 流路的边界线的角度为80至100度,更优选约90度。
91.如权利要求87和88中任一项所述的微流体器件,其中所述 一个或多个障碍线对,成对地彼此间具有一定角度,各障碍线对优选 具有对所述流路的边界线的角度为45至135度,例如55至80度或100 至125度。
92.任选根据权利要求87所述的微流体器件,其具有至少一个流 路并包括具有第一表面的底基板和具有第二表面的顶基板,所述第一 表面和所述第二表面彼此相对,所述至少一个流路在所述第一表面和 第二表面之间被提供,所述表面中的至少一个包括亲水表面区域和疏 水表面区域,其中所述疏水表面区域具有比所述亲水表面区域更低的 表面张力,所述疏水表面区域在所述亲水表面区域中形成图案,该图 案包括岛形区段,所述岛形区段优选通过全部或部分环绕流动阻碍线 而形成,所述岛形区段的中心部分任选具有所述较高表面张力的表面 层,任选所述装置包括施加到所述岛形区段的中心部分上的试剂。
93.如权利要求92所述的微流体器件,其中所述的阻碍线在所述 岛面向使用中的所述流动前锋的那侧上,至少延伸跨过所述流路的50% 或更多,例如75%或更多,例如90%或更多,优选所述阻碍线在所述 岛面向使用中的所述流动前锋的那侧上,至少延伸跨过所述流路的足 够部分,使得任选的开口小于所述流路的深度,在所述岛面向使用中 的流动前锋的那侧上,在所述流路的阻碍线中的任选的开口优选小于 100μm,优选小于50μm,例如25至100μm。
94.如权利要求93所述的微流体器件,其中所述阻碍线环绕所述 岛至少延伸跨过50%或更高,例如75%或更高,例如90%或更高,任 选地,在所述环绕的阻碍线中提供的一个或多个间隙优选为各自为小 于100μm,优选小于50μm,例如25至100μm。
95.任选根据权利要求87的微流体器件,其具有至少一个流路并 包括具有第一表面的底基板和具有第二表面的顶基板,所述第一表面 和所述第二表面彼此面对,所述至少一个流路在所述第一表面和第二 表面之间被提供,所述表面中的至少一个包括亲水表面区域和疏水表 面区域,其中所述疏水表面区域具有比所述亲水表面区域更低的表面 张力,所述疏水表面区域在所述亲水表面区域中形成图案,该图案包 括一个或多个交错的流动线对,所述流动线从所述流路的各边界线延 伸出并延伸向所述流路的各相对边界线,任选地,所述流动线的一个 或多个包括单向阀。
96.如权利要求95所述的微流体器件,其中所述的交错的流动线 对彼此之间以一定距离沿着所述流路被安排,所述距离优选为在流动 方向中第一个所述交错的流动线与所述边界线之一接触处的边界线之 间的流路的宽度的5至100%。
97.如权利要求95和96中任一项所述的微流体器件,其中所述 图案包括多个交错的流动线对,所述交错的流动线优选彼此之间以一 定距离沿着流路被安排。
98.如权利要求95-97中任一项所述的微流体器件,其中一个或多 个所述流动线包括单向阀,所述单向阀由所述疏水图案提供。
99.根据权利要求87和95-98中任一项所述的微流体器件,其具 有至少一个流路并包括具有第一表面的底基板和具有第二表面的顶基 板,所述第一表面和所述第二表面彼此面对,所述至少一个流路在所 述第一表面和第二表面之间被提供,所述表面中的至少一个包括亲水 表面区域和疏水表面区域,其中所述疏水表面区域具有比所述亲水表 面区域更低的表面张力,所述疏水表面区域在所述亲水表面区域中形 成图案,所述图案形成单向阀,该选择的图案全部或部分延伸跨过流 路以提供疏水障碍,并被安排为具有一定几何形状以提供在一个流动 方向中的毛细中断。
100.如权利要求99所述的微流体器件,其中所述图案形成单向 阀,该选择的图案被安排为具有一定几何形状,使得为克服从所述流 路一侧的疏水障碍所需要的力比从所述流路另一侧所需要的力更高。
101.如权利要求99和100中任一项所述的微流体器件,其中所 述的图案被安排为具有完全跨过所述流路的几何形状,使得在所述流 路的边界线的一定距离处跨过所述流路的宽度部分包含比跨过所述流 路的其余部分窄化的疏水障碍区段。
102.如权利要求101所述的微流体器件,其中所述图案具有V形 前锋,优选将所述V形的开口端安排为面向沿着所述流路的液流前锋。
103.如权利要求101和102中任一项所述的微流体器件,其中将 所述的图案形成为具有一个或多个窄化的疏水障碍区段的带,所述疏 水障碍区段由在所述带状的一侧中的一个或多个V形刻痕提供。
104.如权利要求101至103中任一项所述的微流体器件,其中所 述V形具有的在其腿之间的角度小于120度,优选小于100度,例如 小于90度。
105.如权利要求99-100中任一项所述的微流体器件,其中所述的 图案被安排为具有部分跨过所述流路的图案,使得在所述流路的边界 线的一定距离处跨过所述流路的流路宽度部分没有所述的选择的图 案,所述流路宽度部分优选具有小于100μm,优选小于50μm,例如 25至100μm的宽度。
106.如权利要求105所述的微流体器件,其中所述图案具有没有 尖端的V形前锋,在所述V形的腿之间提供没有图案的流路宽度部分 代替尖端,优选所述V形的开口端被安排为面向沿着所述流路的液流 前锋。
107.如权利要求105和106中任一项所述的微流体器件,其中所 述图案被形成为间断的带,所述一个或多个间断由一个或多个没有所 述图案的流路宽度部分提供,形状为一个或多个贯穿所述带状的没有 尖端的V形交叉点。
108.如权利要求105-107中任一项所述的微流体器件,其中所述 没有尖端的V形具有的在其腿之间的角度小于120度,优选小于100 度,例如小于90度。
109.如权利要求105-108中任一项所述的微流体器件,其中全部 或部分跨过所述流路的图案包括V形图案,所述V形任选是没有尖端 的,所述V形由障碍线提供,所述障碍线具有相等或变化的厚度,例 如更接近所述流路的边界线比更接近于在与沿着所述流路的两个边界 线相等距离处的沿着所述流路的中心线具有更宽的厚度。
110.如权利要求99-109中任一项所述的微流体器件,其中所述毛 细中断是完全中断或临时中断,所述临时中断优选提供至少1秒,例 如至少5秒,例如至少10秒,例如至少30秒,例如高至1分钟,例 如高至5分钟,例如高至10分钟的毛细中断。
111.如权利要求99-110中任一项所述的微流体器件,其中所述图 案包括两个单向阀,所述单向阀彼此以一定距离位于流路中,在所述 两个单向阀之间的距离形成岛形区段,所述两个单向阀被安排为提供 在所述流路的两个方向中从所述岛形区段向外的毛细中断。
112.如权利要求99-111中任一项所述的微流体器件,其中所述的 图案包括一个或多个交错的流动线对,该流动线从所述流路的各边界 线延伸出并延伸向所述流路的各相对边界线,至少一个所述流动线包 含单向阀,所述单向阀被安排为使得沿着所述流路在一个流动方向中 流动的液体样品不能从一侧通过所述单向阀,直至所述液体样品已经 在所述单向阀的另一侧上润湿所述流路的表面。
113.任选根据权利要求87所述的微流体器件,其具有至少一个 流路并包括具有第一表面的底基板和具有第二表面的顶基板,所述第 一表面和第二表面彼此面对,所述至少一个流路在所述第一表面和第 二表面之间被提供,所述表面中的至少一个包括亲水表面区域和疏水 表面区域,其中所述疏水表面区域具有比所述亲水表面区域更低的表 面张力,所述疏水表面区域在所述亲水表面区域形成微观图案,所述 图案形成一个或多个分割线,其将流路分割成2个或更多个流路区段, 该选择的图案优选包含多个分割线,并从而包含多个流路区段。
114.如权利要求113中所述的微流体器件,其中各流路区段具有 足以提供流动延缓的低的交错宽度,该宽度优选为小于25μm,例如小 于10μm。
115.如权利要求113和114中任一项所述的微流体器件,其中各 流路区段具有的交错宽度小于在所述第一基板和所述第二基板之间的 流路的高度。
116.如权利要求113-115中任一项所述的微流体器件,其中在各 流路区段中,所述流路的第一表面和第二表面中的至少一个具有大于 75mN/m,优选大于85mN/m的表面张力。
117.如权利要求113-116中任一项所述的微流体器件,与选择的 样品结合,其中在各流路区段中,所述流路的第一表面和第二表面中 的至少一个具有的对所述样品的接触角为小于5度,优选约0度。
118.如权利要求84-117中任一项所述的微流体器件,其中所述的 底基板包括底腔,所述底腔包括底部表面和一个或多个边缘表面,所 述底腔在所述底基板中形成至少一个通道,所述第一表面优选包括所 述底腔的底部表面
119.如权利要求84-118中任一项所述的微流体器件,其中所述的 疏水表面区域具有低于80,优选低于73,例如低于60,例如20至50 mN/m的表面张力,优选经历亲水处理的基板的第一表面和第二表面中 的至少一个具有的在进行所述亲水处理前的初始表面张力为低于80, 优选低于73,例如低于60,例如20至50mN/m。
120.如权利要求84-119中任一项所述的微流体器件,其中所述亲 水表面区域具有大于60mN/m,优选大于70mN/m,例如大于85mN/m 的表面张力。
121.如权利要求84-120中任一项所述的微流体器件,其中所述第 一表面和第二表面中的一个包括亲水表面区域和疏水表面区域,所述 第一表面和第二表面中的另一个指定为均匀表面,其具有在其整个表 面上相同的表面张力,所述均匀表面的表面张力优选为大于60mN/m, 优选大于70mN/m。
122.如权利要求84-121中任一项所述的微流体器件,与所选择的 液体样品结合,其中所述亲水表面区域具有的对所选择样品的接触角 小于45度,优选小于30度,例如小于20度,例如小于10度,例如 小于5度。
123.如权利要求84-122中任一项所述的微流体器件,与所选择的 液体样品结合,其中所述的疏水表面区域具有的对所选择样品的接触 角大于45度,优选大于50度,例如大于60度,例如大于70度,例 如大于75度,例如大于90度。
本发明涉及制备包括至少一个流路的微流体器件的方法,以及任 选由所述方法制备的微流体器件。
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