一种VA显示面板及显示装置
专利汇可以提供一种VA显示面板及显示装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 提供一种VA 显示面板 ，包括彩膜 基板 、阵列基板以及设置于彩膜基板和阵列基板之间的 液晶 层；彩膜基板包括彩色滤光片和导电层；阵列基板包括沿朝向液晶层方向依序设置的衬底基板、第一金属层、栅极绝缘层、有源层、第二金属层、 钝化 层和 像素 电极 层；像素电极层上形成有多个像素电极，且相邻之间预留有一定间隙；其中， 钝化层 为双层结构，包括第一钝化子层和设置于第一钝化子层上方的第二钝化子层；第一和第二钝化子层之间设有公共电极层，且公共电极层位于至少一相邻两个像素电极预留间隙的下方，用以通电时增加相应像素电极间 电场 强度。实施本发明，通过加强像素电极间电场来改善液晶分子倾倒排列，用以改善光的穿透率与灰阶反转现象。，下面是一种VA显示面板及显示装置专利的具体信息内容。
1.一种VA显示面板，包括彩膜基板（1）、阵列基板（2）以及设置于所述彩膜基板（1）和所述阵列基板（2）之间的液晶层（3）；其中，
所述彩膜基板（1）包括彩色滤光片（11）和设置于所述彩色滤光片（11）靠近所述液晶层（3）一侧上的导电层（12）；
所述阵列基板（2）包括沿朝向所述液晶层（3）方向依序设置的衬底基板（21）、第一金属层（22）、栅极绝缘层（23）、有源层（24）、第二金属层（25）、钝化层（26）和像素电极层（27）；其中，所述像素电极层（27）上形成有多个像素电极（271），且相邻两个像素电极（271）之间均预留有一定间隙；
其特征在于，所述钝化层（26）为双层结构，包括第一钝化子层（261）和设置于所述第一钝化子层（261）上方的第二钝化子层（262）；其中，所述第一钝化子层（261）和所述第二钝化子层（262）之间设有公共电极层（28），且所述公共电极层（28）位于至少一相邻两个像素电极（271）预留间隙的下方，用以通电时增加相应相邻两个像素电极（271）间电场强度。
2.如权利要求1所述的VA显示面板，其特征在于，所述公共电极层（28）位于所述第二金属层（25）的一侧或两侧。
3.如权利要求2所述的VA显示面板，其特征在于，所述阵列基板（2）还包括隔离层（29），所述隔离层（29）覆盖于所述像素电极层（27）上方并靠近所述液晶层（3）。
4.如权利要求3所述的VA显示面板，其特征在于，所述彩膜基板（1）的导电层（12）和所述阵列基板（2）的像素电极层（27）及公共电极层（28）均由氧化铟锡ITO制作而成。
5.如权利要求4中所述的VA显示面板，其特征在于，所述阵列基板（2）的钝化层（26）和隔离层（29）均由氮化硅或氧化硅制作而成。
6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的VA显示面板。
一种VA显示面板及显示装置
技术领域
背景技术
发明内容
所述阵列基板包括沿朝向所述液晶层方向依序设置的衬底基板、第一金属层、栅极绝缘层、有源层、第二金属层、钝化层和像素电极层；其中，所述像素电极层上形成有多个像素电极，且相邻两个像素电极之间均预留有一定间隙；
其中，所述钝化层为双层结构，包括第一钝化子层和设置于所述第一钝化子层上方的第二钝化子层；其中，所述第一钝化子层和所述第二钝化子层之间设有公共电极层，且所述公共电极层位于至少一相邻两个像素电极预留间隙的下方，用以通电时增加相应相邻两个像素电极间电场强度。
图3为本发明实施例一提供的VA显示面板的局部剖视图；
图4为本发明实施例一提供的VA显示面板分别施加0V、3.5V和7V电压给液晶层液晶分子时所反映的光的穿透率与视角θ形成的对比图；其中，a1为0V电压所代表的穿透率曲线；
a2为3.5V电压所代表的穿透率曲线；a3为7V电压所代表的穿透率曲线。
具体实施方式
阵列基板2包括沿朝向液晶层3方向依序设置的衬底基板21、第一金属层22、栅极绝缘层23、有源层24、第二金属层25、钝化层26和像素电极层27；其中，像素电极层27上形成有多个像素电极271，且相邻两个像素电极271之间均预留有一定间隙；
其中，钝化层26为双层结构，包括第一钝化子层261和设置于第一钝化子层261上方的第二钝化子层262；其中，第一钝化子层261和第二钝化子层262之间设有公共电极层28，且公共电极层28位于至少一相邻两个像素电极271预留间隙的下方，用以通电时增加相应相邻两个像素电极271间电场强度。
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