专利汇可以提供一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种低温合成制备氮化 硅 陶瓷粉体的方法,包括以下步骤:(1)将 水 玻璃、 偶联剂 、聚乙二醇和 盐酸 依次加入水中,搅拌制成凝胶;经水洗和醇洗后作为前驱体凝胶;(2)放入无水 乙醇 中,搅拌并加入酚 醛 树脂 ,搅拌至形成糊状体;烘干制成前驱体粉体;(3)加入氮源混合 研磨 ;(4)置于加热炉中,通入惰性气体将空气驱除,在炉压高于 大气压 条件下,升温进行氮化合成反应;随炉冷却获得粗粉体;(5)在550~650℃条件下保温2~8小时除 碳 。本 发明 的方法可以低温合成氮化硅陶瓷粉体,大幅度降低生产成本,具有广泛的应用前景。,下面是一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法专利的具体信息内容。
1.一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法,其特征在于包括以下步骤:
(1)制备前驱体凝胶:准备硅源水玻璃,催化剂盐酸,表面活性剂偶联剂和聚乙二醇,其中盐酸的质量浓度为5~35%;盐酸占水玻璃的体积百分比为1~30%;偶联剂占水玻璃和盐酸总体积的0.01~10.0%,聚乙二醇为水玻璃和盐酸总质量的0.01~10.0%;将水玻璃、偶联剂、聚乙二醇和盐酸依次加入去离子水中,搅拌均匀制成凝胶;将凝胶经水洗和醇洗后,过滤获得的固相作为前驱体凝胶;
(2)制备前驱体粉体:将前驱体凝胶放入无水乙醇中,在搅拌条件下加入酚醛树脂,使酚醛树脂在无水乙醇中溶解,前驱体凝胶被分散,直至全部物料形成糊状体;将糊状体置于烘箱中,在65~200℃条件下烘干去除挥发成分,剩余物料随炉冷却至常温,取出研磨制成前驱体粉体;其中酚醛树脂与水玻璃的摩尔比为0.5~10;
(3)制备复合前驱体粉体:向前驱体粉体中加入氮源尿素或三聚氰胺,混合研磨均匀,制成复合前驱体粉体;其中氮源与水玻璃的摩尔比为5~60;
(4)合成氮化硅粗粉体:将复合前驱体粉体置于加热炉中,通入惰性气体吹扫将空气驱除,然后在加热炉内气压高于大气压的条件下,升温至800~1000℃后保温2~5小时,进行氮化合成反应;反应后的物料随炉冷却至常温,获得氮化硅粗粉体;
(5)脱碳处理:将氮化硅粗粉体置于电阻炉内,在550~650℃条件下保温2~8小时,使残留的碳去除,然后物料随炉冷却至常温,再研磨制成氮化硅陶瓷粉体。
2.根据权利要求1所述的一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法,其特征在于所述的惰性气体为氮气或氩气。
3.根据权利要求1所述的一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法,其特征在于所述的聚乙二醇的聚合度为2000~20000。
4.根据权利要求1所述的一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法,其特征在于步骤(1)中,去离子水的用量以去离子水与盐酸混合后,全部溶解水玻璃、偶联剂和聚乙二醇为准。
5.根据权利要求1所述的一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法,其特征在于步骤(2)中,无水乙醇的用量以将全部酚醛树脂溶解为准。
6.根据权利要求1所述的一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法,其特征在于所述的氮化硅陶瓷粉体的粒径100~1000纳米。
7.根据权利要求1所述的一种低温合成制备氮化硅陶瓷粉体的方法,其特征在于步骤(4)中,升温和保温时控制加热炉内气压高于大气压。
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