涡轮分子

阅读:539发布:2020-05-14

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1.一种涡轮分子,其特征在于包括:
转子,具有动叶片及转子圆筒部;
静叶片,与所述动叶片相向;
圆筒状定子,与所述转子圆筒部相向;
基座,收容所述圆筒状定子;以及
加热部,对所述圆筒状定子进行加热;且
所述圆筒状定子的外表面的放射率、以及与所述圆筒状定子相向的构件的外表面且为与所述圆筒状定子相向的外表面的放射率小于所述动叶片的外表面且为与所述静叶片相向的外表面的放射率。
2.根据权利要求1所述的涡轮分子泵,其特征在于:
与所述圆筒状定子相向的构件为所述转子圆筒部、所述基座、所述动叶片、及所述静叶片中的至少一个。
3.根据权利要求1或2所述的涡轮分子泵,其特征在于:
利用所述加热部对所述圆筒状定子的加热,所述圆筒状定子的温度变得高于所述泵转子的温度。
4.根据权利要求1或2所述的涡轮分子泵,其特征在于:
所述圆筒状定子的外表面的放射率、以及与所述圆筒状定子相向的构件的外表面且为与所述圆筒状定子相向的外表面的放射率为0.3以下。
5.根据权利要求1或2所述的涡轮分子泵,其特征在于:
所述动叶片的外表面且为与所述静叶片相向的外表面的放射率、以及所述静叶片的外表面且为与所述动叶片相向的外表面的放射率为0.5以上。
6.根据权利要求1或2所述的涡轮分子泵,其特征在于:
所述圆筒状定子的外表面、以及与所述圆筒状定子相向的构件的外表面且为与所述转子圆筒部相向的外表面被施以镍,或者于合金未施以外表面处理
7.根据权利要求1或2所述的涡轮分子泵,其特征在于:
所述动叶片的外表面且为与所述静叶片相向的外表面、以及所述静叶片的外表面且为与所述动叶片相向的外表面被施以镀黑色镍,或者被施以阳极化铝处理。
8.根据权利要求1或2所述的涡轮分子泵,其特征在于:
还包括热传导抑制构件,且
所述圆筒状定子隔着所述热传导抑制构件而安装于所述基座。

说明书全文

涡轮分子

技术领域

[0001] 本发明是有关于一种涡轮分子泵(turbo-molecular pump)。

背景技术

[0002] 以往,在半导体制造装置或液晶制造装置等的腔室(chamber)排气时,使用有涡轮分子泵等真空泵。
[0003] 涡轮分子泵的泵转子(rotor)由磁轴承接触支撑而进行高速旋转。泵转子与制造程序气体(process gas)等碰撞而会变为高温。因此,为了避免蠕变(creep)变形所引起的断裂,有如下情况:通过使泵转子的外表面的放射率或配置于泵转子的周围的静叶片及圆筒状定子(stator)的外表面的放射率提高,而提高泵转子的放射所产生的散热量。
[0004] 近年来,在半导体制造装置或液晶制造装置的刻蚀制造程序(etching process)中,真空泵的圆筒状定子上的反应产物附着量增加,有真空泵的泵转子与反应产物接触的可能性。而且,在装置运转后短时间内需要详细检查(overhaul)。因此,要求将泵内部温度(气体接触部(gas contact part)的温度)比以往大幅提高,而抑制反应产物的附着。
[0005] 作为提高泵内部温度的方法,已知有如专利文献1所记载的方法。在专利文献1所记载的发明中,对与泵转子的转子圆筒部的外周相向配置的被加热构件(相当于螺纹槽泵部的圆筒状定子)直接加热。
[0006] 在如专利文献1所记载的发明中,如果将圆筒状定子或圆筒状定子的周边的构件的外表面设为高放射率,当圆筒状定子的温度高于圆筒状定子的周边的构件的温度时,会不必要地产生从圆筒状定子向圆筒状定子的周边的构件的放射所引起的热移动。结果,有泵转子的温度上升的担忧。
[0007] [现有技术文献]
[0008] [专利文献]
[0009] [专利文献1]日本专利第3160504号公报

发明内容

[0010] 如上所述,期望有一种涡轮分子泵,可防止圆筒状定子的反应产物的堆积,且抑制从圆筒状定子向圆筒状定子的周边的构件的放射所产生的热的移动。
[0011] 本发明的优选实施方式的涡轮分子泵的特征在于包括:泵转子,具有动叶片及转子圆筒部;静叶片,与动叶片相向;圆筒状定子,与转子圆筒部相向;基座(base),收容圆筒状定子;以及加热部,对圆筒状定子进行加热;且圆筒状定子的外表面的放射率、以及与圆筒状定子相向的构件的外表面且为与圆筒状定子相向的外表面的放射率小于动叶片的外表面且为与静叶片相向的外表面的放射率。
[0012] 根据本发明,可防止圆筒状定子的反应产物的堆积,且抑制从圆筒状定子向圆筒状定子的周边的构件的放射所产生的热的移动。附图说明
[0013] 图1是本发明的一实施方式的涡轮分子泵的剖面图。
[0014] 图2(a)~图2(c)是分别表示比较例1、比较例2以及本发明的一实施方式中的涡轮分子泵的放射或传导所产生的热的移动的示意图。
[0015] 图3是表示作为反应产物的一例的AlCl3的蒸气压曲线的图。
[0016] 图4是表示本发明的一实施方式、比较例1、比较例2中的各部的温度的一例的图。
[0017] 【主要元件符号说明】
[0018] 1、1A、1B:涡轮分子泵 10:泵转子
[0019] 11:转子轴 12:动叶片
[0020] 12S:动叶片(下端动叶片) 13:转子圆筒部
[0021] 20:基座 20A:基座上部
[0022] 20B:基座下部 21:静叶片
[0023] 21S:静叶片(下端静叶片) 22:圆筒状定子
[0024] 23:泵壳 24:热传导抑制构件
[0025] 26:排气口 27:加热器
[0026] 28:定子加热部 29:隔片
[0027] 32:径向磁轴承 33:轴向磁轴承
[0028] 34:达 35a:机械轴承
[0029] 35b:机械轴承 41:隔热构件
[0030] 42:隔热构件 50:冷管
[0031] 201:凹部 203:温度传感器
[0032] 220:凸缘部 220a:下表面
[0033] 222:螺栓 280:加热器
[0034] 281:部件(加热器部件) 282:螺栓
[0035] H1~H13:热 S1~S7、S3A~S3D:外表面具体实施方式
[0036] 以下,参照图对用以实施本发明的方式进行说明。图1是表示本发明的涡轮分子泵1的剖面的图。涡轮分子泵1包括泵转子10,所述泵转子10形成有多段动叶片12及转子圆筒部13。在泵壳(pump casing)23的内侧,与多段动叶片12相应地以层叠的方式配置有多段静叶片21。沿泵轴方向层叠的多段静叶片21分别隔着隔片(spacer)29而配置于基座20上。动叶片12及静叶片21分别包含沿周向配置的多个涡轮(turbine)叶片。另外,基座20被分成两个部分,将图示上方的部分称为基座上部20A,将图示下方的部分称为基座下部20B。
[0037] 在转子圆筒部13的外周侧,隔着间隙而配置有圆筒状定子22。在转子圆筒部13的外周面或圆筒状定子22的内周面的任一面形成有螺纹槽,由转子圆筒部13与圆筒状定子22构成螺纹槽泵。利用动叶片12及静叶片21而排出的气体分子经螺纹槽泵部进一步压缩,最终从设于基座20的排气口26排出。
[0038] 在泵转子10固定有转子轴(shaft)11,该转子轴11由径向(radial)磁轴承32及轴向(axial)磁轴承33支撑,且由马达(motor)34旋转驱动。当磁轴承32、磁轴承33未动作时,转子轴11由机械轴承(mechanical bearing)35a、机械轴承35b支撑。径向磁轴承32、轴向磁轴承33、马达34及机械轴承35b收纳在固定于基座20的基座下部20B内。
[0039] 在基座20设置有加热器(heater)27、水冷管(pipe)50及温度传感器(sensor)203,所述加热器27用以对基座20进行加热,所述水冷管50用以使基座20冷却,所述温度传感器203对基座20的温度进行检测。
[0040] 圆筒状定子22隔着圆筒状的热传导抑制构件24利用螺栓(bolt)222而安装于基座20的基座上部20A,且收容在基座20内。具体而言,利用圆筒状定子22的凸缘(flange)部220的下表面220a与设于基座上部20A的凹部201,夹着热传导抑制构件24。而且,圆筒状定子22经由凸缘部220利用螺栓222而固定于基座上部20A。在圆筒状定子22与基座上部20A之间,设置有用以使两者不直接接触的空隙。这是为了使圆筒状定子22与基座上部20A之间不产生由传导所引起的热的移动。另外,螺栓222是由热导率低的构件制作而成。
[0041] 在圆筒状定子22的下部外周面,固定有对圆筒状定子22进行加热的专的定子加热部28。定子加热部28是以将基座20的周面内外贯通的方式而设置。定子加热部28具有热导率高的部件(block)281(加热器部件(heater block)281)作为本体。定子加热部28是将螺栓282插设在设于部件281的贯通孔中,利用螺栓282以所述方式固定于圆筒状定子22。定子加热部28的部件281与圆筒状定子22利用该固定而容易地产生传导所引起的热移动。在部件281内设置有加热器280。加热器280利用从未图示的外部电源供给的电而发热。由此,定子加热部28成为热源。由定子加热部28产生的热通过传导而移动到圆筒状定子22。由此,圆筒状定子22的温度上升,而抑制反应产物的堆积。
[0042] 如上所述,为如下构成:定子加热部28专门地对圆筒状定子22进行加热,因此,由定子加热部28产生的热不会通过传导而移动到基座20。具体而言,在定子加热部28与基座上部20A之间设置有隔热构件41,在定子加热部28与基座下部20B之间设置有隔热构件42。
[0043] 如此,圆筒状定子22被定子加热部28加热,且被热传导抑制构件24以某种程度冷却,除此以外,不产生传导所引起的热的移动。
[0044] 表1、表2是针对圆筒状定子22、转子圆筒部13、动叶片12、静叶片21及基座20的母材、成为本发明的说明上的对象的外表面、该外表面的表面处理、以及放射率进行表示的表。本发明的一实施方式示于表1。另外,表2是关于后述的比较例1、比较例2。圆筒状定子、转子圆筒部、动叶片、静叶片及基座的母材在本实施方式、比较例1、比较例2的任一者中均为合金
[0045]
[0046] 表1
[0047]
[0048] 表2
[0049] 图2(c)是表示图1所示的涡轮分子泵1的图示右方的示意图,且表示本实施方式中的热的移动。另外,图2(a)、图2(b)分别表示后述的比较例1、比较例2中的热的移动。
[0050] 使用表1与图2(c),对本实施方式中的外表面的状态与热的移动进行说明。
[0051] 表1中,圆筒状定子22的放射率如下所述:当变得比圆筒状定子22的周边构件即转子圆筒部13、动叶片12、静叶片21及基座20更高温时,可抑制从圆筒状定子22向周边构件的放射所产生的热的移动。圆筒状定子22变得比周边构件更高温的情况可以通过如下方式实现:利用热传导抑制构件24将圆筒状定子22热隔离,而且利用定子加热部28对圆筒状定子22进行加热。所谓“热隔离”是指利用热传导抑制构件24来抑制如图2(c)的H11所示的热的传导。
[0052] 此处,对热的放射进行说明。从某物体1向某物体2的放射所产生的热由以下的式(1)表示。另外,物体1的温度高于物体2的温度。
[0053] [数1]Q∝ε'·A·(T14-T24)…(1)
[0054] (斯特藩-玻尔兹曼(Stefan-Boltzmann)公式)
[0055] 其中,Q为放射热(W),ε'为平均放射率,A为传热截面积(cm2),T1为物体1的温度(°K),T2为物体2的温度(°K)。物体1的温度高于物体2的温度,因此,T1为大于T2的值。
[0056] 平均放射率ε'是根据物体1的放射率ε1、物体2的放射率ε2、及物体1与物体2的位置关系而求出。不论物体1与物体2的位置关系如何,均为放射率ε1越低且放射率ε2越低,则平均放射率ε'越低。由此,根据该情况与式(1),放射率ε1越低且放射率ε2越低,则从物体1向物体2的放射所产生的热量越少。
[0057] 举一例而言,当物体1与物体2处于平行平面的位置关系时,平均放射率ε'由以下的式(2)表示。
[0058] [数2]
[0059] 如根据以上的式(2)可理解,物体1的放射率ε1越低、物体2的放射率ε2越低,则平均放射率ε'越低。
[0060] 另外,本说明书中,以放射率ε=0.5为边界,如果为ε=0.5以上,称为“高放射率”,如果低于ε=0.5,称为“低放射率”。
[0061] 如表1所示,在本实施方式中,圆筒状定子22由铝合金制作而成,且全部外表面S3(参照图2(c))均未施以表面处理。即,圆筒状定子22的外表面为铝合金本身。由此,可将圆筒状定子22的放射率设为0.1以下的低放射率。另外,外表面S3是圆筒状定子22的全部外表面,包括圆筒状定子22的外表面中的与转子圆筒部13相向的外表面S3A、与动叶片12相向的外表面S3B、与静叶片21相向的外表面S3C、以及与基座20相向的外表面S3D。
[0062] 在本实施方式中,转子圆筒部13的外表面且为与圆筒状定子22相向的外表面S4(参照图2(c))被施以镍(Ni)。通过施以镀Ni,可将所述外表面的放射率设为0.2的低放射率。另外,通过施以镀Ni,可防止制造程序气体所引起的腐蚀
[0063] 根据以上,如图2(c)所示,通过将外表面S3A、外表面S4设为低放射率,可抑制从圆筒状定子22向转子圆筒部13的放射所产生的热H4的移动。
[0064] 在本实施方式中,基座20的外表面且为与圆筒状定子22相向的外表面S7未施以表面处理,作为母材的铝合金为外表面。由此,可将以上所示的所述外表面的放射率设为0.1以下。通过将外表面S3D、外表面S7设为低放射率,可抑制从圆筒状定子22向基座20的放射所产生的热H7~热H9的移动。
[0065] 动叶片12的最下端的动叶片12S(下端动叶片12S)的外表面且为与圆筒状定子22相向的外表面S5(参照图2(c))未施以表面处理,作为母材的铝合金为外表面。通过将外表面S3B、外表面S5设为低放射率,可抑制从圆筒状定子22向动叶片12的放射所产生的热H5的移动。下端动叶片12S具有不与静叶片21相向的外表面,因此,优选将所述外表面设为低放射率。
[0066] 静叶片21的最下端的静叶片21S(下端静叶片21S)的外表面且为与圆筒状定子22相向的外表面S6(参照图2(c))未施以表面处理,作为母材的铝合金为外表面。通过将外表面S3C、外表面S6设为低放射率,可抑制从圆筒状定子22向静叶片21的放射所产生的热H6的移动。因为动叶片21未设置到泵壳23的内周面,所以下端静叶片21S具有不与动叶片21相向的外表面,因此,优选将所述外表面设为低放射率。
[0067] 如此,通过将圆筒状定子22的外表面S3的放射率、圆筒状定子22的周边构件的外表面且为与圆筒状定子22相向的外表面S4~外表面S7的放射率设为低放射率,可抑制从圆筒状定子22向周边构件的放射所产生的热的移动。
[0068] 因使圆筒状定子22的外表面S3A~外表面S3D的放射率降低,而在本实施方式中,泵转子10的热需要如图2(c)的热H1、热H2所示般主要通过从动叶片12向静叶片21散热而移动。
[0069] 因此,在本实施方式中,动叶片12的外表面且为与静叶片21相向的外表面S1被施以镀黑色Ni。由此,可将所述外表面的放射率设为0.7的高放射率。静叶片21的外表面且为与动叶片12相向的外表面S2被施以阳极化铝(anodized aluminum)处理。由此,可将以上所示的所述外表面的放射率设为0.9的高放射率。结果,从动叶片12向静叶片21的放射所产生的热H1的量会增加。而且,通过使用镀黑色Ni,可防止制造程序气体所引起的动叶片12的腐蚀。
[0070] 另外,从动叶片12向静叶片21移动的热H1如热H13所示般传导到泵壳23,且如热H10所示般从泵壳23传导到基座20,并移动到水冷管50。
[0071] 从圆筒状定子22在热传导抑制构件24中传导后传导到基座20的少许的热H11、或从圆筒状定子22向基座20散发的少许的热H7~热H9也在基座20内传导,并移动到水冷管50。
[0072] 以上,根据本发明,发挥以下的作用效果。
[0073] (1)涡轮分子泵1包括:泵转子10,具有动叶片12及转子圆筒部13;静叶片21,与动叶片12相向;圆筒状定子22,与转子圆筒部13相向;基座20,收容圆筒状定子22;以及定子加热部28,对圆筒状定子22进行加热。
[0074] 圆筒状定子22的外表面S3的放射率、以及与圆筒状定子22相向的周边构件即转子圆筒部13、基座20、动叶片12及静叶片21的外表面且为与圆筒状定子22相向的外表面S4、外表面S7、外表面S5、外表面S6的放射率小于动叶片12的外表面且为与静叶片21相向的外表面S1的放射率。
[0075] (1A)通过具有所述构成,可抑制从圆筒状定子22向周边构件即转子圆筒部13、基座20、动叶片12及静叶片21的热放射,而可将圆筒状定子22维持为高温,因此,可防止反应产物堆积在圆筒状定子22。
[0076] (1B)通过具有与周边构件即转子圆筒部13、动叶片12及静叶片21相关的所述构成,当圆筒状定子22的温度高于周边构件即转子圆筒部13、动叶片12及静叶片21的温度时,可使从动叶片12向静叶片21的热H1的移动强烈,且抑制从圆筒状定子22向周边构件即转子圆筒部13、动叶片12及静叶片21的放射所产生的热H4、热H5、热H6的移动,而可抑制泵转子10的温度上升。结果,可防止如下情况:因泵转子10的蠕变变形,泵转子10与静叶片21或圆筒状定子22接触,而引起它们断裂。
[0077] (1C)通过具有与作为周边构件的一个的基座20相关的所述构成,可抑制圆筒状定子22向外部放出多余的热,从而定子加热部28不会消耗多余的电力。而且,可抑制基座20从圆筒状定子22接收多余的热。可抑制从圆筒状定子22向基座20的热放射,而可将圆筒状定子22维持为高温,因此,可防止反应产物堆积在圆筒状定子22。
[0078] (2)有如下情况,即,利用定子加热部28,而产生圆筒状定子22的调温温度高于泵转子10的调温温度的情况,但即便在这种情况下,也可抑制因来自圆筒状定子22的热H4而引起的泵转子10的温度上升。结果,可防止如下情况:因泵转子10的蠕变变形,泵转子10与静叶片21或圆筒状定子22接触,而引起它们断裂。
[0079] (3)当将母材设为铝合金,且不施以表面处理时,所述外表面的放射率可设为0.1以下的低放射率。
[0080] (4)被施以镀Ni的外表面的放射率可设为0.2的低放射率。而且,如果施以镀Ni,对制造程序气体所引起的腐蚀的耐腐蚀性会提高。
[0081] (5)被施以镀黑色Ni的外表面的放射率可设为0.7的高放射率。而且,如果施以镀黑色Ni,对制造程序气体所引起的腐蚀的耐腐蚀性会提高。
[0082] (6)如果将母材设为铝合金,且对外表面施以阳极氧化铝处理,该外表面的放射率可设为0.9的高放射率。
[0083] (7)圆筒状定子22隔着热传导抑制构件24而安装于基座20。由此,可将圆筒状定子22热隔离,而可抑制圆筒状定子22的温度变化。结果,当利用定子加热部28将圆筒状定子22加热而圆筒状定子22的温度变高时,可容易地维持圆筒状定子22的温度高的所述状态。
[0084] 此处,将本实施方式的涡轮分子泵1与比较例1的涡轮分子泵1A及比较例2的涡轮分子泵1B进行对比,使用图2~图4来说明对反应产物的对策及根据构成差异而产生的热的移动。
[0085] 比较例1的涡轮分子泵1A如图2(a)所示,圆筒状定子22与基座20直接连接。即,不具有热传导抑制构件24。进而,不具有对圆筒状定子22专门加热的定子加热部28。
而且,比较例1的涡轮分子泵1A如表2所示,圆筒状定子22、转子圆筒部13、动叶片12、静叶片21及基座20的母材为铝合金,且在本实施方式中成为对象的外表面经镀黑色Ni。
[0086] 比较例2的涡轮分子泵1B如图2(b)所示,与本实施方式同样地,圆筒状定子22隔着热传导抑制构件24而安装于基座20。进而,与本实施方式同样地,具有对圆筒状定子22专门加热的定子加热部28。而且,比较例2的涡轮分子泵1B如表2所示,圆筒状定子22、转子圆筒部13、动叶片12、静叶片21及基座20的母材为铝合金,且在本实施方式中成为对象的外表面经镀黑色Ni。
[0087] 图3表示作为反应产物的一例的氯化铝(AlCl3)的蒸气压曲线。在比该蒸气压曲线更靠图示上方的区域中,氯化铝成为气体。相反,在比该蒸气压曲线更靠图示下方的区域中,氯化铝成为固体,会作为堆积物而堆积。
[0088] 图4是在图3所示的蒸气压曲线上追加地表示比较例1、比较例2、本实施方式的静叶片21与圆筒状定子22的各部位的温度的一例。将利用加热器27、水冷管50所得的基座20的调温温度设为75℃,将利用定子加热部28所得的调温温度设为130℃,将转子的容许温度设为120℃。另外,所谓最上段静叶片是最靠近涡轮分子泵1的吸气口的段的静叶片21。所谓最下段静叶片是最靠近涡轮分子泵1的排气口的段的静叶片21。所谓中间段静叶片是位于最上段静叶片与最下段静叶片的中间的段的静叶片21。所谓圆筒状定子入口是指圆筒状定子22的吸气口侧端部。所谓圆筒状定子出口是指圆筒状定子22的排气口侧端部。
[0089] 在图4中,比较例1中,圆筒状定子出口处的相对于压力的温度接近蒸气压曲线。即,比较例1的涡轮分子泵1A的圆筒状定子22的排气口侧端部处于氯化铝容易堆积的状况。因此,通过如比较例2般将圆筒状定子22热隔离,进而设置定子加热部28,可使圆筒状定子22的温度上升,而使氯化铝不易堆积。
[0090] 然而,此处产生问题。如图2(a)所示,比较例1时,泵转子10的温度最高。因此,优选通过如表2所示般将圆筒状定子22、转子圆筒部13、动叶片12、静叶片21及基座20的外表面S1~外表面S7设为镀黑色Ni,而使泵转子10的放射所产生的热H1、热H4、热H5、热H6的移动强烈。
[0091] 但是,如图2(b)所示,在比较例2中有圆筒状定子22的温度高于泵转子10的温度的情况。此时,圆筒状定子22成为热源,导致使向周边构件的外表面S4~外表面S7的放射所产生的热H4~热H9的移动强烈。因此,产生泵转子10的温度超过容许温度即120℃的问题。而且,也有如下担忧:通过由起因于放射热H4的泵转子10内的传导所产生的热H3移动,从动叶片12向静叶片21的放射所产生的热H1增加,而超过从动叶片12向静叶片21可散热的容许热量。
[0092] 因此,在本实施方式中,如图2(c)所示,使外表面S3~外表面S7的放射率降低,而抑制从圆筒状定子22向周边构件的放射所产生的热H4~热H9,且外表面S1、外表面S2的放射率依然高,而使从动叶片12向静叶片21因放射而移动的热H1的量增多,由此,可抑制泵转子10的温度上升,且防止反应产物的堆积。
[0093] 如下的变形(A)~变形(D)也在本发明的范围内。
[0094] (A)以上所示的定子加热部28也可设为定子调温部。即,也可在部件281中不仅设置加热器280,且设置水冷管或油冷管。由此,圆筒状定子22的温度调整更容易。
[0095] (B)以上,圆筒状定子22的外表面(进而,基座20、动叶片12、静叶片21的各外表面且为与圆筒状定子22相向的外表面)未施以表面处理,但也可施以镀Ni。Ni的放射率相对较低,为0.2左右,因此,可抑制从圆筒状定子22向周围的放射所引起的热移动。而且,通过对圆筒状定子22的外表面施以镀Ni,而赋予耐腐蚀性,从而对制造程序气体所引起的腐蚀的耐久性提高。
[0096] (C)以上,转子圆筒部13的外表面且为与圆筒状定子22相向的外表面被施以镀Ni,但如果转子圆筒部13的母材为铝合金,也可不施以表面处理。此时,转子圆筒部13的外表面的放射率相对较低,为0.1以下,因此,可使得不易接收来自圆筒状定子22的放射所产生的热。
[0097] (D)以上,静叶片21的外表面且为与动叶片12相向的外表面被施以阳极氧化铝处理,但也可代替阳极氧化铝处理而施以镀黑色Ni。通过设为镀黑色Ni,而成为高放射率且耐腐蚀性优异的外表面。动叶片12的外表面且为与静叶片21相向的外表面被施以镀黑色Ni,但也可施以阳极氧化铝处理。
[0098] 本发明并不限定于以上所示的内容。在本发明的技术思想的范围内可考虑到的其他实施方式也包含在本发明的范围内。
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