技术领域
本发明属于光学薄膜技术领域,具体涉及一种高激光损伤阈值ZrO2薄膜的制备方法。
背景技术
制备抗激光损伤薄膜通常分为物理
镀膜法和溶胶-凝胶
化学镀膜法。
传统的光学薄膜方法大多为物理镀膜法(PVD),如
真空蒸镀法,
磁控溅射,
电子束 蒸镀等,这些方法虽然技术比较成熟,但在制作大尺寸增透膜,反射膜和偏振膜,以及在 曲面上镀膜等方面遇到了成本过于昂贵,技术难度增加,特别是耐强激光损伤能
力不足等 严峻问题。而以溶胶-凝胶法为代表的化学镀膜法制备光学薄膜在这方面却开辟了诱人前 景:价格低(约为物理法的1/4),镀膜简单,膜层清理容易,易在异形表面形成均匀薄膜 等。而且在提高强光损伤阈值方面已取得了很大进展。此外,溶胶-凝胶镀膜过程在室温 下进行,膜厚容易控制,所需设备投资小,易转化为工业化生产等优点都蕴涵着无比巨大 的应用前景。目前高折射率高激光损伤阈值光学薄膜一般有:ThO2,HfO2,TiO2,AlOOH和 ZrO2。ThO2和HfO2的光学性能和损伤阈值两方面都能满足要求,但制备过程比较复杂且 不安全;TiO2折射率较高且光学性能良好,但损伤阈值偏低;AlOOH可以达到损伤阈值 的要求,但AlOOH折射率只有1.44。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高激光损伤阈值ZrO2薄膜的制备方法。
本发明提出的高激光损伤阈值ZrO2薄膜的制备方法,其具体步骤为:
1、ZrO2
水溶胶的制备:采用水热法,以
氧氯化锆(ZrOCl2·8H2O)为前驱体,加入水 中搅拌5-15分钟,再加入去离子
树脂搅拌5-15分钟,去除水溶液中的Cl-离子,过滤除去 树脂,将溶液装入密闭容器中,加热密闭容器,
温度为150~200℃,时间为30min~120min, 骤冷取出,得到ZrO2水溶胶,各组份的重量比为:ZrOCl2·8H2O∶H2O∶去离子树脂=(5~30)∶ (50~200)∶(5~30);
2、ZrO2-PVP醇溶胶的制备:将乙二醇甲醚按下述比例混入ZrO2水溶胶,用
分馏法 将水分出,形成ZrO2醇溶胶,在ZrO2醇溶胶中加入聚乙烯吡咯烷
酮(PVP),搅拌直到PVP 均匀溶入溶胶中;按体积百分比计,乙二醇甲醚∶ZrO2水溶胶为(1-1.5)∶1;按重量百分比 计,PVP∶ZrO2醇溶胶为(3-20)∶100。
3、ZrO2-PVP光学薄膜制备:在基底材料上采用
旋涂法或提拉法制备氧化锆(ZrO2) 膜层。
本发明中,所选用的基底材料为玻璃、单晶
硅等。
本发明中,采用ZrO2薄膜可用于制备高反膜。
本方法所用锆源为氧氯化锆,分别形成氧氯化锆水溶液,再生成氧化锆水溶胶,后生 成氧化锆醇溶胶,最后制成含有有机粘结剂PVP的ZrO2溶胶。所制得的ZrO2-PVP薄膜 表面平整,激光损伤阈值大大提高。
本发明与
现有技术相比具有如下优点:
1:溶胶的
粘度与水热合成时间,骤冷速度和PVP的含量有关,而溶胶的粘度又与所 镀薄膜的折射率密切相关,可通过改变这些实验参数来调节ZrO2-PVP薄膜折射率,调节 范围:1.50~1.80。
2:由于PVP的加入,使得具有柔性链状结构的PVP大分子链分散于ZrO2颗粒之间, 不仅使膜层折射率升高,同时还大大提高了膜层的耐激光损伤阈值。薄膜激光损伤阈值可 达23J/cm2(1064nm,1ns)。
3:无机ZrOCl2·8H2O为前驱体,水热法合成的溶胶具有很强的
稳定性,在室温下可 长期存放(大于半年)。所镀薄膜机械强度高,
附着力强。
本发明所用无机物水热合成法制备氧化锆(ZrO2)溶胶所镀光学薄膜,光学性能和抗 激光损伤阈值都能达到要求。而且制备过程简单,易于操作。
具体实施方式
实施例1
将10g氧氯化锆和100ml去离子水混合并搅拌10分钟,再放入10g去离子树脂(ROHM AND HAAM France S.A公司生产,型号:AMBERLITE IRA96RF 63279 LOT 621AG40,下同)搅 拌10分钟,然后过滤掉树脂。将溶液装入密闭容器中(容器填充度≤70%),然后将容 器置于165℃烘箱中加热1h,骤冷降温得到二氧化锆水溶胶。将乙二醇甲醚110ml混入二 氧化锆水溶胶,用分馏法将水替换成乙二醇甲醚得到二氧化锆醇溶胶,按重量百分比3% 的比例添加聚乙烯吡咯烷酮(PVP),得到ZrO2-PVP醇溶胶,用旋涂法在玻璃基底上镀制
单层二氧化锆薄膜。抗激光损伤阈值为10J/cm2(1064nm,1ns);薄膜折射率为1.57。
实施例2
将15g氧氯化锆和130ml去离子水混合并搅拌12分钟,再放入15g去离子树脂搅拌7 分钟,然后过滤掉树脂。将溶液装入密闭容器中(容器填充度≤70%),然后将容器置于 180℃烘箱中加热50分钟,骤冷降温得到二氧化锆水溶胶。将乙二醇甲醚140ml混入二氧 化锆水溶胶,采用分馏法将水替换成乙二醇甲醚得到二氧化锆醇溶胶。按重量百分比5% 的比例添加聚乙烯吡咯烷酮(PVP),充分搅拌,得到ZrO2-PVP醇溶胶。用旋涂法在玻璃 基底上镀制单层二氧化锆薄膜。抗激光损伤阈值为15J/cm2(1064nm,1ns);薄膜折射率为 1.60。
实施例3
将12g氧氯化锆和100ml去离子水混合并搅拌12分钟,再放入12g去离子树脂搅拌 10分钟,然后过滤掉树脂。将溶液装入密闭容器中(容器填充度≤70%),然后将容器置 于165℃烘箱中加热1h,骤冷降温得到二氧化锆水溶胶。将乙二醇甲醚100ml混入二氧化 锆水溶胶,用分馏法将水替换成乙二醇甲醚得到二氧化锆醇溶胶。按重量百分比10%的比 例添加聚乙烯吡咯烷酮(PVP),充分搅拌,得到ZrO2-PVP醇溶胶。用旋涂法在玻璃基底 上镀制单层二氧化锆薄膜。抗激光损伤阈值为19J/cm2(1064nm,1ns);薄膜折射率为1.65。
实施例4
将20g氧氯化锆和170ml去离子水混合并搅拌7分钟,再放入20g去离子树脂搅拌12 分钟,然后过滤掉树脂。将溶液装入密闭容器中(容器填充度≤70%),然后将容器置于 180℃烘箱中加热1h,骤冷降温得到二氧化锆水溶胶。将乙二醇甲醚180ml混入二氧化锆 水溶胶,采用分馏法将水替换成乙二醇甲醚得到二氧化锆醇溶胶。按重量百分比15%的比 例添加聚乙烯吡咯烷酮(PVP),充分搅拌。用旋涂法在玻璃基底上镀制单层二氧化锆薄膜。 抗激光损伤阈值为23J/cm2(1064nm,1ns);薄膜折射率为1.70。
实施例5
将10g氧氯化锆和70ml去离子水混合并搅拌10分钟,再放入10g去离子树脂搅拌10 分钟,然后过滤掉树脂。将溶液装入密闭容器中(容器填充度≤70%),然后将容器置于 145℃烘箱中加热1.5小时,骤冷降温得到二氧化锆水溶胶。将乙二醇甲醚100ml混入二 氧化锆水溶胶,采用分馏法将水替换成乙二醇甲醚得到二氧化锆醇溶胶。按重量百分比20 %的比例添加聚乙烯吡咯烷酮(PVP),充分搅拌,得到ZrO2-PVP醇溶胶,用旋涂法在玻 璃基底上镀制单层二氧化锆薄膜。抗激光损伤阈值为23J/cm2(1064nm,1ns);薄膜折射率为 1.71。
实施例6
将10g氧氯化锆和70ml去离子水混合并搅拌10分钟,再放入10g去离子树脂搅拌10 分钟,然后过滤掉树脂。将溶液装入密闭容器中(容器填充度≤70%),然后将容器置于 145℃烘箱中加热1.3小时,骤冷降温得到二氧化锆水溶胶。将乙二醇甲醚80ml混入二氧 化锆水溶胶,采用分馏法将水替换成乙二醇甲醚得到二氧化锆醇溶胶。按重量百分比18 %的比例添加聚乙烯吡咯烷酮(PVP),充分搅拌,得到ZrO2-PVP醇溶胶。与
二氧化硅(SiO2) 溶胶交替镀制高反膜。镀制10周期,在1064nm处透过率为1%;抗激光损伤阈值为 16J/cm2(1064nm,1ns)
实施例7
将10g氧氯化锆和77.5ml去离子水混合并搅拌10分钟,再放入10g去离子树脂搅拌 10分钟,然后过滤掉树脂。将溶液装入密闭容器中(容器填充度≤70%),然后将容器置 于165℃烘箱中加热1小时,骤冷降温得到二氧化锆水溶胶。将乙二醇甲醚90ml混入二氧 化锆水溶胶,采用分馏法将水替换成乙二醇甲醚得到二氧化锆醇溶胶。按重量百分比20 %的比例添加聚乙烯吡咯烷酮(PVP),充分搅拌,得到ZrO2-PVP醇溶胶。与二氧化硅(SiO2) 溶胶交替镀制高反膜。镀制9周期,在1064nm处透过率为10%;抗激光损伤阈值为 30J/cm2(1064nm,3ns)。
实施例8
将12g氧氯化锆和100ml去离子水混合并搅拌10分钟,再放入12g去离子树脂搅拌 10分钟,然后过滤掉树脂。将溶液装入密闭容器中(容器填充度≤70%),然后将容器置 于170℃烘箱中加热1h,骤冷降温得到二氧化锆水溶胶。将乙二醇甲醚110ml混入二氧化 锆水溶胶,采用分馏法将水替换成乙二醇甲醚得到二氧化锆醇溶胶。按重量百分比20%的 比例添加聚乙烯吡咯烷酮(PVP),充分搅拌,得到ZrO2-PVP醇溶胶。与二氧化硅(SiO2) 溶胶交替镀制高反膜。镀制11周期,在1064nm处透过率为0.98%;抗激光损伤阈值为 22J/cm2(1064nm,3ns)。