专利汇可以提供浸渍涂层装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 包括一种利用涂层溶液对 工件 进行涂层的装置。该装置包括涂层室,其中工件在所述涂层室进行涂层;和可 变形 涂层溶液供应容器,其用于将涂层溶液供应至所述涂层室中。所述涂层室和可变形涂层溶液供应容器 流体 连接,以致于所述涂层溶液可在所述涂层室和可变形涂层溶液供应容器之间流动。,下面是浸渍涂层装置专利的具体信息内容。
1、一种利用涂层溶液对工件进行涂层的装置,所述装置包括:
在其中对工件进行涂层的涂层室;
用于将所述涂层溶液供应至所述涂层室的涂层溶液供应容器;以 及
以可通过流体方式连接所述涂层室和涂层溶液供应容器的流体连 接机构,以致于所述涂层溶液能够在所述涂层室和涂层溶液供应容器 之间流动,其中所述涂层溶液供应容器至少为下列容器中的一个:能 变形涂层溶液供应容器、密闭密封的能变形的供应容器、体积能减小 的供应容器、以及能溃缩涂层溶液的供应容器。
2、如权利要求1所述的装置,其中所述涂层溶液供应容器被构造 成借助于手动操作而变形、体积减小或者溃缩。
3、如权利要求1所述的装置,其中所述涂层溶液供应容器能够相 对于所述涂层室定位于第一高度,导致所述涂层溶液流至所述涂层室 中。
4、如权利要求3所述的装置,其中所述涂层溶液供应容器能够位 于第二高度,导致所述涂层溶液从所述涂层室流至所述涂层溶液供应 容器中。
5、如权利要求1所述的装置,其还包括使所述涂层溶液供应容器 变形、体积减小或溃缩的机构,用以提供原动力,将所述涂层溶液移 至所述涂层室中,并允许所述涂层溶液流回到所述涂层溶液供应容器 中。
6、如权利要求5所述的装置,其中所述机构包括保持室,其用于 保持所述涂层溶液供应容器,将液压供应到该保持室中并且施加至所 述涂层溶液供应容器中,从而迫使所述涂层溶液从所述容器流至所述 涂层室中,且通过减小液压,允许所述涂层溶液从所述涂层室流至所 述涂层溶液供应容器中。
7、如权利要求5所述的装置,其中所述机构包括板件,其用于将 作用力施加到所述涂层溶液供应容器的外表面上,以迫使所述涂层溶 液从所述涂层溶液供应容器流至所述涂层室中,该板件能够缩回,从 而使所述涂层溶液从所述涂层室流回至所述涂层溶液供应容器中。
8、如权利要求1所述的装置,其还包括阀门机构,该阀门机构与 所述流体连接机构协同作用,用以控制液流从所述涂层溶液供应室流 至所述涂层室中。
9、一种用于向工件提供涂层的成套设备,所述成套设备包括:
密闭密封性涂层溶液容器;
涂层溶液;
在其中对工件进行涂层的涂层室;以及
以可通过流体方式将所述涂层室与密闭密封性涂层溶液容器连接 起来的流体连接机构。
10、如权利要求9所述的成套设备,其中所述涂层溶液被设置在 所述密闭密封性涂层溶液容器中。
11、如权利要求9所述的成套设备,其中所述密闭密封性涂层溶 液容器至少为能变形容器、能溃缩容器、或体积能减小容器中的一种。
12、如权利要求9所述的成套设备,其还包括与所述流体连接机 构协同作用的阀门机构。
保护性涂层通过各种涂层技术而被涂敷到表面上。在商业运营上 较为常见的技术之一是浸渍涂层法。浸渍涂层法包括以下步骤:将要 进行涂层的物品浸入涂层溶液中,之后或将所述涂层物品从溶液中回 收,或回收所述溶液而使其与所述涂层物品相分离。这种处理工艺尤 其适合于需要对工件进行完全而快速涂层的商业运营。这两种浸渍涂 层法都在工件的表面上形成溶液薄层,所述溶液薄层干燥后形成为所 希望的涂层。
在美国专利Nos.3,421,477和5,720,815中对一般的浸渍涂层法也 进行了讨论。在由Schunk,Hurd和Brinker所著的“Free-Meniscus Coating Processes”(1997,Liquid Film Coating,eds Kistler和 Schweizer,Chapman&Hall出版社)中找到了对浸渍涂层法的全面的评 论。在Deryagin和Levi(1964,“Film Coating Theory”,伦敦:Focal 出版社)以及Scriven(1988,Physics and application of dip coating and spin coating)的著作中对利用回收法而进行浸渍涂层的原理进行了讨 论。在Jeffeys(1930,Draining of a vertical plate.Proc.Camb.Phil.Soc. 26:204-205),Van Rossum(1958,Viscous lifting and drainage of liquid. Appl.Sci.Res.A.7:121-144)以及Groenveld(1971,Drainage and withdrawal of liquid films.AIChE J.17:489-490)的文章中对利用排放法 而进行涂层进行了研究。
尤其令人关注的一种方法是这样一种涂层室,在该涂层室充满涂 层溶液的同时,所要涂层的工件保持静止在所述涂层室中。之后利用 重力作用而将所述涂层溶液从所述涂层室中移除,也就是说,允许所 述溶液从所述涂层室中排出。这种系统在对大量工件进行涂层时需要 对所述涂层室进行多次循环的填充和排空并且需要对工件进行多次循 环的放置和取出。目前有几家厂商提供商用浸渍涂层机,这些浸渍涂 层机依靠重力而将涂层溶液排出所述涂层室,从而将涂层沉积在工件 上。一个商业实例是美国加利福尼亚州圣克拉拉Intevac公司的SJT Disk Luber,该设备将润滑剂薄膜沉积到磁盘上。由于在涂层的过程中 没有机械振动,从而得到提高的涂层的均匀性。WO 2001/38005A描述 了这样一种装置,该装置利用重力驱排出法,用以将所述涂层溶液从 涂层室中移除,从而将UV漆层沉积到光学透镜上。
在浸渍涂层中需要注意的一个地方是涂层溶液中溶剂的使用。在 浸渍涂层中所用的溶剂通常具有挥发性,需要特别注意,以使因其挥 发而造成的溶剂损耗减至最小。对所述涂层室和保持器进行的多次填 充和排空循环加大了溶剂的损耗。已被用于使溶剂损耗减到最小的一 种方案是使用冷却槽来降低溶剂的温度,从而减少使蒸发减到最小。 此外,还已尝试了在涂层过程中对涂层溶液保持器或涂层室进行密封, 或对这二者均进行密封。然而,这种密封方法并没有消除涂层溶液的 损耗。
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