专利汇可以提供脉冲激光沉积装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 脉冲激光沉积 装置,包括沉积腔以及设于沉积腔内的靶材和 基板 座,所述的基板座与靶材相对设置,沉积腔腔体上设有与靶材倾斜相对的光学窗口,用于入射脉冲激光以轰击靶材,靶材烧蚀后产生等离子气并到达基板座上的基板表面,作用生成目标 薄膜 ,所述的靶材为圆盘状,包括多种不同材料的扇形体;由于靶材是多种不同单元材料构成的多元靶材,绕中 心轴 旋转时,脉冲激光光束周期性照射在各单元靶材表面,由各单元靶材产生的等离子气在基板上进行自组装,形成所需的目标薄膜材料,通过调整多元靶材中的不同材料的面积比,即可得到任意比例的薄膜。,下面是脉冲激光沉积装置专利的具体信息内容。
1.一种脉冲激光沉积装置,包括沉积腔以及设于沉积腔内的靶材(4)和基板座(1),所述的基板座(1)与靶材(4)相对设置,沉积腔腔体上设有与靶材倾斜相对的光学窗口,用于入射脉冲激光(5)以轰击靶材(4),靶材(4)烧蚀后产生等离子气(3)并到达基板座(1)上的基板(2)表面,作用生成目标薄膜,其特征在于:所述的靶材(4)为圆盘状,由多种不同材料的扇形体组成。
2.根据权利要求1所述的一种脉冲激光沉积装置,其特征在于,所述的靶材(4)可转动。
3.根据权利要求1所述的一种脉冲激光沉积装置,其特征在于,所述的基板座(1)可转动。
4.根据权利要求2或3所述的一种脉冲激光沉积装置,其特征在于,所述靶材(4)和基板座(1)的转动方向相反。
5.根据权利要求4所述的一种脉冲激光沉积装置,其特征在于,所述的靶材(4)设于沉积腔底部,所述的基板座(1)设于沉积腔顶部。
6.根据权利要求5所述的一种脉冲激光沉积装置,其特征在于,所述的靶材(4)为二元靶材,包括夹角为θA的A材料扇形体(42)和夹角为θB的B材料扇形体(41),θA+θB =360°。
7.根据权利要求5所述的一种脉冲激光沉积装置,其特征在于,所述的靶材(4)为A材料扇形体(42)、B材料扇形体(41)和C材料扇形体构成的三元靶材。
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