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一种真空磁控膜工艺

阅读:774发布:2020-05-11

专利汇可以提供一种真空磁控膜工艺专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 真空 磁控 镀 膜 工艺,本发明利用多弧离子磁控镀膜机进行镀膜,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的放 电介质 气体的成分、比例或流量而使同一种金属靶材镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果;本发明工艺简单,易于实施,成本低,能够用一种单纯的靶材而达到五颜六色的镀膜效果。,下面是一种真空磁控膜工艺专利的具体信息内容。

1.一种真空磁控膜工艺,其特征在于:包括以下步骤:
选用多弧离子磁控镀膜机,选用金属靶材进行镀膜;
将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室;
-2
多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空,在真空室的真空度达到10×10 Pa~-2
2×10 Pa后,关闭光栅
向真空室充入至少一种放电介质气体,使真空室的真空度达到1~5Pa;
进行镀膜,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量而使同一种金属靶材镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果;
镀膜时间为10~50分钟;
完成镀膜,取出产品。
2.根据权利要求1所述的一种真空磁控镀膜工艺,其特征在于:所述金属靶材选用靶、不锈靶、铬靶、镍靶、钛合金靶中的一种。
3.根据权利要求2所述的一种真空磁控镀膜工艺,其特征在于:所述放电介质气体为惰性气体和非惰性气体的混合气体或者单一惰性气体。
4. 根据权利要求3所述的一种真空磁控镀膜工艺,其特征在于:所述放电介质气体为氩气,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气的流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。
5.根据权利要求3所述的一种真空磁控镀膜工艺,其特征在于:所述放电介质气体为氩气和氮气的混合气体,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气和氮气的比例、流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。
6.根据权利要求3所述的一种真空磁控镀膜工艺,其特征在于:所述放电介质气体为氩气和气的混合气体,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气和氧气的比例、流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。
7.根据权利要求1至6之一所述的一种真空磁控镀膜工艺,其特征在于:在镀膜过程
2
中,真空室内的压为3-5Kg/cm,温度为200~350℃。
8.根据权利要求7所述的一种真空磁控镀膜工艺,其特征在于:在向真空室充入放电-2
介质气体前,真空室的真空度达到5×10 Pa。
9.根据权利要求8所述的一种真空磁控镀膜工艺,其特征在于:在向真空室充入放电介质气体后,真空室的真空度达到2Pa。
10.根据权利要求9所述的一种真空磁控镀膜工艺,其特征在于:所述镀膜时间为
15~45分钟。

说明书全文

一种真空磁控膜工艺

技术领域

[0001] 本发明涉及镀膜工艺技术领域,特指一种真空磁控镀膜工艺。

背景技术

[0002] 传统的真空磁控镀膜和离子镀膜技术,如专利公开号为“CN1137572”、专利名称为“柱形靶电弧汽相淀积装置及方法”的中国专利,以及专利公开号为“CN101182634”、专利名称为“一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器”的中国专利所示,现有技术中,利用空磁控镀膜和离子镀膜技术只能够把靶材的材料原原本本的镀到产品表面,色彩单一,镀膜效果较差。

发明内容

[0003] 本发明的目的在于针对现有技术的不足提供一种真空磁控镀膜工艺,本发明工艺简单,易于实施,成本低,能够用一种单纯的靶材而达到五颜六色的镀膜效果。
[0004] 为实现上述目的,本发明是通过以下技术方案实现的:一种真空磁控镀膜工艺,包括以下步骤:
选用多弧离子磁控镀膜机,选用金属靶材进行镀膜;
将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室;
-2
多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空,在真空室的真空度达到10×10 Pa~-2
2×10 Pa后,关闭光栅
向真空室充入至少一种放电介质气体,使真空室的真空度达到1~5Pa;
进行镀膜,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量而使同一种金属靶材镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果;
镀膜时间为10~50分钟;
完成镀膜,取出产品。
[0005] 所述金属靶材选用靶、不锈靶、铬靶、镍靶、钛合金靶中的一种。
[0006] 所述放电介质气体为惰性气体和非惰性气体的混合气体或者单一惰性气体。 [0007] 所述放电介质气体为氩气,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气的流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。
[0008] 所述放电介质气体为氩气和氮气的混合气体,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气和氮气的比例、流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。
[0009] 所述放电介质气体为氩气和气的混合气体,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气和氧气的比例、流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。
[0010] 在镀膜过程中,真空室内的压为3-5Kg/cm2,温度为200~350℃。
[0011] 在向真空室充入放电介质气体前,真空室的真空度达到5×10-2Pa。
[0012] 在向真空室充入放电介质气体后,真空室的真空度达到2Pa。
[0013] 所述镀膜时间为15~45分钟。
[0014] 本发明的有益效果:本发明利用多弧离子磁控镀膜机进行镀膜,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量而使同一种金属靶材镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果;本发明工艺简单,易于实施,成本低,能够用一种单纯的靶材而达到五颜六色的镀膜效果。

具体实施方式

[0015] 实施例一。
[0016] 一种真空磁控镀膜工艺,包括以下步骤:选用多弧离子磁控镀膜机,选用金属靶材进行镀膜;于较佳实施方式中,金属靶材选用
99.99%的钛靶;
当然,金属靶材亦可以选用不锈钢靶、铬靶、镍靶、钛合金靶中的一种。选用不同类型的金属靶材可以得到不同色彩效果的镀膜。
[0017] 将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室。
[0018] 多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空,在真空室的真空度达到10×10-2Pa~-22×10 Pa后,关闭光栅阀;
于较佳实施方式中,在向真空室充入放电介质气体前,真空室的真空度的较佳值为-2 -2 -2
8×10 Pa~4×10 Pa,真空室的真空度的最佳值为5×10 Pa。
[0019] 向真空室充入至少一种放电介质气体,放电介质气体为惰性气体和非惰性气体的混合气体或者单一惰性气体;惰性气体包括氖、氩、氙和氡等;
非惰性气体包括氧和氮等。
[0020] 向真空室充入放电介质气体,使真空室的真空度达到1~5Pa;于较佳实施方式中,在向真空室充入放电介质气体后,真空室的真空度的较佳值为
2~4 Pa,真空室的真空度的最佳值为2Pa。
[0021] 进行镀膜,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量而使同一种金属靶材镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。
[0022] 本发明的工艺既可以是在对同一个产品的镀膜过程中调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量,使产品上镀有五颜六色的镀膜,亦可以针对不同的产品调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量,使不同的产品具有不同颜色的镀膜。
[0023] 镀膜时间为10~50分钟;其中,较佳的镀膜时间为15~45分钟,最佳镀膜时间为20~25分钟;
2
在镀膜过程中,真空室内的压力为3-5Kg/cm,温度为200~350℃。
[0024] 完成镀膜,镀膜完成后按照标准的停机程序停机即可,取出产品。
[0025] 本发明是在现有真空磁控镀的基础上,利用辉光放电的原理,通过改变放电介质气体的成分和比例来达到合镀膜具有各种不同的色彩效果,能够用一种单纯的靶材而达到五颜六色的镀膜效果。本发明的工艺能够做出传统镀膜无法达到的效果,而且成本低廉,能够广泛应用与各种金属产品、玻璃制品和塑胶制品。
[0026] 实施例二。
[0027] 一种真空磁控镀膜工艺,包括以下步骤:选用多弧离子磁控镀膜机,多弧离子磁控镀膜机选用1.2米直径真空镀膜机,选用
99.99%的钛靶。
[0028] 将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室。
[0029] 多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空,在真空室的真空度达到10×10-2Pa~-22×10 Pa后,关闭光栅阀。
[0030] 向真空室充入放电介质气体,放电介质气体为氩气,使真空室的真空度达到1~5Pa,放电介质气体的流量在100-400ml/s,镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气的流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。
[0031] 镀膜时间为15~45分钟;2
在镀膜过程中,真空室内的压力为3-5Kg/cm,温度为200~350℃。温度的变化尤其对五金类产品有影响,温度的选择有利于覆加镀膜在产品上的附着力,特别是对于、不锈钢、素钢、合金钢等产品,温度为200~350℃能进一步提高镀膜的附着力。
[0032] 完成镀膜,取出产品。
[0033] 实施例三。
[0034] 一种真空磁控镀膜工艺,包括以下步骤:选用多弧离子磁控镀膜机,多弧离子磁控镀膜机选用1.2米直径真空镀膜机,选用
99.99%的钛靶。
[0035] 将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室。
[0036] 多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空,在真空室的真空度达到10×10-2Pa~-22×10 Pa后,关闭光栅阀。
[0037] 向真空室充入放电介质气体,放电介质气体为氩气和氧气的混合气体,放电介质气体的流量在50-300ml/s,于较佳实施方式中,两种气体的比例从2:1至1:3之间的范围内选择;随着氧气比例的增加,颜色由灰白色向绿色,紫色变化。
[0038] 镀膜过程中通过调节充入到真空室内的氩气和氧气的比例、流量而使镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果。
[0039] 镀膜时间为15~45分钟;2
在镀膜过程中,真空室内的压力为3-5Kg/cm,温度为200~350℃。温度的变化尤其对五金类产品有影响,温度的选择有利于覆加镀膜在产品上的附着力,特别是对于铝、不锈钢、碳素钢、合金钢等产品,温度为200~350℃能进一步提高镀膜的附着力。
[0040] 完成镀膜,取出产品。
[0041] 实施例四。
[0042] 一种真空磁控镀膜工艺,包括以下步骤:选用多弧离子磁控镀膜机,多弧离子磁控镀膜机选用1.2米直径真空镀膜机,选用
99.99%的钛靶。
[0043] 将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室。
[0044] 多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空,在真空室的真空度达到10×10-2Pa~-22×10 Pa后,关闭光栅阀。
[0045] 向真空室充入放电介质气体,放电介质气体为氩气和氮气的混合气体,放电介质
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