1.用于施设多孔的玻璃层的方法，包括以下步骤：
准备至少一个基材，
准备至少一个玻璃靶极作为材料源，
借助于PVD法在基材上沉积至少一个具有超过1％的孔隙度的玻璃层，经由沉积率、基材温度和/或过程温度控制所述玻璃层的孔隙度。
2.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积率处在
0.1μm/min与10μm/min之间。
3.按照权利要求2所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积率处在
0.5μm/min与8μm/min之间。
4.按照权利要求3所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积率处1μm/min与4μm/min之间。
5.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，所述至少一个多孔的玻璃层的孔隙度处在1％与60％之间。
6.按照权利要求5所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，所述至少一个多孔的玻璃层的孔隙度处在5％与50％之间。
7.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，基材温度不超过120℃。
8.按照权利要求7所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，基材温度不超过100℃。
9.按照权利要求8所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，基材温度不超过80℃。
10.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，至少部分地借助于电子束蒸发来沉积多孔的玻璃层。
11.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积一具有在
1nm与1000μm之间的厚度的层。
12.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，准备至少一个材料源，该材料源产生一个包括至少一个二元系统的层。
13.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，准备一个沉积金属氧化物的材料源。
14.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，准备至少两个不同的材料源。
15.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，在一个过程步骤中沉积多孔的玻璃层。
16.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，在超过10-3毫巴的压力下沉积所述至少一个多孔的玻璃层。
17.按照权利要求16所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，在超过10-2毫巴的压力下沉积所述至少一个多孔的玻璃层。
18.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，给所述至少一个多孔的玻璃层至少部分地掺杂。
19.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积具有在
1nm与100μm之间的平均的微孔横截面的多孔的玻璃层。
20.按照权利要求19所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积具有在
100nm与10μm之间的平均的微孔横截面的多孔的玻璃层。
21.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，经由过程压力控制所述至少一个玻璃层的孔隙度。
22.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，在沉积多孔的玻璃层时添加水蒸气。
23.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积时添加至少一种挥发的有机的或无机的材料。
24.按照权利要求23所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积时添加甲烷、乙烷和/或乙炔。
25.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，在所述至少一个多孔的玻璃层的沉积过程中添加纳米粒子。
26.按照权利要求25所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，在所述至少一个多孔的玻璃层的沉积过程中机械地喷撒纳米粒子。
27.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，所述至少一个多孔的玻璃层形成薄膜。
28.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，该方法包括层从基材上的分离和/或基材的清除、溶解或减薄。
29.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，准备聚合物作为基材。
30.按照权利要求29所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，所述聚合物是聚氧化乙烯。
31.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，准备包括至少一种金属的基材。
32.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，作为基材，准备手性的载体材料和/或在多孔的层中加入至少一种手性的材料。
33.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，同时沉积至少一种起催化作用的材料。
34.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积结晶的区段。
35.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积TiO2。
36.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，用聚合物溶液浸渍多孔的玻璃层。
37.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，借助于液态相的涂布方法或借助于印刷方法由至少一种材料浸渍多孔的玻璃层。
38.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，至少部分地用半导的材料充填多孔的玻璃层。
39.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，至少部分地用导电的材料充填多孔的玻璃层。
40.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积一具有变化的孔隙度的梯度层。
41.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，沉积电致发光的材料。
42.按照权利要求41所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，所述电致发光的材料是有机的电致发光的材料。
43.按照权利要求42所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，所述有机的电致发光的材料是包括硅、镓、砷和/或磷的材料。
44.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，在所述至少一个多孔的玻璃层上施设密封层。
45.按照权利要求44所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，借助于PVD法施设密封层。
46.按照权利要求44所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，在一个过程步骤中施设玻璃层作为密封层。
47.按照权利要求44所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，密封层包括二元的系统。
48.按照权利要求44所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，在离子束压缩的情况下沉积一密封层。
49.按照权利要求44所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，在等离子作用的情况下和/或等离子支持地沉积密封层。
50.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，作为材料源，准备玻璃，该玻璃包括至少一种下列材料或具有多种或全部下列材料的以重量百分数计的混合物：
SiO2 65～85，
B2O3 10～30，
碱金属氧化物 0.1～7，
Al2O3 0.5～5。
51.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，作为材料源，准备玻璃，该玻璃包括至少一种下列材料或具有多种或全部下列材料的以重量百分数计的混合物：
SiO2 75～85，
B2O3 10～15，
Na2O 1～5，
Li2O 0.1～1，
Al2O3 1～5。
52.按照权利要求1所述的用于施设多孔的玻璃层的方法，其特征在于，作为材料源准备玻璃，该玻璃包括至少一种下列材料或具有多种或全部下列材料的以重量百分数计的混合物：
SiO2 65～75，
B2O3 20～30，
Na2O 0.1～1，
Li2O 0.1～1，
K2O 0.5～5，
Al2O3 0.5～5。
53.用于施设玻璃层的方法，包括下列各步骤：
准备至少一个基材，
准备至少一个玻璃靶极作为材料源，
沉积至少一个多孔的玻璃层，经由沉积率、基材温度和/或过程温度控制所述玻璃层的孔隙度。
54.按照权利要求53所述的用于施设玻璃层的方法，其特征在于，沉积具有超过1％的孔隙度的多孔的玻璃层。
55.按照权利要求53所述的用于施设玻璃层的方法，其特征在于，借助于PVD法在基材上沉积多孔的玻璃层。
56.按照权利要求53所述的用于施设玻璃层的方法，其特征在于，借助于蒸发在基材上沉积多孔的玻璃层。
57.复合材料，利用一种按照上述权利要求之一项所述用于施设多孔的玻璃层或玻璃层的方法来制造。
58.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，复合材料包括基材。
59.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层构成为功能层。
60.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层的孔隙度处在1％与
60％之间。
61.按照权利要求60所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层的孔隙度处在5％与
50％之间。
62.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，层的孔隙度沿层厚变化小于50％。
63.按照权利要求62所述的复合材料，其特征在于，层的孔隙度沿层厚变化小于30％。
64.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层基本上是均质的。
65.按照权利要求64所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层的孔隙度逐渐地和/或交替地变化。
66.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层具有在1nm与
1000μm之间的厚度。
67.按照权利要求66所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层具有在30nm与
100μm之间的厚度。
68.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层包括至少一个二元的系统。
69.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层包括至少一种金属氧化物。
70.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，给多孔的玻璃层至少部分地掺杂。
71.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层具有在1nm与
100μm之间的平均的横截面的微孔。
72.按照权利要求71所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层具有在100nm与
10μm之间的平均的横截面的微孔。
73.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，复合材料包括基材，该基材包括聚合物。
74.按照权利要求73所述的复合材料，其特征在于，所述聚合物是聚氧化乙烯。
75.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，复合材料包括基材，该基材包括至少一种金属。
76.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，复合材料包括基材，该基材包括手性的载体材料。
77.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层包括至少一种手性的材料。
78.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，载体材料包括至少一种起催化作用的材料。
79.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层具有光学的作用。
80.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层构成波长选择性的。
81.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层包括至少一种光活性的材料。
82.按照权利要求81所述的复合材料，其特征在于，所述光活性的材料是颜料。
83.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层包括TiO2。
84.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层包括至少一种纳米材料。
85.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，多孔的玻璃层具有纳米构造。
86.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，复合材料具有密封层。
87.按照权利要求86所述的复合材料，其特征在于，所述密封层是玻璃密封层。
88.按照权利要求86所述的复合材料，其特征在于，密封层具有低于1.0％的孔隙度。
89.按照权利要求88所述的复合材料，其特征在于，密封层具有低于0.5％的孔隙度。
90.按照权利要求89所述的复合材料，其特征在于，密封层具有低于0.1％的孔隙度。
91.按照权利要求86所述的复合材料，其特征在于，密封层包括至少二元的材料系统。
92.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，密封层包括金属氧化物。
93.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，借助于PVD法沉积多孔的玻璃层。
94.按照权利要求57所述的复合材料，其特征在于，借助于蒸发来沉积多孔的玻璃层。
95.离子选择性的电极，包括按照权利要求57所述的复合材料。
96.蓄电池，包括按照权利要求57所述的复合材料。
97.催化剂材料，包括按照权利要求57所述的复合材料。
98.过滤器，包括按照权利要求57所述的复合材料。
99.根据权利要求98所述的过滤器，其特征在于，所述过滤器是干涉滤光器。
100.透镜、菲涅耳透镜或衍射光元件，包括按照权利要求57所述的复合材料。
101.用于生物组织的载体材料，包括按照权利要求57所述的复合材料。
102.用于人体或动物体的植入物，包括按照权利要求57所述的复合材料。
103.光学的数据存储器，包括按照权利要求57所述的复合材料。
104.光电子构件，包括按照权利要求57所述的复合材料。
105.光子结晶体，包括按照权利要求57所述的复合材料或利用按照权利要求1至56之一项所述的方法来制造。
106.光子构件，包括按照权利要求57所述的复合材料。
107.电技术的或电化学的构件，包括按照权利要求57所述的复合材料。
108.电容器，包括按照权利要求57所述的复合材料。
109.隐身涂层，利用按照权利要求1至56之一项所述的方法制造。
110.薄膜，利用按照权利要求1至56之一项所述的方法制造。
111.抗水汽层和/或抗冻层，利用按照权利要求1至56之一项所述的方法制造。
112.按照权利要求111所述的抗水汽层和/或抗冻层，包括纳米粒子。
113.按照权利要求112所述的抗水汽层和/或抗冻层，其特征在于，所述纳米粒子是含硅的纳米粒子。
114.按照权利要求111所述的抗水汽层和/或抗冻层，还包括至少一种有机聚合物。
115.按照权利要求114所述的抗水汽层和/或抗冻层，其特征在于，所述有机聚合物是聚氨酯和/或聚乙烯醇。