磁控溅射靶
阅读：1014发布：2020-05-23
专利汇可以提供磁控溅射靶专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型涉及一种 磁控溅射 靶，包括靶座、至少一个靶材、靶芯，所述靶材、靶芯均设置在靶座上，其特征在于，所述靶芯包括三个磁芯，所述磁芯为12面充磁、且一端端部的厚度小于其他部位厚度的磁 铁 。本实用新型通过将磁芯端部的厚度减小，降低磁芯端部的 磁场 强度，从而使磁场闭合点处的磁场强度与其他部位的磁场强度相当，避免因磁场不均匀而造成靶材溅射的不均匀。使靶材不同部位的溅射速率相当，提高 镀 膜 均匀度，提高靶材的寿命达20％左右，降低靶材的消耗，降低生产成本。，下面是磁控溅射靶专利的具体信息内容。
磁控溅射靶
技术领域
背景技术
[0002] 磁控溅射技术被广泛应用于材料表面装饰、材料表面改性，光学器件制造，电子等多个领域。在生产中，磁控溅射仪的靶材是易耗件，需要经常更换，是磁控溅射技术的主要成本之一，其消耗的速度直接决定了磁控溅射成本的大小。近期，本领域的技术人员曾对磁控溅射靶的结构进行改进，以提高靶材的利用率。
[0003] 例如，申请号为:CN200910305378.1，名称为“磁控溅射靶及采用该磁控溅射靶的磁控溅射装置”的专利申请，公开的磁控溅射靶包括靶座、至少一个靶材、多个磁芯以及磁芯平移机构，所述靶材固定在所述靶座上，所述多个磁芯固定在所述磁芯平移机构上，所述每两个相邻的磁芯的磁性相反。该发明中，在磁控溅射靶上设置磁芯平移机构，使得镀膜过程中能通过运动的磁场来控制镀膜粒子均匀分布，从而改善镀膜的均匀度。且通过多个磁芯的磁场分布，提高镀膜粒子的撞击次数，从而提高靶材的利用率。
[0004] 又如，申请号为CN200910304378.X，名称为“磁控溅射靶”的专利申请，公开的磁控溅射靶包括一个中空靶材以及一个磁靶。所述磁靶收容在所述靶材内。所述磁靶包括一个环状的支架以及多个条状磁铁。所述多个磁铁呈放射状地设置在所述支架上。所述支架上相邻的两个磁铁的磁极相反并在多个相邻的磁铁之间形成多个呈花瓣状分布的多个磁场，所述多个磁场覆盖靶材的内外表面且磁场方向交替变化。且覆盖靶材的内外表面。本发明磁控溅射靶通过所述磁靶形成的多个花瓣状磁场覆盖靶材内外表面，从而使所述靶材的内外表面均被有效利用，从而提高了靶材的使用效率。
[0005] 但是，由于磁芯端部为磁场的闭合点，此处的磁场强度较大，束缚的电子数量较多，溅射速率较大，此处的靶材较其他溅射部位容易消耗，引起溅射速率、沉积速率不均匀，影响镀膜均匀度。长时间使用后靶材端部形成凹槽，当靶材端部的消耗量达到更换的标准时，靶材中间部位的损耗还未达到更换的标准，则将造成中间部位靶材的浪费，减少靶材使用寿命。实用新型内容
[0006] 为了解决上述技术目的，本实用新型提供了一种磁控溅射靶，能够有效的提高靶芯中的磁芯的利用率。
[0007] 本实用新型是通过以下技术方案实现上述技术目的的。
[0008] 一种磁控溅射靶，包括靶座、至少一个靶材、靶芯，所述靶材、靶芯均设置在靶座上，其特征在于，所述靶芯包括三个磁芯，所述磁芯为12面充磁、且一端端部的厚度小于其他部位厚度的磁铁。
[0009] 优选地，所述磁芯厚度小于其他部位的厚度的端部的形状为等腰梯形、直角梯形、三角形、椭圆型中的一种。
[0010] 本实用新型中，通过减小磁芯端部的厚度，降低磁芯端部处的磁场强度，从而使磁场闭合点处的磁场强度与其他部位的磁场强度相当，避免因磁场不均匀而造成靶材溅射的不均匀。使靶材不同部位的溅射速率相当，提高镀膜均匀度，提高靶材的寿命达20%左右，降低靶材的消耗，降低生产成本。附图说明
[0011] 图1为本实用新型所述磁控溅射靶的结构图。
[0012] 图2为所述磁芯形状几种常见结构图示。
[0013] 图中：1-靶座，2-磁芯，3-靶芯，4-靶材。
具体实施方式
[0014] 为了更清楚的介绍本实用新型的技术方案，下面结合附图及具体实施方式对本实用新型作进一步说明。
[0015] 本实用新型所述的磁控溅射靶，包括靶座1、至少一个靶材4、靶芯3，所述靶材4、靶芯3均设置在靶座1上，所述靶芯3包括三个磁芯2，所述磁芯2为12面充磁、且一端端部的厚度小于其他部位厚度的磁铁。普通的磁芯2为8×10×12的长方体形、12面充磁的磁铁，利用线切割技术将12面充磁面切削磁铁的端部形成厚度小的结构。所述磁芯2厚度小于其他部位的厚度的端部的形状为等腰梯形、直角梯形、三角形、椭圆型中的一种。
[0016] 本实用新型中的磁芯2的端部厚度小，降低了磁芯2端部处的磁场强度，从而使磁场闭合点处的磁场强度与其他部位的磁场强度相当，避免因磁场不均匀而造成靶材4溅射的不均匀。使靶材4不同部位的溅射速率相当，提高镀膜均匀度。
[0017] 表1采用所述磁控溅射靶的单靶磁控溅射仪的实验验证结果
[0018]
[0019] 一般靶材4的外径为70mm内径为55mm，一般使用周期在20天左右，靶材4中间部位的外径与顶端部为的外径相差约4～5mm，当靶材4的顶端部位的外径消耗到57mm时，则需要更换新的靶材4。而本实用新型所述的磁控溅射靶，能够使靶材4各部位的溅射速率相当，故靶材4各部位的消耗程度相当。通过采用所述磁控溅射靶的单靶磁控溅射仪的实验验证结果能够证实本实用新型的有益效果，如表1所示。靶材4中间部位的外径与顶端部为的外径相差0.2~1.6mm，延长靶材4使用周期3~5天左右。通过改变磁铁形状后提高靶材4的寿命达20%左右，降低靶材4的消耗，降低生产成本。
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台，是提供专利分析，专利查询，专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据，免费查、免费专利分析。
分析报告
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析，涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度，系统通过AI智能系统对图表进行解读，只需1分钟，一键生成行业专利分析报告。
磁控溅射热门专利
QQ群二维码
意见反馈
意见反馈