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智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法

阅读:265发布:2020-05-12

专利汇可以提供智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种智能镜子专用屏显玻璃的 磁控溅射 涂层的制备方法,包括以下步骤:S1:使用 高功率脉冲磁控溅射技术 将 氧 化镁装涂于基材玻璃上;S2:使用高功率脉冲磁控溅射技术将 二氧化 硅 装涂于基材玻璃上;S3:使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化 钛 装涂于基材玻璃上;S4:使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化铂装涂于基材玻璃上;S5:使用高功率脉冲磁控溅射技术将 二氧化硅 装涂于基材玻璃上,完成智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备。本发明使用高功率脉冲磁控溅射技术对基材玻璃进行5种靶材的5层表面装涂,通过调整5层材质的使用、 涂装 的顺序、涂装厚度的限制,实现理想的透射率、反射率控制,本发明的制备方法简单,使用方便,成本低。,下面是智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法专利的具体信息内容。

1.智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:使用高功率脉冲磁控溅射技术化镁装涂于基材玻璃上;
S2:使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化装涂于基材玻璃上;
S3:使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化装涂于基材玻璃上;
S4:使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化铂装涂于基材玻璃上;
S5:使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化硅装涂于基材玻璃上,完成智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备。
2.根据权利要求1所述的智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法,其特征在于,所述S1中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化镁装涂于基材玻璃上,在基材玻璃上装涂氧化镁层。
3.根据权利要求1所述的智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法,其特征在于,所述S2中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化硅装涂于基材玻璃上,在氧化镁层上装涂二氧化硅层。
4.根据权利要求1所述的智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法,其特征在于,所述S3中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化钛装涂于基材玻璃上,在二氧化硅层上装涂氧化钛层。
5.根据权利要求1所述的智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法,其特征在于,所述S4中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化铂装涂于基材玻璃上,在氧化钛层上装涂氧化铂层。
6.根据权利要求1所述的智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法,其特征在于,所述S5中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化硅装涂于基材玻璃上,在氧化铂层上装涂二氧化硅层,完成智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备。

说明书全文

智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法

技术领域

[0001] 本发明涉及玻璃溅射涂层技术领域,尤其涉及一种智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法。

背景技术

[0002] 智能镜子的镜面屏显玻璃的涂层能够实现镜下的LED屏幕显示与多点的触控交互;同时,能够适应高亮镜前灯、多尘、电磁波干扰、长时间不间断等复杂工况的正常工作,广泛应用于理发行业、智能家居行业、智能办公行业等领域。
[0003] 现有技术大多通过目前玻璃溅射涂层技术,使用不锈作为靶材对基材玻璃进行涂装;运用成熟的是在溅射的基础上,运用靶板材料自身的电场磁场的相互电磁交互作用,在靶板附近添加磁场,使得二次电子电离出更多的氩离子,增加溅射效率;磁控溅射分为平衡式与不平衡式;这种技术应用于基材玻璃膜;不锈钢形成的沉积致密薄膜可以实现镜面下的LED屏幕显示。
[0004] 但是,目前的基于不锈钢靶材的涂层玻璃,主要存在以前几点问题:1、玻璃表面为导电材料,导电材料不可以用于目前主流电阻触摸屏的工作面使用;
会导致触摸屏的完全失灵;基于不锈钢靶材的溅射涂层玻璃,仅可实现LED的非触控简单显示。
[0005] 2、不锈钢靶材玻璃的反射率低于35%;无法形成良好的镜面发射效果;普通家用镜的反射率在90%以上。
[0006] 3、不锈钢靶材玻璃的背面透射率低于50%;使用这种传统技术涂装的不锈钢靶材玻璃对于镜面下的LED屏幕有特殊亮度要求;普通常见的如200 250尼特亮度的屏幕,显示~效果会暗到难以辨识,不可使用。
[0007] 4、基于不锈钢靶材的涂层玻璃,在镜面效果上存在色温控制失准的情况:具体表现为屏幕偏冷或偏暖;与普通银镜有较大的观感差异,无法应用于理发店、服装店等对于镜子效果有比较严苛要求的使用场景。
[0008] 5、电磁波干扰将导致屏幕、触控以及主机主板上的常见无线电元器件(包括NFC、蓝牙、WIFI、红外等)的工作失灵。
[0009] 因此,我们提出了一种智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法用于解决上述问题。

发明内容

[0010] 基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法。
[0011] 本发明提出的智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法,包括以下步骤:S1:使用高功率脉冲磁控溅射技术化镁装涂于基材玻璃上;
S2:使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化装涂于基材玻璃上;
S3:使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化装涂于基材玻璃上;
S4:使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化铂装涂于基材玻璃上;
S5:使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化硅装涂于基材玻璃上,完成智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备。
[0012] 优选地,所述S1中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化镁装涂于基材玻璃上,在基材玻璃上装涂氧化镁层。
[0013] 优选地,所述S2中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化硅装涂于基材玻璃上,在氧化镁层上装涂二氧化硅层。
[0014] 优选地,所述S3中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化钛装涂于基材玻璃上,在二氧化硅层上装涂氧化钛层。
[0015] 优选地,所述S4中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化铂装涂于基材玻璃上,在氧化钛层上装涂氧化铂层。
[0016] 优选地,所述S5中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化硅装涂于基材玻璃上,在氧化铂层上装涂二氧化硅层,完成智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备。
[0017] 本发明中,所述智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法使用高功率脉冲磁控溅射技术对基材玻璃进行5种靶材的5层表面装涂,通过调整5层材质的使用、涂装的顺序、涂装厚度的限制,实现理想的透射率、反射率控制,本发明的制备方法简单,使用方便,成本低。

具体实施方式

[0018] 下面结合具体实施例对本发明作进一步解说。实施例
[0019] 本实施例提出了智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法,包括以下步骤:S1:使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化镁装涂于基材玻璃上;
S2:使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化硅装涂于基材玻璃上;
S3:使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化钛装涂于基材玻璃上;
S4:使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化铂装涂于基材玻璃上;
S5:使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化硅装涂于基材玻璃上,完成智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备。
[0020] 本实施例中,S1中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化镁装涂于基材玻璃上,在基材玻璃上装涂氧化镁层,S2中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化硅装涂于基材玻璃上,在氧化镁层上装涂二氧化硅层,S3中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化钛装涂于基材玻璃上,在二氧化硅层上装涂氧化钛层,S4中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将氧化铂装涂于基材玻璃上,在氧化钛层上装涂氧化铂层,S5中,使用高功率脉冲磁控溅射技术将二氧化硅装涂于基材玻璃上,在氧化铂层上装涂二氧化硅层,完成智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备,智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层的制备方法使用高功率脉冲磁控溅射技术对基材玻璃进行5种靶材的5层表面装涂,通过调整5层材质的使用、涂装的顺序、涂装厚度的限制,实现理想的透射率、反射率控制,本发明的制备方法简单,使用方便,成本低。
[0021] 本实施例中,使用高功率脉冲磁控溅射对基材玻璃进行多重不同材质的混合涂装;高功率脉冲磁控溅射在数十微秒的低占空比(<10%)短脉冲内采用kW·cm-2量级的高功率密度;高功率脉冲磁控溅射不同常规磁控溅射的特性是其高的溅射粒子离化率和分子气体解离速率,从而得到致密的沉积薄膜;电离和解离率随峰值靶功率的增加而增加,上限受放电过程由辉光向弧光转变限制;需选择合适的峰值电流和占空比以维持靶的平均功率与常规磁控溅射相当(1-10 W·cm-2)。
[0022] 本实施例中,对制得的智能镜子专用屏显玻璃的磁控溅射涂层进行测试,测试结果为:可以实现此种镜面的多点触控;镜面成不导电的特性,使得镜面下的触摸层可以正常、稳定工作;镜面反射率达74%以上,透射率65%以上;正面拥有良好的接近普通镜子的镜面效果;背面安装的LED显示器在达到220尼特时,可以拥有良好的观感,可以正常观看使用;精准色温,保持5500K正负5%;完全满足理发店、试衣间等场景的使用要求;通过五层金属氧化图层的封装,实现对镜面下所有元器件的良好电磁屏蔽保护。
[0023] 以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
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