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一种车桥壳消失模铸造模具

阅读:1012发布:2020-06-22

专利汇可以提供一种车桥壳消失模铸造模具专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种车 桥壳 体 消失模 铸造 模具,包括上模组件、下模组件和白模组件,白模组件位于上模组件和下模组件组成的浇注腔内;上模组件顶部设有浇注管和若干出气管。上述 铸造模具 使用消失模代替传统的模芯,可以满足高复杂产品的要求,不会出现传统砂型铸造中因砂芯尺寸不准或下芯 位置 不准确造成铸件壁厚不均等问题,污染物 排放量 小、降低投资和生产成本。,下面是一种车桥壳消失模铸造模具专利的具体信息内容。

1.一种车桥壳消失模铸造模具,其特征在于:包括上模组件、下模组件和白模组件,所述白模组件位于上模组件和下模组件组成的浇注腔内;所述上模组件顶部设有浇注管和若干出气管。
2.根据权利要求1所述的车桥壳体消失模铸造模具,其特征在于:所述出气管上端为S形。
3.根据权利要求1所述的车桥壳体消失模铸造模具,其特征在于:所述白模组件为拼接式,由多个活构成,所述各活块之间采用粘接的方式连接。
4.根据权利要求3所述的车桥壳体消失模铸造模具,其特征在于:所述白模组件的材料为聚苯乙烯、聚酯或聚乙烯。

说明书全文

一种车桥壳消失模铸造模具

技术领域

[0001] 本发明涉及消失模铸造技术领域,具体涉及一种车桥壳体消失模铸造模具

背景技术

[0002] 传统的中大型铸件一般采用粘土砂铸造工艺,精度差、能耗高。现代精密铸造中大多采用消失模铸造(又称实型铸造)技术,上述技术是将与铸件尺寸形状相似的石蜡泡沫模型粘结组合成模型簇,刷涂耐火涂料并烘干后,埋在干石英砂中振动造型,在负压下浇注,使模型气化,液体金属占据模型位置凝固冷却后形成铸件的新型铸造方法,精度高、效率高。消失模铸造是一种近无余量、精确成型的新工艺,该工艺无需取模、无分型面、无砂芯,因而铸件没有飞边、毛刺和拔模斜度,并减少了由于型芯组合而造成的尺寸误差。铸件表面粗糙度可达Ra3.2至12.5μm;铸件尺寸精度可达CT7至9;加工余量最多为1.5至2mm,可大大减少机械加工费用,和传统砂型铸造方法相比,可以减少40%至50%的机械加工时间。
[0003] 车桥壳体结构复杂,采用传统工艺生产时为弥补精度的不足往往需要预留大量的机械加余量,已不能满足现代生产的需要。

发明内容

[0004] 本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足,本发明提供的车桥壳体消失模铸造模具,使用消失模代替传统的模芯,可以满足高复杂产品的要求,污染物排放量小、降低投资和生产成本。
[0005] 为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种车桥壳体消失模铸造模具,包括上模组件、下模组件和白模组件,所述白模组件位于上模组件和下模组件组成的浇注腔内;所述上模组件顶部设有浇注管和若干出气管。
[0006] 作为本发明进一步改进的,所述出气管上端为S形。
[0007] 作为本发明进一步改进的,所述白模组件为拼接式,由多个活构成,所述各活块之间采用粘接的方式连接。
[0008] 作为本发明进一步改进的,所述白模组件的材料为聚苯乙烯、聚酯或聚乙烯。
[0009] 由于上述技术方案的运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:本发明方案的车桥壳体消失模铸造模具,使用消失模代替传统的模芯,可以满足高复杂产品的要求,不会出现传统砂型铸造中因砂芯尺寸不准或下芯位置不准确造成铸件壁厚不均等问题,污染物排放量小、降低投资和生产成本。
附图说明
[0010] 下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明:附图1为本发明的车桥壳体消失模铸造模具的结构示意图;
附图2为本发明的车桥壳体消失模铸造模具的白模示意图。
[0011] 图中:1、上模组件;2、白模;3、下模组件;4、出气管;5、浇注管。

具体实施方式

[0012] 下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步的详细说明。
[0013] 在本发明的描述中,需要理解的是,如“向前”、“向后”、“前”、“后”、“侧面”等指示方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了描述本发明或简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明保护范围的限制。
[0014] 如图1至图2所示的车桥壳体消失模铸造模具,使用时将白模2各活块依次拼装在上模组件1和下模组件3形成的浇注腔内。
[0015] 为实现上述目的,拼装白模2时,首先将上模组件1和下模组件3打开,并清理浇注腔内的各型面,注意在拼装白模前一定要在浇注腔的各内面上图上一层油脂。
[0016] 上模组件1的上端面内预留了用于安装浇注管5和出气管4的安装孔,上述出气管4的安装孔数量为8~10个,可根据需要使用或堵塞住。浇注管5的安装孔的位置唯一确定。
[0017] 以上仅是本发明的具体应用范例,对本发明的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案,均落在本发明权利保护范围之内。
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