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一种 氧化 硅 抛光 磨料的加工工艺

阅读：819发布：2020-05-13

专利汇可以提供一种氧化硅抛光磨料的加工工艺专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明公开了一种氧化硅抛光磨料的加工工艺，包括准备原料、过筛子、搅拌、球磨机中进行深度粉碎、滚动成型和出料后二次过筛等四个步骤，最终得到氧化硅抛光磨料。本发明采用球磨机对物料进行深度粉碎和滚动成型，并经过筛子得到粒径均匀的氧化硅抛光磨料，得到的氧化硅抛光磨料在常温下含水量为13.5％，比现有技术的烧结工艺得到的抛光磨料具有明显的优异性能。本发明可以大大提高抛光磨料的硬度、尺寸稳定性、致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和耐磨性能，克服了传统烧结工艺得到的抛光磨料脆性高的缺点。，下面是一种氧化硅抛光磨料的加工工艺专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种氧化硅抛光磨料的加工工艺，其特征在于：包括以下步骤：
步骤一：按重量百分比分别准备以下原料：氧化硅30～40％、钾长石20～30％、棕刚玉20～30％、高岭土10～20％、石英1～5％、纳米陶瓷粉透明液体5～15％；各组分重量百分比总和为100％，其中，所述纳米陶瓷粉透明液体的固含量为20～50％；
步骤二：将氧化硅、钾长石、棕刚玉、高岭土、石英各原料过筛子，筛子为400～600目，并加入纳米陶瓷粉透明液体搅拌均匀，得到糊状混合料；
步骤三：将步骤二得到的糊状混合料加入球磨机中，进行深度粉碎和滚动成型，球磨机的转速为45r/min，滚动时间为4～5h，边滚动边向球磨机内喷水，每隔15min补料，补料次数为2～10次，每次补料为氧化硅、钾长石、棕刚玉、高岭土、石英的混合粉料，补料的重量为糊状混合料的3～8％；步骤四：出料后二次过筛，筛子为800～1000目，即得到氧化硅抛光磨料。
2.如权利要求1所述的一种氧化硅抛光磨料的加工工艺，其特征在于：步骤三中补料次数为4～6次。
3.如权利要求1所述的一种氧化硅抛光磨料的加工工艺，其特征在于：步骤三中补料的重量为糊状混合料的3～5％。

说明书全文

一种氧化 硅 抛光 磨料的加工工艺

技术领域

[0001] 本发明属于抛磨材料加工技术领域，涉及一种氧化硅抛光磨料的加工工艺。

背景技术

[0002] 现有技术中，抛磨块是以刚玉或碳化硅等粉末为磨料，用烧结或浇注的方法制造的小型抛光磨具，主要用于抛光磨削各种金属或非金属物品的表面。用于金属抛光的抛磨块通常是使用高温烧结棕刚玉制造的抛磨块，由于现有工艺制作方法的影响，现有的抛磨块存在抛光质量差、耐磨度差等缺点，使用效果不够理想，因此很多高要求的抛光、磨削处理仍然是采用进口的抛磨块，这样大大提高了加工的生产成本。

发明内容

[0003] 本发明所要解决的技术问题就是提供一种氧化硅抛光磨料的加工工艺，可缩加工周期，提高成品率，同时提高成品的硬度、尺寸稳定性、致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和耐磨性能。

[0004] 为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种氧化硅抛光磨料的加工工艺，包括以下步骤：

[0005] 步骤一：按重量百分比分别准备以下原料：氧化硅30～40％、钾长石20～30％、棕刚玉20～30％、高岭土10～20％、石英1～5％、纳米陶瓷粉透明液体5～15％；各组分重量百分比总和为100％，其中，所述纳米陶瓷粉透明液体的固含量为20～50％；

[0006] 步骤二：将氧化硅、钾长石、棕刚玉、高岭土、石英各原料过筛子，筛子为400～600目，并加入纳米陶瓷粉透明液体搅拌均匀，得到糊状混合料；经过筛子筛选，可以得到哦粒径比较均匀的物料，有利于形成的糊状混合料内各组分分布均匀，有利于后序球磨机的粉碎。

[0007] 步骤三：将步骤二得到的糊状混合料加入球磨机中，进行深度粉碎和滚动成型，球磨机的转速为45r/min，滚动时间为4～5h，边滚动边向球磨机内喷水，每隔15min补料，补料次数为2～10次，每次补料为氧化硅、钾长石、棕刚玉、高岭土、石英的混合粉料，补料的重量为糊状混合料的3～8％；球磨机的深度粉碎和滚动成型，产生的气孔较小，有利于增加物料的致密性，提高密度和硬度，在滚动过程中间歇性补料，可以得到球形的抛光磨料，并且提高其尺寸稳定性和光洁度。

[0008] 步骤四：出料后二次过筛，筛子为800～1000目，即得到氧化硅抛光磨料。二次过筛，可以保证得到的抛光磨料粒径均匀，性能优异。

[0009] 优选的，步骤三中补料次数为4～6次。

[0010] 优选的，步骤三中补料的重量为糊状混合料的3～5％。

[0011] 与现有技术相比，本发明的优点是：采用球磨机对物料进行深度粉碎和滚动成型，并经过筛子得到粒径均匀的氧化硅抛光磨料，得到的氧化硅抛光磨料在常温下含水量为13.5％，比现有技术的烧结工艺得到的抛光磨料具有明显的优异性能。本发明可以大大提高抛光磨料的硬度、尺寸稳定性、致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和耐磨性能，克服了传统烧结工艺得到的抛光磨料脆性高的缺点。

[0012] 下面结合具体实施方式对本发明作进一步描述：

具体实施方式

[0013] 本发明一种氧化硅抛光磨料的加工工艺实施例1，包括以下步骤：

[0014] 步骤一：按重量百分比分别准备以下原料：氧化硅30～40％、钾长石20～30％、棕刚玉20～30％、高岭土10～20％、石英1～5％、纳米陶瓷粉透明液体5～15％；各组分重量百分比总和为100％，其中，所述纳米陶瓷粉透明液体的固含量为20～50％；

[0015] 步骤二：将氧化硅、钾长石、棕刚玉、高岭土、石英各原料过筛子，筛子为400目，并加入纳米陶瓷粉透明液体搅拌均匀，得到糊状混合料；经过筛子筛选，可以得到哦粒径比较均匀的物料，有利于形成的糊状混合料内各组分分布均匀，有利于后序球磨机的粉碎。

[0016] 步骤三：将步骤二得到的糊状混合料加入球磨机中，进行深度粉碎和滚动成型，球磨机的转速为45r/min，滚动时间为5h，边滚动边向球磨机内喷水，每隔15min补料，补料次数为8次，每次补料为氧化硅、钾长石、棕刚玉、高岭土、石英的混合粉料，补料的重量为糊状混合料的5％；球磨机的深度粉碎和滚动成型，产生的气孔较小，有利于增加物料的致密性，提高密度和硬度，在滚动过程中间歇性补料，可以得到球形的抛光磨料，并且提高其尺寸稳定性和光洁度。

[0017] 步骤四：出料后二次过筛，筛子为800目，即得到氧化硅抛光磨料。二次过筛，可以保证得到的抛光磨料粒径均匀，性能优异。

[0018] 采用传统烧结工艺得到的抛光磨料，会形成很多气孔，并且气孔孔径一般较大，使得抛光磨料很脆，易碎，而且耐热温度一般在1300～1400℃，难以满足生产使用需要，而且烧结时间需要36～40h，烧结周期长，而本发明的加工工艺成型周期大大缩短，得到的抛光磨料耐热温度大大提高，可达1700℃以上。

[0019] 本发明一种氧化硅抛光磨料的加工工艺实施例2，包括以下步骤：

[0020] 步骤一：按重量百分比分别准备以下原料：氧化硅30～40％、钾长石20～30％、棕刚玉20～30％、高岭土10～20％、石英1～5％、纳米陶瓷粉透明液体5～15％；各组分重量百分比总和为100％，其中，所述纳米陶瓷粉透明液体的固含量为20～50％；

[0021] 步骤二：将氧化硅、钾长石、棕刚玉、高岭土、石英各原料过筛子，筛子为600目，并加入纳米陶瓷粉透明液体搅拌均匀，得到糊状混合料；经过筛子筛选，可以得到哦粒径比较均匀的物料，有利于形成的糊状混合料内各组分分布均匀，有利于后序球磨机的粉碎。

[0022] 步骤三：将步骤二得到的糊状混合料加入球磨机中，进行深度粉碎和滚动成型，球磨机的转速为45r/min，滚动时间为4h，边滚动边向球磨机内喷水，每隔15min补料，补料次数为5次，每次补料为氧化硅、钾长石、棕刚玉、高岭土、石英的混合粉料，补料的重量为糊状混合料的3％；球磨机的深度粉碎和滚动成型，产生的气孔较小，有利于增加物料的致密性，提高密度和硬度，在滚动过程中间歇性补料，可以得到球形的抛光磨料，并且提高其尺寸稳定性和光洁度。

[0023] 步骤四：出料后二次过筛，筛子为1000目，即得到氧化硅抛光磨料。二次过筛，可以保证得到的抛光磨料粒径均匀，性能优异。该实施例得到的氧化硅抛光磨料，耐热温度高

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