镀膜挡板
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1.一种镀膜挡板，其包括：
一个第一挡板，该第一挡板上设置有多个通孔；
一个第二挡板，该第二挡板包括多个与该多个通孔相匹配且相互连接的遮挡单元，该 第一挡板与该第二挡板之间可相对移动以使该多个遮挡单元分别覆盖该第一挡板的多个通孔 ，或使该第一挡板与该第二挡板之间具有一预定距离。
2.如权利要求1所述的挡板，其特征在于，该镀膜挡板用于遮挡膜料 ，该第一挡板与膜料相对设置，该第二挡板设置在该第一挡板的远离该膜料的一侧。
3.如权利要求1所述的挡板，其特征在于，该镀膜挡板进一步包括一 个中空支撑体与一个支撑杆，该中空支撑体与该第一挡板相连接，该支撑杆与该第二挡板相 连接，且该支撑杆设置在该中空支撑体内。
4.如权利要求3所述的挡板，其特征在于，该中空支撑体内充满磁流 体以驱动该支撑杆相对该第一支撑体相对运动。
5.如权利要求3所述的挡板，其特征在于，通过气压驱动该支撑杆相 对该第一支撑体相对运动。
6.如权利要求1所述的挡板，其特征在于，该第一挡板相对于该膜料 之间的距离可以调节。
7.如权利要求1所述的挡板，其特征在于，该多个通孔阵列排布。
技术领域
背景技术
镀膜工序为后续处理中的重要步骤之一。镀膜是指以物理或化学方法在光学元件表面镀 上单层或多层薄膜，利用入射、反射及透射光线在薄膜界面产生的干涉作用实现聚焦、准直 、滤光、反射及折射等效果。光学元件的镀膜制程为：首先，将光学元件安装于镀膜治具上 ，镀膜治具设置于一容器中；其次，密闭容器，对容器抽真空；然后，以蒸镀或溅镀等方法 在光学元件需要镀膜的部位进行镀膜；最后，将经过镀膜的光学元件从镀膜治具上拆卸下来 。在镀膜过程中，在待镀膜元件与盛放膜料的容器之间设置有一个挡板，以防止在不镀膜时 ，待镀元件上的膜料掉落至容器影响膜料纯度。并且在镀膜时通过控制挡板的开关状态，可 精确的选择所需膜料的成分。然而，现有的挡板一般为采用手动或机械式驱动，其需要一定 的反应时间。且现有的挡板无法在镀膜过程中控制膜料出料量，以使镀膜更均匀化。
发明内容
一种镀膜挡板，该镀膜挡板包括：一个第一挡板与一个第二挡板。该第一挡板上设置有 多个通孔。一个第二挡板，该第二挡板包括多个与该多个通孔相匹配且相互连接的遮挡单元 ，该第一挡板与该第二挡板之间可相对移动以使该多个遮挡单元分别覆盖该第一挡板的多个 通孔，或使该第一挡板与该第二挡板之间具有一预定距离。
与现有技术相比，所述第一挡板上具有多个通孔，第二挡板上具有多个与该多个通孔相 匹配的遮挡单元，当该镀膜挡板不使用时，该遮接单元与该通孔相配合以隔开膜料与待镀基 材，可以防止待镀基材上的杂质掉落至膜料容器而影响膜料的纯度。当对待镀基材进行镀膜 时，将该多个遮挡单元脱离该多个通孔，以使膜料通过该多个通孔到达待镀基材，以对其进 行镀膜。因此，该镀膜挡板可以通过第一挡板与第二挡板的配合与否、第一挡板上多个通孔 的数量、大小，以及该第一挡板与该膜料之间的距离准确的控制膜料的出料量，从而有效的 控制镀膜的品质。
附图说明
图1是本发明实施例提供的挡板的结构示意图。
图2是图1中的挡板的分解示意图。
图3是图1中的挡板的使用状态示意图。
具体实施方式
请参见图1和图2，本发明实施例提供的镀膜挡板100，其包括一个第一挡板11、一个第 二挡板12。
该第一挡板11上设置有多个通孔111。优选的，在本实施例中，该多个通孔111呈阵列排 布。
该第二挡板12包括多个遮挡单元121，该多个遮挡单元121相互连接且分别与该第多个通 孔111相匹配。该镀膜挡板100设置在膜料与待镀膜基材之间，且该第一挡板11与该第二挡板 12之间可相对移动以使该多个遮挡单元121分别覆盖该第一挡板11的多个通孔111，或使该第 一挡板11与该第二挡板12之间具有一预定距离，该预定距离可以根据实际需要进行调整。
该镀膜挡板100进一步包括一个与该第一挡板11相连接的中空支撑体112以及一个与该第 二挡板12相连接的支撑杆122，该支撑杆122设置在该中空支撑体112内。在本实施例中，该 中空支撑体112内充满磁流体，该磁流体用以驱动该支撑杆122带动该第二挡板12相对于该中 空支撑体112相对移动。可以理解的是，该驱动方式不限于磁流体驱动，也可以通过气压驱 动、机械驱动等方式驱动该第支撑杆122带动该第二挡板12相对于该中空支撑体112相对移动 。
请参见图3，该第一挡板11与该膜料相对设置，该第二挡板12设置在该第一挡板11的远 离该膜料的一侧。当然，该第二挡板12也可以与膜料相对设置，该第一挡板设置11设置在该 第二挡板12的远离该膜料的一侧。
当不进行镀膜时，该第一挡板11上的多个通孔111与该第二挡板12上的多个遮挡单元 121相匹配，即该多个遮挡单元121覆盖该第一挡板11的多个通孔111，用以隔开膜料与待镀 基材，可以防止待镀基材上的杂质掉落至膜料容器而影响膜料的纯度。
当对待镀基材30进行镀膜时，该支撑体122在磁流体的驱动下带动该第二挡板12相对于 该中空支撑体112相对移动，以使该第二挡板122与该第一挡板112之间具有一个预定距离。 因此，膜料31可以通过该多个通孔111到达待镀基材30，以对其进行镀膜，由于磁流体控制 的支撑杆111反应快，因此可以通过第二挡板12与第一挡板11的配合与否、第一挡板11上多 个通孔111的数量及大小准确的控制膜料31的出料量，从而有效的控制镀膜的品质。
在本实施例中，该第一挡板11相对于该膜料31之间的距离可以调节，因此，也可以通过 改变该第一挡板11与该膜31之间的距离调节该膜料31的出料量，进而控制该镀膜的品质。
可以理解的是，该第一挡板11的多个通孔111的形状、大小、数量，第一挡板11与中空 支撑体112的连接方式以及第二挡板12与支撑杆122的连接方式均不限于上述实施例所述，其 可根据实际情况进行确定。
可以理解的是，本领域技术人员还可于本发明精神内做其它变化用于本发明的设计，只 要其不偏离本发明的技术效果均可，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所 要求保护的范围之内。
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