片清洗花篮齿杆

阅读:550发布:2020-05-08

专利汇可以提供片清洗花篮齿杆专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型提供一种 硅 片 清洗花篮齿杆,包括齿杆主体及均匀间隔分布在所述齿杆主体上的第一齿柱和第二齿柱;所述第一齿柱与所述第二齿柱在所述齿杆主体轴向投影构成半椭圆形或抛物线;所述齿杆主体两端设有连接部,用于连接所述齿杆主体与 硅片 清洗花篮。硅片插入齿柱间隔区域,被齿柱分离开,在清洗的时候可以避免贴合在一起而损坏,而且相邻的两个齿柱呈错开布置,可以使硅片的 支撑 点增多一倍,更加难以贴合在一起;椭圆形齿柱,两边为弧形过渡,能够有效减少齿柱在硅片上留下的印痕,提高硅片的成品率。,下面是片清洗花篮齿杆专利的具体信息内容。

1.一种片清洗花篮齿杆,其特征在于:包括齿杆主体(1)及均匀间隔分布在所述齿杆主体(1)上的第一齿柱(2)和第二齿柱(3);
所述第一齿柱(2)与所述第二齿柱(3)在所述齿杆主体(1)轴向投影构成半椭圆形或抛物线;
所述齿杆主体(1)两端设有连接部(4),用于连接所述齿杆主体(1)与硅片清洗花篮。
2.根据权利要求1所述的硅片清洗花篮齿杆,其特征在于:所述齿杆主体(1)中间设有空隙(5)。

说明书全文

片清洗花篮齿杆

技术领域

[0001] 本实用新型涉及硅片清洗器具领域,具体是一种硅片清洗花篮齿杆。

背景技术

[0002] 半导体器件生产中硅片须经严格清洗,因为微量污染会导致器件失效,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物;这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维;无机污染包括重金属金、、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导:金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。在对硅片进行清洗时,使用硅片清洗花篮,清洗花篮的插槽有利于将硅片均匀分开,不发生粘连。另外由于在清洗过程中,为了防止硅片上部发生形变而粘连在一起,现有硅片清洗花篮中在花篮的顶部设置有上部齿杆,现有齿杆大多为菱形,菱形的齿杆易在硅片表面形成齿痕印,造成硅片的成品率低。实用新型内容
[0003] 本实用新型要解决的技术问题是:解决传统的硅片清洗花篮齿杆会对硅片造成损坏的技术问题。
[0004] 本实用新型提供一种硅片清洗花篮齿杆,包括齿杆主体及均匀间隔分布在所述齿杆主体上的第一齿柱和第二齿柱;
[0005] 所述第一齿柱与所述第二齿柱在所述齿杆主体轴向投影构成半椭圆形或抛物线;
[0006] 所述齿杆主体两端设有连接部,用于连接所述齿杆主体与硅片清洗花篮。
[0007] 硅片插入齿柱间隔区域,被齿柱分离开,在清洗硅片的时候可以避免硅片贴合在一起而损坏,而且相邻的两个齿柱呈错开布置,可以使硅片的支撑点增多一倍,更加难以贴合;椭圆形齿柱,两边为弧形过渡,能够有效减少齿柱在硅片上留下的印痕,提高硅片的成品率。
[0008] 进一步的,所述齿杆主体中间设有空隙。由于齿柱较多,清点硅片比较困难,所以在齿杆主体中间设有一段空隙,把齿柱平均分成两组,减少工作人员每次清点硅片的数量。附图说明
[0009] 下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
[0010] 图1是本实用新型硅片清洗花篮齿杆主视图;
[0011] 图2是本实用新型硅片清洗花篮齿杆右视图;
[0012] 图3是图1中A处的放大示意图;
[0013] 图中:1、齿杆主体;2、第一齿柱;3、第二齿柱;4、连接部;5、空隙。

具体实施方式

[0014] 现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本实用新型的基本结构,因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
[0015] 如图1和图3所示,本实用新型是一种硅片清洗花篮齿杆,包括齿杆主体1及均匀间隔分布在齿杆主体1上的第一齿柱2和第二齿柱3;
[0016] 如图2所示,第一齿柱2与第二齿柱3结构相同,第一齿柱2和第二齿柱3构成半椭圆形;
[0017] 齿杆主体1两端设有连接部4,连接部4外圈设有注塑槽,用注塑的方式将齿杆主体1连接到硅片清洗花篮上;
[0018] 齿杆主体1中间设有15mm的空隙5,将齿柱平均分成两组,减少工作人员每次清点硅片的数量。
[0019] 硅片插入齿柱间隔区域,被齿柱分离开,在清洗硅片的时候可以避免硅片贴合在一起而损坏,而且相邻的两个齿柱呈错开布置,可以使硅片的支撑点增多一倍,更加难以贴合;椭圆形齿柱,两边为弧形过渡,能够有效减少齿柱在硅片上留下的印痕,提高硅片的成品率。
[0020] 以上述依据本实用新型的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
高效检索全球专利

专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。

我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。

申请试用

分析报告

专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。

申请试用

QQ群二维码
意见反馈