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管式PECVD石墨舟 硅片复位拍舟装置

阅读：1014发布：2020-07-02

专利汇可以提供管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型提供了一种管式PECVD 石墨舟硅片复位拍舟装置，缓冲区对应石墨舟上方固定有支架，拍舟装置包括至少两组连接在支架上的拍打机构；拍打机构包括拍打气缸，拍打气缸的活塞杆向下伸出并指向石墨舟上端面，拍打气缸的活塞杆下端面上固定有附件加工件，附件加工件的下端面上固定有硅胶缓冲垫；拍打气缸的外壳上还固定有气缸缓冲器，拍打气缸的外壳上具有气缸挡块，气缸挡块与气缸缓冲器之间距离为活塞杆运动的最大行程；拍打气缸的外壳上还固定有上限位块。本实用新型提供的管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，结构设计合理，采用机械替代人工，减少人工损耗，提高工艺效率，同时减少工艺硅片污染，减少硅片破片率并可有效提高硅片良品率。，下面是管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，设置在管式PECVD石墨舟上下舟的缓冲区(1)，其特征在于：所述的缓冲区(1)对应石墨舟上方固定有支架(2)，拍舟装置包括至少两组连接在支架(2)上的拍打机构，所述拍打机构沿石墨舟长度方向均匀间隔分布；所述的拍打机构包括拍打气缸(3)，所述的拍打气缸(3)的活塞杆(4)向下伸出并指向石墨舟上端面，所述拍打气缸(3)的活塞杆(4)下端面上固定有附件加工件(5)，所述附件加工件(5)的下端面上固定有硅胶缓冲垫(6)；所述的拍打气缸(3)的外壳上还固定有气缸缓冲器(7)，所述拍打气缸(3)的外壳上对应气缸缓冲器(7)上方还具有与活塞杆(4)同步运动的气缸挡块(8)，所述气缸挡块(8)与气缸缓冲器(7)之间距离为活塞杆(4)运动的最大行程；所述拍打气缸(3)的外壳对应气缸挡块(8)运动行程最上端还固定有上限位块(9)。
2.如权利要求1所述的管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，其特征在于：所述的支架(2)上还设有可监测石墨舟是否留存在缓冲区(1)内的检测感应器(10)。
3.如权利要求1所述的管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，其特征在于：所述的拍打气缸(3)的活塞杆(4)伸缩方向与石墨舟上端面呈垂直设置，气缸挡块(8)的运动方向与活塞杆(4)伸缩方向平行，所述的拍打气缸(3)外壳表面具有供气缸挡块(8)伸出并运动的条型槽，所述气缸缓冲器(7)安装固定在条型槽下方的外壳上，上限位块(9)固定在条型槽上方的外壳上。

说明书全文

管式PECVD石墨舟 硅片复位拍舟装置

技术领域

[0001] 本实用新型涉及太阳能电池片设计生产技术领域，尤其涉及一种管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置。

背景技术

[0002] PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。在管式PECVD工艺前后，需要用手拍打石墨舟，使硅片尽量恢复到贴合石墨舟的位置。现有的采用人工拍打石墨舟的方式，在每个石墨舟下舟时都需要进行拍打，所耗人工较多。而采用人工拍打，长期操作，工作人员的手并不能承受这种强度的劳动。而且工艺后石墨舟温度较高，容易烫手，存在安全隐患。当人员穿戴手套进行拍打，拍打手套穿戴不便，既容易造成工艺硅片污染，且污染后的拍打手套也不能继续接触硅片，影响工艺流程。实用新型内容

[0003] 本实用新型要解决的技术问题是：为了克服现有技术之不足，本实用新型提供一种采用机械替代人工，减少人工损耗，提高工艺效率，同时减少工艺硅片污染，有效提高硅片良品率的管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置。

[0004] 本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，设置在管式PECVD石墨舟上下舟的缓冲区，所述的缓冲区对应石墨舟上方固定有支架，拍舟装置包括至少两组连接在支架上的拍打机构，所述拍打机构沿石墨舟长度方向均匀间隔分布；所述的拍打机构包括拍打气缸，所述的拍打气缸的活塞杆向下伸出并指向石墨舟上端面，所述拍打气缸的活塞杆下端面上固定有附件加工件，所述附件加工件的下端面上固定有硅胶缓冲垫；所述的拍打气缸的外壳上还固定有气缸缓冲器，所述拍打气缸的外壳上对应气缸缓冲器上方还具有与活塞杆同步运动的气缸挡块，所述气缸挡块与气缸缓冲器之间距离为活塞杆运动的最大行程；所述拍打气缸的外壳对应气缸挡块运动行程最上端还固定有上限位块。

[0005] 进一步的，所述的支架上还设有可监测石墨舟是否留存在缓冲区内的检测感应器。检测感应器可采用红外感应器，用于检测缓冲区内是否有石墨舟，如果有，可便于将石墨舟信号传递至管式PECVD装置的控制系统，便于控制系统发处指令控制拍舟装置动作，实现自动化拍舟。

[0006] 优选的，所述的拍打气缸的活塞杆伸缩方向与石墨舟上端面呈垂直设置，气缸挡块的运动方向与活塞杆伸缩方向平行，所述的拍打气缸外壳表面具有供气缸挡块伸出并运动的条型槽，所述气缸缓冲器安装固定在条型槽下方的外壳上，上限位块固定在条型槽上方的外壳上。

[0007] 在石墨舟上下舟时，当石墨舟位于缓冲区时，可通过拍打机构实现对石墨舟进行多次拍打，有效对石墨舟内的因工艺出现翘曲变形而没有恢复到位的硅片产生振动，使得硅片有效恢复到紧贴石墨舟并稳定在石墨舟卡点上。

[0008] 本实用新型的有益效果是，本实用新型提供的管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，结构设计合理，采用机械替代人工，减少人工损耗，提高工艺效率，同时减少工艺硅片污染，减少硅片破片率并可有效提高硅片良品率。附图说明

[0009] 下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

[0010] 图1是本实用新型最优实施例安装在管式PECVD装置上的结构示意图。

[0011] 图2是图1的俯视图。

[0012] 图3是图1中A处的放大示意图。

[0013] 图中1、缓冲区 2、支架 3、拍打气缸 4、活塞杆 5、附件加工块 6、硅胶缓冲垫 7、气缸缓冲器 8、气缸挡块 9、上限位块 10、检测感应器。

具体实施方式

[0014] 现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

[0015] 如图1至图3所示的一种管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，是本实用新型最优实施例，设置在管式PECVD石墨舟上下舟的缓冲区1。所述的缓冲区1对应石墨舟上方固定有支架2。拍舟装置包括两组连接在支架2上的拍打机构。所述拍打机构沿石墨舟长度方向均匀间隔分布。

[0016] 所述的拍打机构包括拍打气缸3，所述的拍打气缸3的活塞杆4向下伸出并指向石墨舟上端面，所述拍打气缸3的活塞杆4下端面上固定有附件加工件5，所述附件加工件5的下端面上固定有硅胶缓冲垫6。当拍打气缸3工作时，活塞杆4带动附件加工件5上下伸缩运动。位于附件加工件5下端面的硅胶缓冲垫6则在上下运动过程中与石墨舟接触实现拍打动作。由于硅胶缓冲垫6本身具有良好的缓冲效果，与石墨舟接触拍打过程经过缓冲，不会对石墨舟造成过大冲击，避免发生硅片破片。

[0017] 所述的拍打气缸3的外壳上还固定有气缸缓冲器7，所述拍打气缸3的外壳上对应气缸缓冲器7上方还具有与活塞杆4同步运动的气缸挡块8，所述气缸挡块8与气缸缓冲器7之间距离为活塞杆4运动的最大行程；所述拍打气缸3的外壳对应气缸挡块8运动行程最上端还固定有上限位块9。

[0018] 所述的拍打气缸3的活塞杆4伸缩方向与石墨舟上端面呈垂直设置，气缸挡块8的运动方向与活塞杆4伸缩方向平行，所述的拍打气缸3外壳表面具有供气缸挡块8伸出并运动的条型槽，所述气缸缓冲器7安装固定在条型槽下方的外壳上，上限位块9固定在条型槽上方的外壳上。气缸缓冲器7与气缸挡块8和上限位块9的位置设计和配合，可有效对拍打气缸3的行程进行限位，避免活塞杆4伸缩过度，引发过度拍打石墨舟造成硅片破裂的情况。

[0019] 所述的支架2上还设有可监测石墨舟是否留存在缓冲区1内的检测感应器10。检测感应器10可采用红外感应器，用于检测缓冲区1内是否有石墨舟，如果有，可便于将石墨舟信号传递至管式PECVD装置的控制系统，便于控制系统发处指令控制拍舟装置动作，实现自动化拍舟。

[0020] 如此设计的管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，结构设计合理，采用机械替代人工，减少人工损耗。在石墨舟上下舟时，当石墨舟位于缓冲区1时，可通过拍打机构实现对石墨舟进行多次拍打，有效对石墨舟内的因工艺出现翘曲变形而没有恢复到位的硅片产生振动，使得硅片有效恢复到紧贴石墨舟并稳定在石墨舟卡点上。相对于传统的人工拍打，采用机械控制拍打，可有效提高工艺效率，同时减少工艺硅片污染，减少硅片破片率并可有效提高硅片良品率。

[0021] 以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

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