专利汇可以提供一种高深宽比中阻P型宏孔硅结构及其快速制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 提供一种高深宽比中阻P型宏孔 硅 结构及其快速制备方法,包括以下步骤:选择材料:选择中阻P型 硅片 ;制备样品:在P型硅片上设置 铝 膜,将P型硅片切割成方形硅片;清洗样品:将切割后的方形硅片进行清洗;溶液配制:配制电化学 腐蚀 液,所述电化学腐蚀液包括 氢氟酸 HF和N,N二甲基甲酰胺DMF,所述氢氟酸HF和N,N二甲基甲酰胺DMF按1:1的体积比混合;电化学腐蚀:将所述方形硅片放入盛有所述电化学腐蚀液的容器中,施加恒定的 电流 进行电化学腐蚀,得到高深宽比中阻P型宏孔硅结构;可以保证在高的腐蚀速率下制备具有高深宽比值的宏孔硅结构,且所制备的宏孔硅结构形貌规则,孔壁光滑,壁厚均匀,无明显分叉现象。,下面是一种高深宽比中阻P型宏孔硅结构及其快速制备方法专利的具体信息内容。
1.一种高深宽比中阻P型宏孔硅结构的快速制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
选择材料:选择中阻P型硅片;
制备样品:在P型硅片上设置铝膜,将P型硅片切割成方形硅片;
清洗样品:将切割后的方形硅片进行清洗;
溶液配制:配制电化学腐蚀液,所述电化学腐蚀液包括氢氟酸HF和N,N二甲基甲酰胺DMF,所述氢氟酸HF和N,N二甲基甲酰胺DMF按1:1的体积比混合;
电化学腐蚀:将所述方形硅片放入盛有所述电化学腐蚀液的容器中,施加恒定的电流进行电化学腐蚀,得到高深宽比中阻P型宏孔硅结构。
2.根据权利要求1所述的高深宽比中阻P型宏孔硅结构的快速制备方法,其特征在于,所述选择材料的步骤中P型硅片的电阻率为10-20Ω·cm,厚度为525±25μm。
3.根据权利要求1所述的高深宽比中阻P型宏孔硅结构的快速制备方法,其特征在于,所述制备样品的步骤中铝膜厚度为500nm。
4.根据权利要求1所述的高深宽比中阻P型宏孔硅结构的快速制备方法,其特征在于,所述清洗样品的步骤具体为:将切割后的方形硅片放入超声波清洗机中,依次用去离子水、酒精、丙酮清洗方形硅片,用氮气枪吹干并密封保存以备用。
5.根据权利要求1所述的高深宽比中阻P型宏孔硅结构的快速制备方法,其特征在于,所述溶液配制的步骤中在具有通风橱的操作台上使用量筒配制电化学腐蚀液。
6.根据权利要求1所述的高深宽比中阻P型宏孔硅结构的快速制备方法,其特征在于,所述电化学腐蚀的步骤中施加90-300mA/cm2的恒定电流,腐蚀时间为3-5min。
7.根据权利要求6所述的高深宽比中阻P型宏孔硅结构的快速制备方法,其特征在于,所述恒定电流为300mA/cm2。
8.根据权利要求6所述的高深宽比中阻P型宏孔硅结构的快速制备方法,其特征在于,所述腐蚀时间为5min。
9.根据权利要求1所述的高深宽比中阻P型宏孔硅结构的快速制备方法,其特征在于,还包括以下步骤:
已腐蚀样品清洗:电化学腐蚀结束后,取出方形硅片并用去离子水清洗腐蚀区域,之后用氮气吹干硅片。
10.一种高深宽比中阻P型宏孔硅结构,其特征在于,所述高深宽比中阻P型宏孔硅结构为利用根据权利要求1-9任意一项所述高深宽比中阻P型宏孔硅结构的快速制备方法制得。
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