专利汇可以提供可交联主体材料专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及具有式(1)的结构的可交联有机分子及其用途其中Ar=彼此独立的具有5至30个环 原子 的不饱和或芳族 碳 环或杂环单元,选自 萘 、蒽、菲、芘、二氢芘、、苝、荧蒽、苯并蒽、并四苯、并五苯、苯并芘、呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、噻吩、苯并噻吩、异苯并噻吩、二苯并噻吩、吡咯、吲哚、异吲哚、咔唑、吡啶、喹啉、异喹啉、吖啶、菲啶、苯并‑5,6‑喹啉、苯并‑6,7‑喹啉、苯并‑7,8‑喹啉、吩噻嗪、吩噁嗪、吡唑、吲唑、咪唑、苯并咪唑、萘咪唑、菲咪唑、吡啶咪唑、吡嗪咪唑、喹喔啉咪唑、噁唑、苯并噁唑、萘噁唑、蒽噁唑、菲噁唑、异噁唑、异噻唑、1,3‑噻唑、苯并噻唑、哒嗪、苯并哒嗪、嘧啶、苯并嘧啶、喹喔啉、吡嗪、吩嗪、萘啶、氮杂咔唑、苯并咔啉、二氮杂菲、1,2,3‑三唑、1,2,4‑三唑、苯并三唑、1,2,3‑噁二唑、1,2,4‑噁二唑、1,2,5‑噁二唑、1,3,4‑噁二唑、1,2,3‑噻二唑、1,2,4‑噻二唑、1,2,5‑噻二唑、1,3,4‑噻二唑、1,3,5‑三嗪、1,2,4‑三嗪、1,2,3‑三嗪、四唑、1,2,3,4‑噁三唑、1,2,3,4‑噁三唑、1,2,4,5‑四嗪、1,2,3,4‑四嗪、1,2,3,5‑四嗪、嘌呤、蝶啶、吲哚嗪、苯并噻二唑、茚并咔唑、茚并芴、螺双芴和吲哚并咔唑;D1=具有式(1a)的结构的给体基团;并且D2=具有式(1b)的结构的给体基团,下面是可交联主体材料专利的具体信息内容。
1.一种具有式1的结构的有机分子,
其中
Ar=彼此独立的具有5至30个环原子的不饱和或芳族碳环或杂环单元,选自由萘、蒽、菲、芘、二氢芘、 苝、荧蒽、苯并蒽、并四苯、并五苯、苯并芘、呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、噻吩、苯并噻吩、异苯并噻吩、二苯并噻吩、吡咯、吲哚、异吲哚、咔唑、吡啶、喹啉、异喹啉、吖啶、菲啶、苯并-5,6-喹啉、苯并-6,7-喹啉、苯并-7,8-喹啉、吩噻嗪、吩噁嗪、吡唑、吲唑、咪唑、苯并咪唑、萘咪唑、菲咪唑、吡啶咪唑、吡嗪咪唑、喹喔啉咪唑、噁唑、苯并噁唑、萘噁唑、蒽噁唑、菲噁唑、异噁唑、异噻唑、1,3-噻唑、苯并噻唑、哒嗪、苯并哒嗪、嘧啶、苯并嘧啶、喹喔啉、吡嗪、吩嗪、萘啶、氮杂咔唑、苯并咔啉、二氮杂菲、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、苯并三唑、1,2,3-噁二唑、1,2,4-噁二唑、1,2,5-噁二唑、1,3,4-噁二唑、1,2,3-噻二唑、1,2,
4-噻二唑、1,2,5-噻二唑、1,3,4-噻二唑、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪、四唑、1,2,
3,4-噁三唑、1,2,3,4-噁三唑、1,2,4,5-四嗪、1,2,3,4-四嗪、1,2,3,5-四嗪、嘌呤、蝶啶、吲哚嗪、苯并噻二唑、茚并咔唑、茚并芴、螺双芴和吲哚并咔唑组成的组,其任选各自被一个或多个基团R1取代,其中任选两个或多个基团R1彼此连接并且形成一个或多个环;
D1=具有式1a的结构的给体基团;
并且
D2=具有式1b的结构的给体基团;
其中分别在用#表示的位置上以单键形式与Ar进行连接;
并且其中所使用的符号和指数满足:
n为1和5之间的整数;
o为1和5之间的整数;
p为0和5之间的整数;
PG:一个或多个相同或不同的可聚合单元,所述可聚合单元可以通过热催化和/或酸催化或碱催化方法,通过在存在或不存在光引发剂的条件下紫外线辐射,或者通过微波辐射而聚合;
X、Y在每次出现时相同或不同地表示共价单键或二价有机桥,所述二价有机桥选自由取代和未取代的亚烷基(非支化、支化或环状)、亚烯基、亚炔基、亚芳基和杂亚芳基、O、NR3、C=CR32、C=NR3、SiR32S、S(O)、S(O)2、Se、Se(O)、Se(O)2、BR3、PR3、P(O)R3组成的组,其中也可以是这些单元的组合;
2
Z在每次出现时相同或不同地表示CR或N;
R和R1在每次出现时相同或不同地表示:
H,D,F,Cl,Br,I,B(OR3)2,CHO,C(=O)R3,CR3=C(R3)2,CN,C(=O)OR3,C(=O)N(R3)2,Si(R3)3,NO2,P(=O)(R3)2,OSO2R3,OR3,S(=O)R3,S(=O)2R3,或者
具有1至20个C原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基或具有3至20个C原子的支化或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基或具有2至20个C原子的烯基或炔基,其中上述基团分别可以被一个或多个基团R3取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2-基团可以被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=S、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2替代,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2替代,或者
具有6至30个芳族环原子的芳族环体系,所述芳族环体系可以分别被一个或多个基团R3取代,或者
具有6至30个芳族环原子的芳氧基,所述芳氧基可以被一个或多个基团R3取代,其中两个或多个基团R和R1可以彼此连接并且可以形成环;
R2在每次出现时相同或不同地表示:
H,D,F,Cl,Br,I,B(OR3)2,CHO,C(=O)R3,CR3=C(R3)2,CN,C(=O)OR3,C(=O)N(R3)2,Si(R3)3,NO2,P(=O)(R3)2,OSO2R3,OR3,S(=O)R3,S(=O)2R3,或者
具有1至20个C原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基或具有3至20个C原子的支化或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基或具有2至20个C原子的烯基或炔基,其中上述基团分别可以被一个或多个基团R3取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2-基团可以被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=S、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2替代,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2替代,或者
具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环体系,所述芳族或杂芳族环体系可以分别被一个或多个基团R3取代,或者
具有5至60个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基,所述芳氧基或杂芳氧基可以被一个或多个基团R3取代,其中两个或多个基团R2可以彼此连接并且可以形成环;
R3在每次出现时相同或不同地表示:
H,D,F,Cl,Br,I,B(OR4)2,CHO,C(=O)R4,CR4=C(R4)2,CN,C(=O)OR4,C(=O)N(R4)2,Si
4 4 4 4 4 4 4
(R)3,N(R)2,NO2,P(=O)(R)2,OSO2R,OR,S(=O)R,S(=O)2R,或者
具有1至20个C原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基或具有3至20个C原子的支化或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基或具有2至20个C原子的烯基或炔基,其中上述基团分别可以被一个或多个基团R4取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2-基团可以被-R4C=CR4-、-C≡C-、Si(R4)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR4、-C(=O)O-、-C(=O)NR4-、NR4、P(=O)(R4)、-O-、-S-、SO或SO2替代,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2替代,或者
具有5至60个芳族环原子的芳族或杂芳族环体系,所述芳族或杂芳族环体系可以分别被一个或多个基团R4取代,或者
具有5至60个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基,所述芳氧基或杂芳氧基可以被一个或
4 3
多个基团R取代,其中两个或多个基团R可以彼此连接并且可以形成环;
R4在每次出现时相同或不同地表示H、D、F或具有1至20个C原子的脂族、芳族或杂芳族有机基团,其中一个或多个H原子也可以被D或F替代;其中两个或多个取代基R4可以彼此连接并且形成环;
并且其中分别在用#表示的位置上以单键形式与Ar进行连接。
2.根据权利要求1所述的有机分子,其中Ar具有如下结构
其中W在每次出现时相同或不同地表示CR1或N,并且其中至少一个W不为CR1
其中
R1在每次出现时相同或不同地表示H,D,F,Cl,Br,I,B(OR3)2,CHO,C(=O)R3,CR3=C(R3)2,CN,C(=O)OR3,C(=O)N(R3)2,Si(R3)3,NO2,P(=O)(R3)2,OSO2R3,OR3,S(=O)R3,S(=O)2R3,或者
具有1至20个C原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基或具有3至20个C原子的支化或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基或具有2至20个C原子的烯基或炔基,其中上述基团分别可以被一个或多个基团R3取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2-基团可以被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=S、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2替代,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2替代,或者
具有6至30个芳族环原子的芳族环体系,所述芳族环体系可以分别被一个或多个基团R3取代,或者
3
具有6至30个芳族环原子的芳氧基,所述芳氧基可以被一个或多个基团R 取代,其中两个或多个基团R和R1可以彼此连接并且可以形成环;
R3在每次出现时相同或不同地表示:
H,D,F,Cl,Br,I,B(OR4)2,CHO,C(=O)R4,CR4=C(R4)2,CN,C(=O)OR4,C(=O)N(R4)2,Si
4 4 4 4 4 4 4
(R)3,N(R)2,NO2,P(=O)(R)2,OSO2R,OR,S(=O)R,S(=O)2R,或者
具有1至20个C原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基或具有3至20个C原子的支化或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基或具有2至20个C原子的烯基或炔基,其中上述基团分别可以被一个或多个基团R4取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2-基团可以被-R4C=
4 4 4 4 4
CR -、-C≡C-、Si(R )2、C=O、C=S、C=Se、C=NR 、-C(=O)O-、-C(=O)NR -、NR 、P(=O)(R4)、-O-、-S-、SO或SO2替代,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2替代,或者
具有5至60个芳族环原子的芳族或杂芳族环体系,所述芳族或杂芳族环体系可以分别被一个或多个基团R4取代,或者
具有5至60个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基,所述芳氧基或杂芳氧基可以被一个或多个基团R4取代,其中两个或多个基团R3可以彼此连接并且可以形成环;
R4在每次出现时相同或不同地表示H、D、F或具有1至20个C原子的脂族、芳族或杂芳族有
4
机基团,其中一个或多个H原子也可以被D或F替代;其中两个或多个取代基R可以彼此连接并且形成环。
3.根据权利要求1或2所述的有机分子,其中(Ar)n选自以下组成的组:
其中*表示在D1或D2上的连接位置,并且指定的单元和基团如权利要求1或2中限定。
4.根据权利要求1至3任一项所述的有机分子,其中可交联基团PG选自以下组成的组:
5.用于制备根据权利要求1至4任一项所述的有机分子的方法,所述方法具有如下步骤:
进行给体基团D2与双氟化Ar的反应然后与双溴化给体基团D1的反应,然后引入PG-单元,
其中
Ar=具有5至30个环原子的芳族或杂芳族环体系,选自由萘、蒽、菲、芘、二氢芘、 苝、荧蒽、苯并蒽、并四苯、并五苯、苯并芘、呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、噻吩、苯并噻吩、异苯并噻吩、二苯并噻吩、吡咯、吲哚、异吲哚、咔唑、吡啶、喹啉、异喹啉、吖啶、菲啶、苯并-5,6-喹啉、苯并-6,7-喹啉、苯并-7,8-喹啉、吩噻嗪、吩噁嗪、吡唑、吲唑、咪唑、苯并咪唑、萘咪唑、菲咪唑、吡啶咪唑、吡嗪咪唑、喹喔啉咪唑、噁唑、苯并噁唑、萘噁唑、蒽噁唑、菲噁唑、异噁唑、异噻唑、1,3-噻唑、苯并噻唑、哒嗪、苯并哒嗪、嘧啶、苯并嘧啶、喹喔啉、吡嗪、吩嗪、萘啶、氮杂咔唑、苯并咔啉、二氮杂菲、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、苯并三唑、1,2,3-噁二唑、1,
2,4-噁二唑、1,2,5-噁二唑、1,3,4-噁二唑、1,2,3-噻二唑、1,2,4-噻二唑、1,2,5-噻二唑、
1,3,4-噻二唑、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪、四唑、1,2,3,4-噁三唑、1,2,3,4-噁三唑、1,2,4,5-四嗪、1,2,3,4-四嗪、1,2,3,5-四嗪、嘌呤、蝶啶、吲哚嗪、苯并噻二唑、茚并咔唑、茚并芴、螺双芴和吲哚并咔唑组成的组,其任选各自被一个或多个基团R1取代,其中任选两个或多个基团R1彼此连接并且形成一个或多个环;
D1=具有式1a的结构的给体基团;
D2=具有式1b的结构的具有给体性能的基团;
其中分别在用#表示的位置上以单键形式与Ar进行连接;
并且其中其它符号具有权利要求1至3中指定的含义。
6.根据权利要求5所述的方法,其中通过加入强碱进行反应。
7.根据权利要求5或6所述的方法,所述方法进一步包括加入氧化剂的步骤并且任选进一步包括加入硒或硫或劳氏试剂的其它步骤,所述氧化剂彼此独立地选自过氧化氢、过氧化氢-脲-加成物、氧或臭氧。
8.一种根据权利要求1至4任一项所述的有机分子在光电构件中的用途。
9.根据权利要求8所述的用途,其中发射层中的所述有机分子,优选在光电构件中作为特别适用于发光发射体的基质材料和/或作为电子传输材料和/或作为空穴注射材料和/或作为空穴阻挡材料。
10.根据权利要求8或9所述的用途,其中光电构件选自以下组成的组:
-有机发光构件(OLED),
-发光电化学电池,
-OLED传感器,特别是在对外非密封屏蔽的气体传感器和蒸汽传感器中,
-有机太阳电池,
-有机场效应晶体管,
-有机激光器,和
-降频转换元件。
11.一种光电构件,包括根据权利要求1至4任一项所述的有机分子。
12.根据权利要求11所述的光电构件,其特征在于,所述有机分子用在发射层中,优选作为特别适用于发光发射体的基质材料和/或作为电子传输材料和/或作为空穴注射材料和/或作为空穴阻挡材料。
13.一种混合物,包含根据权利要求1至4任一项所述的有机分子和至少一种发光发射体。
14.一种制剂,包含至少一种根据权利要求1至4任一项所述的有机分子或根据权利要求13所述的混合物和至少一种溶剂。
15.一种用于制备光电构件的方法,其中使用根据权利要求1至4任一项所述的有机分子。
16.根据权利要求15所述的方法,其特征在于,在载体上涂覆根据权利要求1至4任一项所述的有机分子。
17.根据权利要求16所述的方法,其特征在于,通过湿化学方式进行涂覆。
18.根据权利要求16所述的方法,其特征在于,通过真空蒸发进行涂覆。
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