背景技术
[0001] 本
发明涉及一种带电粒子束曝光系统，诸如用于无掩膜图像投影的光刻系统、扫描和非扫描电镜等等。
[0002] 带电粒子束光刻系统(例如，
电子束无掩膜光刻系统)是公知的，并且与传统的基于掩膜的光刻系统相比，由于不必改变和安装掩模或标线，因而具有符合制作要求的优势。作为替代，用于集成
电路的制造的待投影的图像被存储在控制该无掩膜曝光系统的计算机的
存储器中。
[0003] 已知的带电粒子束曝光系统通常包括位于
真空室内的带电粒子柱。该带电粒子柱包括带电离子源，带电离子源包括带电粒子提取装置和静电透镜结构，该静电透镜结构用于将一个或多个带电粒子束聚焦在目标(例如晶片)上以及在目标上偏转。此外，该带电粒子柱包括调制装置，用于根据待投影的图像是否要求在特定
位置处曝光来调制该一个或多个带电粒子束。
[0004] 在这样的投影过程中，通过
支撑目标的
工作台，目标被相对于所述带电粒子柱的投影区域进行导引。对于这种新型的无掩膜光刻，几乎还没有设计出合适的工作台，至少还没有应用到商业上。已知的工作台，就能适应于无掩膜光刻而言，大多数至少从例如大小、成本以及真空兼容性的方面来说是不合适的。
[0005] 同样，在这种系统中，通常也不希望如通常出现在
致动器(尤其是电磁致动器)处的电磁散射场(electromagnetic dispersion field)，因为
磁场的
电流中的任何变化都可能影响带电粒子束的位置。已知通过将电磁致动器设置在远离目标支承表面的位置并在电磁致动器中提供多重屏蔽，能够减小由电磁致动器引起的
电磁场中的
波动。
[0006] 本发明的目的在于提供一种包括被最优化用于目标的带电粒子束曝光的目标定位装置的带电粒子束光刻系统以及使用这种目标定位装置的操作方法。
发明内容
[0007] 根据第一方面，本发明提供一种带电粒子束光刻系统，包括：
[0008] 带电粒子光柱，设置在真空室内，用于将带电粒子束投影到目标上，其中该柱包括偏转装置，用于使带电粒子束在偏转方向上偏转；
[0009] 目标定位装置，包括用以承载目标的承载件、以及用于承载并沿第一方向移动该承载件的工作台，其中，该第一方向不同于偏转方向，并且其中，该目标定位装置包括第一致动器，用于使工作台在第一方向上相对于该带电粒子光柱移动；
[0010] 其中，承载件可移动地设置在工作台上，并且其中，该目标定位装置包括保持装置，用于相对于工作台保持承载件。
[0011] 在根据本发明的光刻系统中的目标的曝光过程中，通过启动该第一致动器，使目标相对于该一个或多个带电粒子束在第一方向移动，并且与此同时，启动光柱中的偏转装置以使该一个或多个带电粒子束在偏转方向上偏转。通过这样的曝光，能使目标的细长区域被曝光以将待投影的图像投影在此区域。该细长区域的长度取决于工作台的移动范围，细长区域的宽度取决于偏转的范围。在该细长区域的照射过程中，位于承载件顶部上的目标基本被保持在相同的位置上。在细长区域的照射完成后，可移动承载件及其顶部上的目标，以使新的区域能够暴露于带电粒子束。为了保持承载件相对于工作台的位置，至少沿着偏转方向，至少在投影过程中，本发明的目标定位装置包括用于相对于工作台保持承载件的保持装置。该保持装置能稳定地保持工作台，特别是在工作台沿第一方向移动的过程中。
[0012] 优选地，保持装置被设置成使得当工作台被保持时，没有或至少具有最少的漏磁场和/或漏
电场、以及/或这些场的波动。在这种情况下，没有带电粒子束的轨迹的干扰和/或干涉，并因此也就没有带电粒子束的位置的干扰和/或干涉。
[0013] 在一个
实施例中，承载件可沿着第二方向移动，其中，所述第二方向不同于所述第一方向，优选地，其中，所述第二方向基本上与偏转方向相同。在进一步的实施例中，所述第二方向基本上垂直于第一方向，从而提供
正交的目标定位。
[0014] 在一个实施例中，工作台为第一工作台，并且其中，目标定位装置包括位于承载件与第一工作台之间的第二工作台，其中，该第二工作台被设置用于使承载件在第二方向上移动，并且其中，该保持装置被设置用于保持或阻止第二工作台的运动。
[0015] 在第一实施例中，保持装置包括用于使承载件在第二方向上移动的压电
电动机。至少在投影过程中，压电电动机(特别是谐振压电电动机)能够提供使承载件在第二方向上移动的驱动动作和保持承载件相对于工作台的位置的保持动作。压电电动机优选地被设置为第二工作台的致动器。在根据本发明的光刻系统中使用这种压电电动机，至少在保持动作过程中，该电动机不需要与带电粒子光柱屏蔽。可将这种压电电动机设置成靠近承载件和其顶部上的目标，这可以增强承载件相对于工作台的定位的精确性。此外，可将这种压电电动机设置在屏蔽装置中，以至少部分地屏蔽带电粒子光柱不受周围的磁场和/或电场的影响。
[0016] 在一个实施例中，承载件插设和/或被限制在两个相对的压电电动机之间。在这种情况下，由其中一个压电电动机施加在承载件上的任何
力或动量可至少部分地被两个相对的压电电动机中的另一个施加的力或动量抵消。这提供承载件在目标曝光期间的高度精确和稳定的保持，和/或承载件沿偏转方向例如在连续的曝光之间的高度精确和稳定的移动。
[0017] 在第二实施例中，保持装置包括可伸展和可收缩的夹紧装置，该夹紧装置可被放置为，在伸展位置中用于相对于工作台夹紧并因此保持承载件，并且，在收缩位置中用于相对于工作台释放承载件并允许承载件相对于工作台移动。这些夹紧装置可提供承载件与工作台之间的机械联
锁。
[0018] 在一个实施例中，保持装置包括可释放的(releasable)锁定装置，用于相对于工作台锁定承载件的位置，并用于在锁定装置被释放时，允许承载件相对于工作台移动。这些锁定装置可提供承载件与工作台之间的机械联锁。
[0019] 在一个实施例中，夹紧或锁定装置包括压电元件。这种压电元件可由电
信号驱动并且非常适用于光刻系统通常要求的超洁净和真空的环境中。
[0020] 在一个实施例中，目标定位装置包括第二致动器，优选地与夹紧装置或锁定装置分离，用于使承载件在第二方向上移动。在该实施例中，当承载件相对于工作台的位置被保持装置保持时，不需要来自该第二致动器的保持动量(holding momentum)。当承载件被保持时，至少在图像投影期间，可关闭第二致动器以进一步减小任何磁场和/或电场。
[0021] 在一个实施例中，第二致动器被设置用于，至少在第二致动器被关闭时，减小和/或最小化第二致动器外部的漏磁场和/或漏电场，例如，电磁散射场。
[0022] 为了减小磁场和/或电场的
泄漏，所述第二致动器可设置有屏蔽装置，用于至少部分地屏蔽第二致动器外部的磁场和/或电场的泄漏。
[0023] 可替换地或者附加地，在一个实施例中，第二致动器包括感应
马达。在一个实施例中，该感应马达包括非
铁磁材料的芯。在一个实施例中。该非铁磁材料包括
铝。这种致动器基本上不受任何
磁性材料的影响，因此，至少在致动器关闭时，不会在其外部出现漏磁场和/或漏电场。在根据本发明的光刻系统中使用这样的第二致动器，该第二致动器不需要与带电粒子光柱屏蔽。这样的第二致动器可被设置成靠近承载件以及承载件顶部上的目标，这可以增强承载件相对于工作台的定位的精确性。此外，这样的第二致动器可被设置在屏蔽装置内，以至少部分地屏蔽带电粒子光柱不受周围的磁场和/或电场的影响。
[0024] 相反，在带电粒子束投影到目标上的期间被驱动的第一致动器优选地设置在光柱屏蔽装置外部，该光柱屏蔽装置可被设置用于至少部分地屏蔽带电粒子光柱不受周围的磁场和/或电场的影响。可替代地或者另外，第一致动器可被设置在远离工作台一定距离处。在一个实施例中，目标定位装置被设置在真空室中，其中，第一致动器被放置在第一真空室外部。在一个实施例中，光屏蔽装置被设置为所述第一真空室的衬层或者与所述第一真空室的壁一体形成。
[0025] 在一个实施例中，目标定位装置包括接合装置，用于将承载件可释放地接合至第二致动器。由于这些接合装置，例如当第二致动器处于相对于工作台的保持位置时，承载件可与第二致动器分开。在这种情况下，来自第二致动器的任何动量都不会传递给承载件。更重要的是，在该实施例中，可使用被设置用于提供承载件相对于工作台的短且优选地精确的行程(stroke)的第二致动器。实质上，上述保持装置和接合装置的组合提供了使用短行程的第二致动器的可能性。为了使承载件相对于工作台移动，可使用包括以下步骤的方法：
[0026] a.启动接合装置并且优选地使保持装置无效(deacticate)；
[0027] b.启动第二致动器以使承载件在第二方向上移动；
[0028] c.使第二致动器无效并且优选地启动保持装置；
[0029] d.使接合装置无效；以及
[0030] e.启动第二致动器以使第二致动器，特别是其驱动件沿第二方向向后返回。为了建立在第二方向上的更进一步的步骤，再次启动接合装置并使保持装置无效，并重复该进一步的上述步骤。
[0031] 在一个实施例中，接合装置包括压电元件。在一个实施例中，所述压电元件被设置用于在所述压电元件的伸展位置将承载件接合至第二致动器，并用于在所述压电元件的收缩位置使承载件与致动器脱离接合。在一个实施例中，所述压电元件被设置成使得至少当承载件接合至第二致动器时，该承载件位于所述第二致动器的顶部。
[0032] 根据第二方面，本发明提供用于如上所述的带电粒子束光刻系统的目标定位装置。
[0033] 根据第三方面，本发明提供了将图像投影到如上所述的带电粒子束光刻系统中的目标区域上的方法，具体地，其中，该方法包括以下步骤：
[0034] i.启动保持装置；
[0035] ii使用以下步骤的组合，将至少一部分图像投影到该区域的至少一部分上：启动第一致动器以使目标在第一方向上移动，启动带电粒子光柱以将带电粒子束投射到目标上，以及启动偏转装置以使带电粒子束在偏转方向上偏转；
[0036] iii.将带电粒子光束移动到区域外部和/或使带电粒子光柱无效；以及[0037] iv.使保持装置无效，以使承载件在第二方向移动。
[0038] 根据第四方面，本发明涉及将图像投影到如上述的带电粒子束光刻系统中的目标区域上的方法，具体地，其中，目标定位装置包括用于使工作台相对于带电粒子光柱在第一方向移动的第一致动器，并且其中，目标定位装置包括用于使承载件在第二方向移动的压电电动机，其中，该方法包括以下步骤：
[0039] i.控制压电电动机以保持承载件的位置，防止其在第二方向上移动；
[0040] ii使用以下步骤的组合，将至少一部分图像投影到该区域的至少一部分上：启动第一致动器以使目标在第一方向移动，启动带电粒子光柱以将带电粒子束投射到目标上，以及启动偏转装置以使带电粒子束在偏转方向上偏转；
[0041] iii.将带电粒子光束移动到区域外和/或使带电粒子光柱无效；以及[0042] iv.控制压电电动机以使承载件在第二方向上移动。
[0043] 根据第五方面，本发明涉及将图像投影到如上述的带电粒子束光刻系统中的目标的区域上的方法，具体地，其中，目标定位装置包括用于使工作台相对于带电粒子光柱在第一方向移动的第一致动器，并且其中，该目标定位装置包括用于使承载件在第二方向上移动的第二致动器，其中，该方法包括以下步骤：
[0044] i.使第二致动器无效并启动保持装置，以保持承载件的位置，防止其在第二方向上移动；
[0045] ii使用以下步骤的组合，将至少一部分图像投影在该区域的至少一部分上：启动第一致动器以使目标在第一方向上移动，启动带电粒子光柱以将带电粒子束投射在目标上，以及启动偏转装置以使带电粒子束在偏转方向上偏转；
[0046] iii.将带电粒子光束移动到区域外部和/或使带电粒子光柱无效；以及[0047] iv.使保持装置无效并启动第二致动器，以使承载件在第二方向上移动。
[0048] 在一个实施例中，上述方法进一步包括以下步骤：
[0049] v.使承载件在第二方向上移动一段距离，该段距离等于或者小于带电粒子束通过偏转装置在第二方向上偏转的范围。
[0050] 在一个实施例中，上述方法中的步骤i、ii、iii、iv以及v重复进行，优选为连续地重复。
[0051] 在上述方法的一个实施例中，通过防止带电粒子束到达目标而使带电粒子光柱无效。在上述方法的一个实施例中，通过关闭柱的带电粒子源或者通过将带电粒子源的
阴极切换到更高的正电位以及带电粒子源的
阳极，使每个所述粒子光柱无效，其中，所述带电粒子源优选为电子源。
[0052] 在任何可能的情况下，在
说明书中描述和示出的各个方面和特征能被单独实施。这些单独的方面，特别是在所附的独立
权利要求中描述的方面和特征，可作为分案
申请的主题。
附图说明
[0053] 将在附图中示出的示例性实施例的
基础上说明本发明，附图中：
[0054] 图1为带电粒子光刻系统的示意图；
[0055] 图2为根据本发明的目标定位装置的XY工作台的第一示例性实施例的平面示意图；
[0056] 图3为沿图2中的I-I线的横截面的示意图；
[0057] 图4A和图4B示意性地示出了XY工作台在第一方向或者X方向的位移；
[0058] 图5A-图5E示意性地示出了XY工作台在第二方向或者Y方向的位移；
[0059] 图6示意性地示出了XY工作台在X方向的位移期间的横截面；
[0060] 图7示意性地示出了XY工作台在Y方向的位移期间的横截面；
[0061] 图8示意性地示出了根据本发明的目标定位装置的XY工作台的第二示意性实施例；
[0062] 图9示意性地示出了图8的XY工作台的分解图；
[0063] 图10A和图10B示出了图8的Y工作台的示意性平面示意图；以及
[0064] 图11示意性地示出了沿图10A中的A-A线的横截面。
具体实施方式
[0065] 图1示意性地示出了用于带电粒子束光刻的系统1，其使用大量的平行带电粒子束(被称为cp束)。在本实例中，带电粒子束为电子束。这种cp束2中的一个在图1中示出。
[0066] 所有的cp束都通过
调制器以已知的方式分别进行控制，从而能够在目标3(在本例中为晶片)上写入(write)期望的图案。与通常使用的光学系统相比，该系统的主要优势在于，非常小的结构的写入并且不需要昂贵的掩膜。后者极大地减少了一次生产量的投资成本(start-up cost)，使得本发明的系统在样机和中容量产品方面具有很大的优势。
[0067] 根据本发明的系统由三个主要的子系统组成，即数据路径子系统(未在图1中示出)、带电粒子光柱4(例如电子光柱)以及目标定位装置5。
[0068] 带电粒子光柱4产生大量的主要地平行的聚焦cp束2，这些cp束产生自柱4的底部。每个cp束由所述数据路径控制。以已知的方式，该cp束被“打开”和“关闭”，并且cp束的位置根据数据在小范围内进行调节。在带电粒子光柱的最后部分中，实际上在投影透镜41处，cp束2基本上横向于目标或晶片模
块51运动的第一方向X被来回偏转，从而能够在目标3上写入特征(可替换地为标示的结构)。
[0069] 由于cp束2的性质，它们的轨迹可能被磁场和/或电场改变。在带电粒子光柱4中，这用来控制cp束2以及将cp束2投射到目标3上。为了屏蔽带电粒子光柱4不受周围的磁场和/或电场(其可能扰乱cp束2的轨迹并因此导致偏离cp束2在目标3上的期望位置)的影响，带电粒子光柱4至少设置有包括一层或多层μ-金属的屏蔽件6。在图1所述的实例中，目标定位装置5也设置在屏蔽件6中。该屏蔽件6以便利的方式设置为用于带电粒子光柱4的真空室和目标定位装置5的真空室的
内衬。这样的屏蔽件被设置为相当大程度地减弱
地磁场。在所述的布置中，减弱了大约1000的系数。
[0070] 目标定位装置5将目标3放置在带电粒子光柱4的焦平面上并在下面移动该目标3。目标定位装置5包括用于保持目标的目标模块51和用于使目标通过工作台(在本文中进一步为X工作台52)在第一X方向上以及通过承载件(在本文中进一步为Y工作台54)在第二Y方向移动的工作台组件。在该示例性实施例中，X方向基本上垂直于Y方向，并且X方向和Y方向形成基本上垂直于带电粒子光柱4的平面。
[0071] 如上讨论的，在图案的写入过程中，cp束2被横向于X方向来回偏转，并且通过使用第一致动器53来移动x工作台52，在下面沿着X方向移动目标3。这种扫描产生这样的写入路径，其具有由cp束2在偏转方向上的偏转范围决定的宽度，并具有由x工作台52的移动长度决定的长度。特别地，写入路径的长度可在整个目标3区域上延伸。
[0072] 在每个写入路径的写入过程中，实质上只有第一致动器需要被驱动。为了在写入图案的过程中屏蔽带电粒子光柱4不受来自第一致动器53的磁场和/或电场的影响，将第一致动器53设置在屏蔽件6外部。因此，用于光柱4的屏蔽装置6也可用来屏蔽带电粒子光柱4不受来自第一致动器53的磁场和/或电场的影响。
[0073] 在图1所示的示例性实施例中，第一致动器53设置在目标定位装置5的真空室50内部。可替换地，可将第一致动器53设置在目标定位装置5的真空室50外部。
[0074] 此外，第一致动器53和工作台52都相对于彼此刚性地连接。在图1所示的实例中，第一致动器53和工作台52都刚性地连接至
基板503。这种刚性连接确保维持致动器或者马达53相对于工作台52的合适的对准。在一个实施例中，基板503被设置为提供非常坚硬的结构，优选地具有低
热膨胀系数。在一个实施例中，基板503包括花岗石板或者花岗石
台面。
[0075] 在写入路径的写入过程中，当cp束2被投射到目标3上时，实质上只有第一致动器53被驱动(可能除非为了在基本上垂直于XY平面的Z方向上进行小的校正)。在不同于写入过程的任何其他运动中，允许磁场和/或电场以及其中的波动。因此用于使目标定位装置5在Y和/或Z方向上移动的致动器被设置在用于光柱4的屏蔽件6内部。
[0076] 当沿着Y方向移动目标3时，例如，为了在已写入前一个写入路径之后，使目标3朝着下一个写入路径移动，可防止cp束2达到目标3(例如通过关闭cp束2)，以及/或可使目标3移动到这样的位置：cp束2位于目标3上待被cp束2照射的区域外部。在沿Y方向的该运动中，允许磁场和/或电场以及其中波动。
[0077] 例如，可在X方向上移动目标定位装置5，以使cp束2落在光束
传感器7上(如图1所示)，该光束传感器被设置在靠近目标工作台51的x工作台52上。在沿Y方向的运动过程中，光束传感器7可用来在写入下一个写入路径之前测量cp束2的特性特征。
[0078] 目标定位装置5的示例性实施例在图2和图3中更详细地示出。在该实施例中，目标定位装置5包括
支架55，该支架具有在X方向上延伸的两个线性支承件56。目标定位装置5的
重心高度57位于穿过支承件56的平面中。
[0079] 支承件56支撑x工作台52并允许x工作台52沿X方向平滑移动。为了驱动x工作台52，提供两个第一或者x致动器53。这些x致动器53被设置在屏蔽件6外部。每个x致动器53包括延伸通过屏蔽件6并连接至x工作台52的推拉杆58。如图3所示，应用的点581，即，x致动器53通过推拉杆58向x工作台52施力的位置，位于目标定位装置5的重心高度57处。
[0080] 在x工作台52的顶部上设置有y工作台54。该y工作台54包括短行程致动器59，下面将更详细地描述该短行程致动器。
[0081] 在y工作台54的顶部上设置有目标模块51。该目标模块51可设置有具有六个
自由度的短行程工作台8，在短行程工作台的顶部上设置用于保持目标的目标工作台。
[0082] 如图4A和图4B所示，在第一致动器53的作用下，通过伸展或者收缩推拉杆58，可使目标模块51沿着X方向运动。
[0083] 图5A-5E示意性示出了y工作台54的短行程致动器的运行过程。图6和图7示意性地示出了y工作台沿图5A-图5E中的II-II线的横截面。在这些图中，已启动的压电元件用阴影或者阴影线区域示出。
[0084] 当驱动x工作台52以执行图案的写入时，y工作台54上的目标模块51的位置被固定并被保持。为了保持y工作台54上的目标模块51在Y方向相对于x工作台52的位置，该y工作台54设有第一压电元件541，该第一压电元件可被设置在如图6和图5A所示的保持位置中，其中，压电元件541将y工作台54夹紧在x工作台52的
侧壁521之间。为了提供在Z方向上的正确位置，y工作台54设置有第二压电元件542，该第二压电元件可被设置在如图6和图5A所示的支撑位置中，在该位置中，压电元件542位于x工作台52上。
[0085] 为了在Y方向上移动y工作台54，第一压电元件541被设置在如图7和图5B所示的释放位置中，在该位置中，压电元件541被收回并且未在x工作台52的侧壁521上提供夹紧力。此外，y工作台54设置有第三压电元件543，该第三压电元件可设置在如图7和图5B所示的支撑位置中，在该位置中，压电元件543以及由此y工作台54位于短行程致动器
59上，并且y工作台54通过接合装置543接合至致动器59。注意到在如图6和图5A所示的保持或锁定位置中，该第三压电元件543被收回并且y工作台54未由短行程致动器59支撑。
[0086] 当y工作台54如图5B所示位于短行程致动器59上时，致动器59可在Y方向上形成短行程，如图5C所示。在这段行程中，致动器因此使y工作台54上的目标模块51沿Y方向移动。
[0087] 在使y工作台54在Y方向上移动期望距离Y+后，第二压电元件542被伸展，第三压电元件543被收回，而y工作台54现在通过第二压电元件543被x工作台52支撑，并且不受短行程致动器59的影响。随后第一压电元件541被设置在保持位置中，在该保持位置中，压电元件541将y工作台54夹紧在x工作台52的侧壁521之间，如图5D所示。
[0088] 随后，短行程致动器59可通过向后移动距离Y-返回到它的初始位置，这得到了与图5A所示的用于短行程致动器同样的情况。
[0089] 通过重复该程序，可沿着Y方向逐步移动y工作台54。当短行程致动器59如图5A所示的初始处于左手侧时，可将y工作台54逐步移动到右侧。当短行程致动器59如图
5D所示初始处于右手侧时，可将y工作台54逐步移动到左侧。
[0090] 在如图8所示的第二示例性实施例中，XY工作台包括两个X工作台
基座86，二者都设置在共同的基板85的顶部上。每个X工作台基座86承载有X工作台架861。该X工作台架861设置有挠性件(flextures)862(见图9)，用于将Y粱84连接至X工作台架861。该Y梁84跨过(bridge)X工作台之间的空间并且设置有用于连接至挠性件862的连接件(interface member)842。
[0091] Y梁包括具有Y架844或用于承载目标模块(未示出)的承载件的Y工作台。具体地，在使用中，目标被设置在目标模块顶部上，并且目标模块通过连接板81设置在Y工作台的顶部上。该Y架844或者承载件设置有连接销843，如图10B所示，此处，连接板81被移除。
[0092] 具体地，连接销843可提供动态安装，以将目标模块精确地定位在承载件或者Y架844上。当自由度(自由运动的轴)的数量以及应用于安装的物理限制的数量合计为6时，则称安装是动态的。因此，连接板81的面向Y架844的侧面设置有“锥形的、凹槽的、以及平的”的安装部，如图10A示意性示出的，其中，连接销843通过弹性件或
弹簧811分别被保持在凹槽和圆锥内。
[0093] 如图11的横截面所示，Y粱84提供用于两个平行设置的线性工作台845、846的共同基板。这些工作台845、846的架被预加
应力并提供了结构所需的的
刚度。
[0094] 在该实施例中，为了吸收工作台845、846和/或Y架844的任何热膨胀，Y架844一方面通过刚性连接件847刚性地连接至第一工作台846的架，另一方面通过挠性件848连接至第二工作台845的架。
[0095] 此外，至少其中一个工作台845、846(在该实施例中使用第二工作台845)设置有标尺96，该标尺与直线式
编码器头(linear encoder head)协同作用能提供Y架在第二或Y方向上的位置信息。
[0096] 在该实施例中，Y粱84的沿着Y方向延伸的两个相对的侧面设置有压电电动机91、91′，它们都具有由压电元件驱动的延伸件92、92′。延伸件92、92′可作用于临近的陶瓷驱动板93、93′上，该陶瓷驱动板设置在Y架844的相对的侧面上，一方面，用于保持Y架844相对于Y粱84的位置，另一方面，用于沿着Y粱的工作台845、846移动Y架844。
在该示例性实施例中，Y架844或承载件插设并且保持在两个相对的压电电动机91、91′之间。
[0097] 应当理解，上面的描述被包含在内以说明优选实施例的操作，并且并非旨在限制本发明的范围。从上面的讨论来看，对本领域的技术人员来说，多种变型都是明显的，这些变型也包含在本发明的本质和范围内。
[0098] 例如，代替采用压电元件，其他致动器也可用来将承载件夹紧进而保持至工作台。这样的替代性致动器可包括
气动的、液压的或者其他类型的机械致动器。
[0099] 根据本发明的具有保持装置的目标定位装置因此能被合适地设置成使可能扰乱带电粒子束的轨迹的磁场的电流变化最小化，并因此被设置成最优化应用于带电粒子曝光系统中的目标定位装置，该带电粒子曝光系统例如用于无掩模图像投影的光刻系统，特别是多束带电粒子曝光系统。
