Electron beam device
专利汇可以提供Electron beam device专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且PURPOSE: To form an accurate pattern on a mask by determining a beam diameter or the dozing amount corresponding to an exposed region and by exposing the corresponding region by a desired electron beam.
CONSTITUTION: Electron gun 2 consists of grounded anode 36, Wehnelt cylinder 38 applied with a high negative voltage, and emitter 40 focusing electrons, and emitter 40 uses a prismatic electrode with its tip pointed relatively. Adjusting a current flowing to heater 42 or/and a high voltage between emitter 40 and Wehnelt cylinder 38 varies the diameter of the electron beam at crossover point 24. Then the projective image at point 24 is projected on the photo resist on mask 22 and the region of the photo resist to be exposed changes. In this case, the electron beam diameter at point 24 is set according to the 1st and 2nd operation modes of CPU34 and the fixed region is exposed through the x-directional scanning on mask 22.
COPYRIGHT: (C)1979,JPO&Japio，下面是Electron beam device专利的具体信息内容。
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