Additives to negative photoresists which increase the sensitivity thereof
专利汇可以提供Additives to negative photoresists which increase the sensitivity thereof专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且The use of a scanning electron beam to generate a pattern in a negative photoresist is known. Electron beam equipment can be made which is capable of scanning very quickly, but a standard negative photoresist such as partially cyclized cis-polyisoprene requires such a large flux of electrons for proper exposure that the scanning equipment must be operated at speeds substantially slower than the capability of the equipment. By adding 1,4diphenyl-1,3-butadiene which dissociates readily into free radicals to the photoresist, the sensitivity or speed of the photoresist is effectively increased. As a result, the electron beam can scan at a higher rate.，下面是Additives to negative photoresists which increase the sensitivity thereof专利的具体信息内容。
| 标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
|---|---|---|
| 一种用于全光调制的石墨烯等离激元器件及制备方法 | 2020-05-08 | 829 |
| 含有新型多触发单体的抗蚀剂组合物和方法 | 2020-05-11 | 168 |
| 小样品力学性能测试方法 | 2020-05-11 | 812 |
| 包含氨基甲酸酯组分的光刻胶 | 2020-05-12 | 751 |
| 一种大面积、均匀的纳米二聚体阵列的制备方法 | 2020-05-12 | 588 |
| 湿法腐蚀辅助掺杂制备的增强型GaN HEMT器件及制备方法 | 2020-05-11 | 421 |
| 一种工作在双波段的超导纳米线单光子探测器 | 2020-05-11 | 955 |
| 一种集成型生物传感器及其制备方法 | 2020-05-11 | 731 |
| 一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法 | 2020-05-08 | 331 |
| 基于干式显影和金属掺杂Sb2Te光刻胶的光刻方法 | 2020-05-08 | 67 |
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台，是提供专利分析，专利查询，专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据，免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析，涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度，系统通过AI智能系统对图表进行解读，只需1分钟，一键生成行业专利分析报告。
