专利汇可以提供Exposure control apparatus for an electron microscope专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且Apparatus for indicating and/or controlling the exposure time of photographic material exposed to the electron beam of an electron microscope includes an electron impermeable, insulated conductive screen which may be positioned to intercept a part at least of the electron beam. The current flowing to the screen may be measured to indicate required exposure time. Alternatively the voltage across a resistor in the current path may be stored and integrated to yield a signal for indicating that exposure should be terminated. The signal may be used to produce termination of exposure.,下面是Exposure control apparatus for an electron microscope专利的具体信息内容。
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