Ion implanter
专利汇可以提供Ion implanter专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且PURPOSE: To simultaneously implant 2 or more kinds of ions in an ion implanter by pluralizing the ion path after a mass spectrometry system.
CONSTITUTION: Two ion paths bonded to an analysis magnetic field 12 are provided, and accelerating tubes 13 and 14 are installed to each of the paths to simultaneously implant P
+ and P
++ by use of PH
3 gas provided to an ion source 11. As a plurality of ions can be implanted at the same time, the capacity of the device is improved and also the resources, saved.
COPYRIGHT: (C)1990,JPO&Japio，下面是Ion implanter专利的具体信息内容。
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