专利汇可以提供Manufacture of alloy as ion source专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE: To easily generate a micropattern image, by generating pure ion beams from which isotopes are removed for irradiation of a base metal while controlling composition ratios of an alloy to produce the alloy as an ion source with a decreased amount isotopes.
CONSTITUTION: The isotopes included in a desired kind of ions generated in the ion source 21 of an ion implanter are removed by an ion mass separator 23 to produce pure ion beams 28. While the alloy composition ratios, defined by a product of an implantation time of the pure ion beams 28 and its electric- current intensity, are under control, the pure ion beams 28 irradiate a base metal 24 as a target for ionic bombardment, to generate an alloy as an ion source with reduced isotopic contents. Thus, no dual image or unclear pattern may appear even in use of the mass separator 23 with a low resolution, when a pattern is drawn with the ion beams. Micropatterns may thereby be easily formed.
COPYRIGHT: (C)1989,JPO&Japio,下面是Manufacture of alloy as ion source专利的具体信息内容。
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