显示面板、掩膜版和显示终端
阅读：0发布：2023-04-01
专利汇可以提供显示面板、掩膜版和显示终端专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种 显示面板 、掩膜版和显示终端。其中，显示面板包括： 基板 ，具有第一显示区域及第二显示区域；第一显示单元，设置于第一显示区域；第一显示单元包括第一 电极 层；第二显示单元，设置于第二显示区域；第二显示单元包括第二电极层；隔离柱，设置于第一显示区域与第二显示区域的连接处，隔离柱用于将第一电极层与第二电极层绝缘。上述显示面板，具有均进行显示动态或者静态画面的第一显示区域和第二显示区域，可以真正实现全面屏显示。并且，在第一显示区域和第二显示区域之间设置隔离柱，以将第一显示单元的第一电极层与第二显示单元的第二电极层绝缘，从而避免了第一显示单元和第二显示单元相互干扰。，下面是显示面板、掩膜版和显示终端专利的具体信息内容。
1.显示面板，其特征在于，包括：
基板，设有相邻的第一显示区域及第二显示区域，所述第一显示区和所述第二显示区均用于显示动态或者静态画面，且所述第二显示区域下方可设置感光器件；
第一显示单元，设置于所述第一显示区域；所述第一显示单元包括两个相对设置的第一电极层；
第二显示单元，设置于所述第二显示区域；所述第二显示单元包括两个相对设置的第二电极层；
隔离柱，设置于所述第一显示区域与所述第二显示区域的连接处，所述隔离柱用于将远离所述基板的一所述第一电极层和远离所述基板的一所述第二电极层绝缘。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示单元为AMOLED显示单元或者类AMOLED显示单元；所述第二显示单元为PMOLED显示单元。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，两个所述第一电极层中远离所述基板的一所述第一电极层为所述第一显示单元的阴极层，两个所述第二电极层中远离所述基板的一所述第二电极层为所述第二显示单元的阴极层。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述隔离柱与所述第二显示单元的第二隔离柱采用同一构图工艺制备。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示单元还包括第一像素定义层，所述第二显示单元还包括第二像素定义层，所述第一像素定义层与所述第二像素定义层采用同一工艺步骤制备；
所述隔离柱设置于所述第一像素定义层和/或所述第二像素定义层上。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，远离所述基板的一所述第一电极层与远离所述基板的一所述第二连接层采用同一工艺步骤制备。
7.根据权利要求1至6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述隔离柱呈倒梯形。
8.根据权利要求1至6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述隔离柱包括多层堆叠设置的隔离柱层；至少一组相邻两所述隔离柱层形成有台阶；
在垂直于所述隔离柱的延伸方向上，形成所述台阶且位于上层的所述隔离柱层的底表面的宽度，大于形成所述台阶且位于下层的所述隔离柱层的顶表面的宽度；
所述隔离柱的延伸方向平行于所述基板；所述宽度为所述隔离柱在所述基板上形成的正投影，在垂直于所述隔离柱的延伸方向上的尺寸。
9.一种掩膜版，其特征在于，用于制备如权利要求1至8任一项所述的显示面板；所述第一显示单元的支撑柱相对所述基板的高度与所述第二显示单元的第二隔离柱相对所述基板的高度之差为第一高度差；所述掩膜版包括：
框架；
第一掩膜网单元，固定设置于所述框架上，用于制备所述第一显示单元的有机发光层；
第二掩膜网单元，固定设置于所述框架上，用于制备所述第二显示单元的有机发光层；
其中，所述第一掩膜网单元与所述第二掩膜网单元之间具有第二高度差，所述第一高度差与所述第二高度差相等。
10.一种显示终端，其特征在于，包括：
设备本体，具有器件区；
如权利要求1至8中任意一项所述的显示面板，覆盖在所述设备本体上；
其中，所述器件区位于所述第二显示区域下方，且所述器件区中设置有透过所述第二显示区域进行光线采集的感光器件。
显示面板、掩膜版和显示终端
技术领域
[0001] 本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板、掩膜版和显示终端。
背景技术
[0002] 随着电子设备的快速发展，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的全面屏显示受到业界越来越多的关注。
[0003] 对于传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒和红外感应元件等的器件，所以需要在显示屏上开槽(notch)或在显示屏上开孔，以在开槽区域或开孔区域设置这些器件。但是，开槽区域或开孔区域均不用于显示画面。
[0004] 因此，传统的电子设备均不是真正意义上的全面屏，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，如在开槽区域或开孔区域不能显示画面。
发明内容
[0006] 显示面板，包括：
[0007] 基板，设有相邻的第一显示区域及第二显示区域，所述第一显示区和所述第二显示区均用于显示动态或者静态画面，且所述第二显示区域下方可设置感光器件；
[0009] 第二显示单元，设置于所述第二显示区域；所述第二显示单元包括两个相对设置的第二电极层；
[0010] 隔离柱，设置于所述第一显示区域与所述第二显示区域的连接处，所述隔离柱用于将远离所述基板的一所述第一电极层与远离所述基板的一所述第二电极层绝缘。
[0011] 上述显示面板，具有均进行显示动态或者静态画面的第一显示区域和第二显示区域，可以真正实现全面屏显示。并且，在第一显示区域和第二显示区域之间设置隔离柱，以将第一显示单元的远离基板的一第一电极层与第二显示单元的远离基板的一第二电极层绝缘，从而避免了第一显示单元和第二显示单元相互干扰。
[0012] 可选地，所述第一显示单元为AMOLED显示单元或者类AMOLED显示单元；所述第二显示单元为PMOLED显示单元。如此，形成了由PMOLED显示单元和AMOLED显示单元构成的全面屏。
[0013] 可选地，远离所述基板的一所述第一电极层为所述第一显示单元的阴极层，远离所述基板的一所述第二电极层为所述第二显示单元的阴极层。如此，防止了第一显示单元的阴极层和第二显示单元的阴极层相互导通，从而相互影响，不利于正常显示。
[0014] 可选地，所述隔离柱与所述第二显示单元的第二隔离柱采用同一构图工艺制备。如此，将显示面板的隔离柱与第二显示单元的第二隔离柱采用同一构图工艺制备，简化了显示面板的制备工序和节约了材料。
[0016] 所述隔离柱设置于所述第一像素定义层和/或所述第二像素定义层上。如此，将第一像素定义层和第二像素定义层采用同一工艺步骤制备，简化了显示面板的制备工艺和加快了生产效率。
[0017] 可选地，两个所述第一电极层远离所述基板的一所述第一电极层与两个所述第二电极层中远离所述基板的一所述第二连接层采用同一工艺步骤制备。如此，将对应的第一电极层与第二电极层采用同一工艺步骤制备，简化了显示面板的制备工艺和加快了生产效率。并且，第一显示单元与第二显示单元之间的隔离柱的设置使得对应的第一电极层与第二电极层能够采用同一工艺步骤制备，不会出现对应的第一电极层与第二电极层导通的情况。
[0018] 可选地，所述隔离柱呈倒梯形。如此，倒梯形结构的隔离柱能够更好的起到隔离第一电极层和第二电极层的作用。
[0019] 可选地，所述隔离柱包括多层堆叠设置的隔离柱层；至少一组相邻两所述隔离柱层形成有台阶；
[0020] 在垂直于所述隔离柱的延伸方向上，形成所述台阶且位于上层的所述隔离柱层的底表面的宽度，大于形成所述台阶且位于下层的所述隔离柱层的顶表面的宽度；
[0021] 所述隔离柱的延伸方向平行于所述基板；所述宽度为所述隔离柱在所述基板上形成的正投影，在垂直于所述隔离柱的延伸方向上的尺寸。如此，在自上而下溅射形成第一电极和第二电极的过程中，在隔离柱层形成的台阶上难以形成第一电极和第二电极，从而有效地将第一电极和第二电极隔断，避免了第一显示单元与第二显示单元相互干扰，有利于实现全面屏正常显示。
[0024] 第一掩膜网单元，固定设置于所述框架上，用于制备所述第一显示单元的有机发光层；
[0025] 第二掩膜网单元，固定设置于所述框架上，用于制备所述第二显示单元的有机发光层；
[0026] 其中，所述第一掩膜网单元与所述第二掩膜网单元之间具有第二高度差，所述第一高度差与所述第二高度差相等。
[0027] 如此，通过设置具有相应高度差的第一掩膜网单元和第二掩膜网单元，使得在使用掩膜版同时蒸镀第一显示单元的有机发光层和第二显示单元的有机发光层时，可以使得第一掩膜网单元距离第一显示单元的阳极层(两个第一电极层靠近基板的一第一电极层)的距离，与第二掩膜网单元距离第二显示单元的阳极层(即两个第二电极层靠近基板的一第二电极层)的距离相等，从而减小阴影效应，避免蒸镀混色。
[0028] 一种显示终端，包括：
[0029] 设备本体，具有器件区；
[0030] 如上任意一实施例中所述的显示面板，覆盖在所述设备本体上；
[0031] 其中，所述器件区位于所述第二显示区域下方，且所述器件区中设置有透过所述第二显示区域进行光线采集的感光器件。
[0032] 上述显示终端，在第一显示区域和第二显示区域之间设置隔离柱，以将第一显示单元的第一电极层与第二显示单元的第二电极层绝缘，从而避免了第一显示单元和第二显示单元相互干扰。且该显示终端具有均进行显示动态或者静态画面的第一显示区域和第二显示区域，感光器件能够透过第二显示区域采集光线，可以真正实现全面屏显示。附图说明
[0033] 图1为本发明一实施方式中的显示面板的截面结构示意图；
[0034] 图2为图1所示的显示面板的正视图；
[0035] 图3为另一实施例中的显示面板的截面结构示意图；
[0036] 图4为本发明一实施方式中的掩膜版的截面结构示意图；
[0037] 图5为图4所示的掩膜版的正视图；
[0038] 图6为发明一实施方式中的显示终端的截面结构示意图；
[0039] 图7为图5所示的显示终端的正视图。
具体实施方式
[0040] 为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
[0041] 除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0042] 在描述位置关系时，除非另有规定，否则当一元件例如层、膜或基板被指为在另一膜层“上”时，其能直接在其他膜层上或亦可存在中间膜层。进一步说，当层被指为在另一层“下”时，其可直接在下方，亦可存在一或多个中间层。亦可以理解的是，当层被指为在两层“之间”时，其可为两层之间的唯一层，或亦可存在一或多个中间层。
[0043] 在使用本文中描述的“包括”、“具有”、和“包含”的情况下，除非使用了明确的限定用语，例如“仅”、“由……组成”等，否则还可以添加另一部件。除非相反地提及，否则单数形式的术语可以包括复数形式，并不能理解为其数量为一个。
[0044] 应当理解，尽管本文可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件和另一个元件区分开。例如，在不脱离本发明的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件可以被称为第一元件。
[0045] 还应当理解的是，在解释元件时，尽管没有明确描述，但元件解释为包括误差范围，该误差范围应当由本领域技术人员所确定的特定值可接受的偏差范围内。例如，“大约”、“近似”或“基本上”可以意味着一个或多个标准偏差内，在此不作限定。
[0046] 此外，附图并不是1：1的比例绘制，并且各元件的相对尺寸在附图中仅以示例地绘制，而不一定按照真实比例绘制。
[0047] 正如背景技术所述，传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等，故而可通过在显示屏上开槽(Notch)，在开槽区域设置摄像头、听筒以及红外感应元件等。但开槽区域并不用来显示画面，如现有技术中的刘海屏，或者采用在屏幕上开孔的方式，对于实现摄像功能的电子设备来说，外界光线可通过屏幕上的开孔处进入位于屏幕下方的感光元件。但是这些电子设备均不是真正意义上的全面屏，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，如在摄像头区域不能显示画面。
[0048] 针对上述问题，技术人员研发了一种显示面板，其通过在在开槽区域设置透明显示面板的方式来实现电子设备的全面屏显示。根据驱动方式的不同，OLED可以分为PMOLED(Passive Matrix OLED，被动式驱动有机发光二极管)和AMOLED(Active Matrix OLED，主动式驱动有机发光二极管)两种。以PMOLED为例，PMOLED显示阵列的同一行显示单元的同一性质电极是共用的，并且同一列显示单元同一性质电极也是共用的。具体而言，PMOLED显示面板是以阴极、阳极构成矩阵，以扫描方式点亮阵列中的像素，每个像素都是操作在短脉冲模式下，为瞬间高亮度发光。研究发现，由于PMOLED显示面板无TFT背板和金属走线，使得光线透过率高，而可以被应用于前述的透明显示面板。
[0049] 由于设置于开槽区域的显示单元与设置于非开槽区域的显示单元相邻，而在溅射形成两区域的显示单元的阴极层时，由金属原子的移动方向不定，导致二者的阴极层会容易相互电导通，不利于正常显示。
[0050] 为解决上述问题，本发明提供了一种显示面板，能够较佳地解决上述问题。
[0051] 图1示出了本发明一实施例中的显示面板的截面示意图。图2为图1所示的显示面板的正视图。为便于描述，附图仅示出了与本发明实施例相关的结构。
[0052] 参见图1及图2，本发明一实施例中提供的显示面板，包括基板10、第一显示单元11、第二显示单元12及隔离柱13。基板10设有相邻的第一显示区域A1及第二显示区域A2，第一显示区域A1和第二显示区域A2均用于显示动态或者静态画面，且第二显示区域A2下方可设置感光器件。第一显示单元11设置于第一显示区域A1，第一显示单元11包括两个相对设置的第一电极层113。第二显示单元12设置于第二显示区域A2，第二显示单元12包括两个相对设置的第二电极层123。隔离柱13设置于第一显示区域A1与第二显示区域A2的连接处。该隔离柱13用于将两个第一电极层113中远离基板的一第一电极层113与两个第二电极层123中远离基板的一第二电极层123绝缘。
[0053] 上述显示面板，具有均进行显示动态或者静态画面的第一显示区域A1和第二显示区域A2，可以真正实现全面屏显示。并且，在第一显示区域A1和第二显示区域A2之间设置隔离柱13，以将第一显示单元11的两个第一电极层113中远离基板10的一第一电极层113与第二显示单元12的两个第二电极层123中远离基板10的一第二电极层123绝缘，从而避免了第一显示单元11和第二显示单元12相互干扰，有利于实现全面屏显示。
[0054] 需要指出的是，第一显示单元11和第二显示单元12可以分别形成，也可以同时形成，在此不作限定。
[0056] 本发明的一些实施例中，上述第二显示单元12可以为透明或者半透半反式的显示单元。例如，在一实施例中，第二显示单元12为PMOLED(Passive Matrix OLED，PMOLED，无源有机电致发光二极管，也称被动式有机电致发光二极管)显示单元。由于PMOLED显示单元无TFT背板和金属走线，使得光线透过率高，而满足较高的光透过性。
[0057] 进一步地，第二显示单元12具有较高的光透过性还可以通过采用透光率较好的各层材料来实现。例如，各层均采用透光率大于90％的材料，从而使得整个显示面板的透光率可以在70％以上。进一步的，各结构膜层均采用透光率大于95％的材料，进一步提高显示单元的透光率，甚至使得整个显示单元的透光率在80％以上。
[0058] 进一步地，还可以将第二显示单元12的导电走线如两个第二电极层123(即阴极层和阳极层)和阳极层等设置为ITO、IZO、Ag+ITO或者Ag+IZO等。需要说明的是第二电极层123可为单层结构，在其他实施例中也可为多层结构，即由多层导电材料叠加形成。绝缘层材料优选SiO2，SiNx以及Al2O3等，像素定义层则采用高透明材料。这样，可进一步地提高第二显示单元12的光透过性。
[0059] 可以理解，第二显示单元12的透明还可以采用其他技术手段实现，上述显示单元的结构均可以适用。透明或者半透半反式的显示单元处于工作状态时能够正常显示画面，而当显示单元处于其他功能需求状态时，外部光线可以透过该显示单元照射到置于该显示显示单元之下的感光器件等。
[0060] 本发明的一些实施例中，第一显示单元11为AMOLED显示单元或类AMOLED显示单元，第二显示单元12为PMOLED显示单元，从而形成由PMOLED显示单元和AMOLED显示单元构成的全面屏。
[0062] 可以理解，类AMOLED为本领域技术人员所习知的技术，故不再赘述其具体结构及原理。
[0063] 具体地，两个第一电极层113中远离基板10的一第一电极层113为第一显示单元11的阴极层，两个第二电极层123中远离基板10的一第二电极层123为第二显示单元12的阴极层。如此，防止了第一显示单元11的阴极层和第二显示单元123的阴极层相互导通，从而相互影响，不利于正常显示。
[0064] 可以理解的是，两个第二电极层123中远离基板10的一第二电极层123包括多个第二电极，多个第二电极形成行电极或列电极，第二显示单元12还包括用于间隔多个第二电极的第二隔离柱，防止第二电极的行电极或列电极间相互导通。在一个实施例中，上述显示面板的隔离柱13与第二显示单元12的第二隔离柱采用同一构图工艺制备。如此，将显示面板的隔离柱13与第二显示单元12的第二隔离柱采用同一构图工艺制备，简化了显示面板的制备工序和节约了材料。
[0065] 在一实施例中，第一显示单元11还包括第一像素定义层，第二显示单元12还包括第二像素定义层，第一像素定义层与第二像素定义层采用同一工艺步骤制备。隔离柱13设置于第一像素定义层和/或第二像素定义层上。如此，将第一像素定义层和第二像素定义层采用同一工艺步骤制备，简化了显示面板的制备工艺和加快了生产效率。
[0066] 可以理解的是，两个第一电极层113中的一个第一电极层113形成于基板10，且该第一电极层113包括多个第一电极，用于形成行电极或列电极。第一像素定义层形成于基板10，且覆盖该第一电极层113的每个第一电极的至少部分边缘，形成暴露第一电极表面的多个像素定义开口。第一显示单元11还包括形成于像素定义开口的第一有机发光层。其中另一个第一电极层113形成于各第一有机发光层远离基板10的一侧，且采用整面覆盖的方式覆盖于第一显示单元11的第一有机发光层。
[0067] 两个第二电极层123中的一个第二电极层123形成于基板10，且该第二电极层123包括多个第二电极，用于形成列电极或行电极。第二像素定义层形成于基板10，且覆盖该第二电极层123的每个第二电极的至少部分边缘，形成暴露第二电极表面的多个像素定义开口。第二显示单元还包括形成于该像素定义开口的第二有机发光层。其中另一个第二电极层123形成于各第二有机发光层远离基板10的一侧。
[0068] 在一实施例中，两个第一电极层113中远离基板10的一第一电极层113与两个第二电极层123中远离基板10的一第二电极层123采用同一工艺步骤制备。如此，将两个第一电极层113中远离基板10的一第一电极层113与两个第二电极层123中远离基板10的一第二电极层123采用同一工艺步骤制备，简化了显示面板的制备工艺和提升了生产效率。并且，第一显示单元11与第二显示单元12之间的隔离柱13的设置使得该第一电极层113与该第二电极层123能够采用同一工艺步骤制备，不会出现第一电极层113与第二电极层123连通的情况，有利于实现全面屏显示。
[0069] 在一些实施例中，隔离柱13呈倒梯形。如此，倒梯形结构的隔离柱13能够更好的起到隔离第一电极层113和第二电极层123的作用。
[0070] 图3示出了本发明另一实施例中的显示面板的截面结构示意图。
[0071] 请参见图3，在另一些实施例中，隔离柱13包括多层堆叠设置的隔离柱层；至少一组相邻两隔离柱层形成有台阶131。例如，一些实施方式中，每一隔离柱层具有底表面及与底表面相对设置的顶表面，位于上层的隔离柱13层的底表面相对位于下层的隔离柱13层的顶表面凸伸出而可形成台阶131。
[0072] 需要说明的是，显示面板的制作工艺中，膜层是一层一层逐一交叠形成，则在后形成的膜层被认为是位于在先形成的膜层的“上方/上层”；对应地，在先形成的膜层被认为是位于在后形成的膜层的“下方/下层”。因此，当层被指为在另一层“上方/上层”或“下方/下层”时，是以膜层的交叠时的上下为基准；对应地，前述的位于下层的隔离柱13层的顶表面，即是指位于下层的隔离柱13层背离基板10一侧的表面。
[0073] 其中，在垂直于隔离柱13的延伸方向上，形成台阶131且位于上层的隔离柱层的底表面的宽度，大于形成台阶131且位于下层的隔离柱层的顶表面的宽度。隔离柱13的延伸方向为平行于基板10的方向，也即为隔离柱13的纵长方向，其宽度方向则是垂直于纵长方向的方向，所述宽度即是指隔离柱13在基板10上形成的投影在垂直于延伸方向的尺寸。
[0074] 容易理解，由于隔离柱13为立体结构，在其垂直于基板10的截面上(也即纵截面)，不同高度位置处可能具有不同的宽度。但是隔离柱层的顶表面或底表面在基板10上的投影在垂直于延伸方向的尺寸是唯一的。当形成台阶且位于上层的隔离柱层的底表面的宽度，大于形成台阶且位于下层的隔离柱层的顶表面的宽度时，可形成开口朝下的台阶131。
[0075] 这样，在自上而下溅射形成第一电极113和第二电极123的过程中，在隔离柱层形成的台阶131上难以形成第一电极113和第二电极123，从而有效地将第一电极113和第二电极123隔断，避免了第一显示单元11与第二显示单元12相互干扰，有利于实现全面屏正常显示。
[0076] 作为一种较佳的具体到实施方式，隔离柱13的材料可为负光刻胶。呈倒梯形的隔离柱13的具体制作过程中，可以首先在基板10上涂覆负光刻胶层，然后通过曝光显影，以形成呈倒梯形的隔离柱13。
[0077] 隔离柱13包括多层堆叠设置的隔离柱13层时的具体制作过程中，可以首先在基板10上涂覆负光刻胶层，然后进行曝光显影，同时保证下层小线宽，从而形成位于下层的呈倒梯形的隔离柱13层。然后在基板10上整面涂覆同种材料的负光刻胶，并界定出隔离柱13的高度，最后相比第一次曝光增大曝光范围，使发生交联反应的负光刻胶比位于其下层的隔离柱13层“大”。
[0078] 这样，形成双倒梯形隔离柱13，进一步地提高了阴极隔断的几率，且相比均为正梯形的制作工艺更为简单，成本更低。
[0079] 可以理解，多层的隔离柱层的组合方式不限于此，例如，在又一些实施例中，相邻的两个隔离柱层亦可为正梯形、倒梯形或矩形等形状的各种组合，能实现形成可阻断阴极的台阶的目的即可。
[0080] 还可以理解的是，隔离柱层还包括连接于顶表面和低表面之间的侧表面，在垂直于基板10且垂直于隔离柱13延伸方向，隔离柱层的侧表面的轮廓线可以为直线，亦可为曲线在此不作限定。例如，隔离柱层的至少一个侧表面的轮廓线为非直线形，所述非直线形状包括折线段、弧形、半圆形及波浪形中的至少一种。
[0081] 在一实施例中，为了提高透光率，在第二显示区域A2可以不设置偏光片或设置厚度较薄的偏光片，也即第二显示区域A2的第二显示单元12中不设置偏光片或设置厚度较薄的偏光片。
[0082] 由于第二显示区域A2中的第二显示单元12能够有效改善外部光线透射该第二显示区域A2所产生的衍射现象，从而可有效提升位于第二显示区域A2的透光率。有利如下方感光器件(例如，摄像头)透过第二显示区域采集光线，避免因衍射而导致所拍摄的图像失真，同时也能提升光传感器感测外部光线的精准度和敏感度。
[0083] 图4示出了本发明实施例中的掩膜版的截面结构示意图。图5示出了图4所示的掩膜版的正视图。为便于描述，附图仅示出了与本发明实施例相关的结构。
[0084] 上述显示面板包括第一显示单元11及第二显示单元12，由于第一显示单元11与第二显示单元12的结构不同，使得第一显示单元11的第一像素定义层上的支撑柱相对基板的高度与第二显示单元的第二像素定义层上的第二隔离柱相对基板的高度之差为第一高度差，在同时蒸镀第一显示单元11和第二显示单元12的有机发光层时容易出现较大的阴影效应，导致蒸镀混色。例如，PMOLED显示单元的像素定义层上的隔离柱一般采用负性光刻胶，呈倒梯形，在满足锥角规格以及蒸镀有机发光层的工艺条件的情况下，隔离柱高度一般在3um以上，而PMOLED显示单元的像素定义层的支撑柱一般采用正性光刻胶，呈正梯形，在满足锥角规格以及蒸镀有机发光层的工艺条件的情况下，支撑柱的高度一般在1.5um左右。因此，需要提供一种掩膜版解决上述容易导致蒸镀混色的问题。
[0085] 请参见图4及图5，基于上述显示面板，本发明还提供一种制备上述显示面板的掩膜版。该掩膜版包括框架100、第一掩膜网单元102及第二掩膜网单元104。第一掩膜网单元102固定设置于框架100上，用于制备第一显示单元11的有机发光层。第二掩膜网单元104固定设置于框架100上，用于制备第二显示单元12的有机发光层。并且，第一掩膜网单元102与第二掩膜网单元104之间具有第二高度差，第一高度差与第二高度差相等。
[0086] 如此，通过设置具有相应高度差的第一掩膜网单元102和第二掩膜网单元104，使得在使用掩膜版同时蒸镀第一显示单元11的有机发光层和第二显示单元12的有机发光层时，可以使得第一掩膜网单元102距离第一显示单元11的阳极层(两个第一电极层靠近基板的一第一电极层)的距离，与第二掩膜网单元104距离第二显示单元12的阳极层(即两个第二电极层靠近基板的一第二电极层)的距离相等，从而减小阴影效应，避免蒸镀混色。
[0087] 在一实施例中，第一高度差不大于1.5微米。通过控制第一显示单元11与第二显示单元12之间的高度差，可以进一步控制减少在使用掩膜版进行蒸镀过程中可能发生的阴影效应。优选地，第一高度差不大于0.5微米。如此，通过控制第一显示单元11与第二显示单元12之间的高度差不大于0.5微米，使得能够确保在使用掩膜版进行蒸镀过程中阴影效应较小，避免蒸镀混色。
[0088] 图6示出了本发明一实施例中的显示终端的结构示意图。图7示出了本发明一实施例中的设备本体62的结构示意图。为便于描述，附图仅示出了与本发明实施例相关的结构。
[0089] 请参见图6及图7，基于上述的显示面板，本发明的实施例还提供一种显示终端60。
[0090] 该显示终端60包括设备本体62和显示面板64。显示面板64设置在设备本体62上，且与该设备本体62相互连接。其中，显示面板64可以采用前述任一实施例中的显示面板64，用以显示静态或者动态画面。设备本体具有器件区。器件区位于第二显示区域A2下方，且器件区中设置有用于采集透过第二显示区域A2的光线的感光器件40。
[0091] 在本实施例中，设备本体62上可设有开槽区622和非开槽区624。在开槽区622中可设置有诸如摄像头以及光传感器等感光器件40。此时，显示面板64的第二显示区域A2对应于开槽区贴合在一起，以使得上述的诸如摄像头及光传感器等感光器件40能够透过该第二显示区域A2对外部光线进行采集等操作。由于第二显示区域A2中的显示单元能够有效改善外部光线透射该第二显示区域A2所产生的衍射现象，从而可有效提升显示设备上摄像头所拍摄图像的质量，避免因衍射而导致所拍摄的图像失真，同时也能提升光传感器感测外部光线的精准度和敏感度。
[0092] 上述显示终端可以为手机、平板、掌上电脑、ipod等数码设备。
[0093] 以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
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