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Manufacture of cathode for electron tube

阅读:1023发布:2020-08-30

专利汇可以提供Manufacture of cathode for electron tube专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacture of a cathode for an electron tube which can stably operate under a high current density. SOLUTION: A base body 1, which is welded to a cathode sleeve 2, contains a reduction element, and is composed of nickel as a main component, is arranged in a vacuum device, and a metal layer 4, whose main component metal reduction characteristic is equal to or smaller than that of the reduction element and is larger than that of the nickel, is deposited on the base body 1. Heat treatment is conducted in order to diffuse at least one part of the metal 4 in the metal layer 4 into the base body 1. Further, an alkaline earth metal oxide 6 containing at least barium and an electron emission substance 5 containing at least one kind of rare earth metal oxide 7 are applied onto the metal 4.,下面是Manufacture of cathode for electron tube专利的具体信息内容。

【特許請求の範囲】
  • 【請求項1】 陰極スリーブに搭載され、還元性元素を含有した主成分がニッケルからなる基体を真空装置内に配設し、前記基体上に、前記還元性元素よりも還元性が同等かまたは小さく、かつニッケルより還元性が大きい金属を主成分とする金属層を蒸着する工程と、 それに続いて、前記金属層中の金属のうち少なくとも一部を前記基体中へ拡散させる工程と、 それに続いて、前記基体上に少なくともバリウムを含むアルカリ土類金属酸化物と少なくとも一種の希土類金属酸化物とを含む電子放射物質を塗布する工程とを備えたことを特徴とする電子管用陰極の製造方法。
  • 【請求項2】 金属層がタングステンであることを特徴とする請求項1に記載の電子管用陰極の製造方法。
  • 说明书全文

    【発明の詳細な説明】

    【0001】

    【発明の属する技術分野】この発明はテレビ用ブラウン管などに用いられる電子管用陰極の改良に関するもので、特に電子管用陰極の製造方法に関するものである。
    本願は、特願平2−56855号(出願日平成2年3月7日)を原出願とする分割出願である。

    【0002】

    【従来の技術】図3は、例えば特公昭64−5417号公報に開示されているような、テレビ用ブラウン管や撮像管に用いられている電子管用陰極を示すものであり、
    図において11はシリコン(Si)、マグネシウム(M
    g)などの還元性元素を微量含む、主成分がニッケルからなる基体、12はニクロムなどで構成された陰極スリーブ、15はこの基体11の上面に被着され、少なくともバリウムを含み、他にストロンチウムあるいは/及びカルシウムを含むアルカリ土類金属酸化物21を主成分とし、0.1〜20重量%の酸化スカンジウムなどの希土類金属酸化物22を含んだ電子放射物質層、13は上記基体11内に配設されたヒータで、加熱により上記電子放射物質層15から熱電子を放出させるものである。

    【0003】次に、このように構成された電子管用陰極において、基体11への電子放射物質層15の被着方法について説明すると、まずバリウム、ストロンチウム、
    カルシウムの三元炭素塩と所定量の酸化スカンジウムをバインダー及び溶剤とともに混合して、懸濁液を作成する。 この懸濁液を基体11上にスプレイ法により約80
    0μmの厚みで塗布し、その後、ブラウン管の真空排気工程中にヒータ13によって加熱する。 この時、アルカリ土類金属の炭酸塩はアルカリ土類金属酸化物に変わる。 その後、アルカリ土類金属酸化物の一部を還元して半導体的性質を有するように活性化を行なうことにより、基体11上にアルカリ土類金属酸化物21と希土類金属酸化物22との混合物からなる電子放射物質層15
    を被着せしめているものである。

    【0004】この活性化工程において、アルカリ土類金属酸化物の一部は次の様に反応しているものである。 つまり基体11中に含有されたシリコン、マグネシウム等の還元性元素は拡散によりアルカリ土類金属酸化物21
    と基体11の界面に移動して、アルカリ土類金属酸化物と反応する。 例えば、アルカリ土類金属化合物として酸化バリウム(BaO)であれば次式(1)、(2)の様に反応するものである。 2BaO+1/2Si = Ba+1/2Ba 2 SiO 4・・・・(1) BaO+Mg = Ba+MgO ・・・・(2) これらの反応の結果、基体11上に被着形成されたアルカリ土類金属酸化物21の一部が還元されて、酸素欠乏型の半導体となり、電子放射が容易になる。 電子放射物質層に希土類金属酸化物が含まれない場合で、陰極温度700〜800℃の動作温度で0.5〜0.8A/cm
    2の電流密度動作が可能であり、電子放射物質層中に希土類酸化物が含まれた場合で、1.32〜2.64A/
    cm 2の電流密度動作が可能になる。

    【0005】一般に酸化物陰極の電子放射能は酸化物中の過剰Baの存在量に依存するので、希土類金属酸化物が含まれない場合には高電流動作に必要な十分の過剰Baの供給が得られず、動作可能な電流密度が小さい。
    すなわち、上記した反応時に生成される副生成物であって中間層と呼ばれている酸化マグネシウム(MgO)やバリウムシリケイト(Ba 2 SiO 4 )が基体11のニッケルの結晶粒界や基体11と電子放射物質層15との界面に集中的に形成されるため、上式(1)および(2)
    の反応がこれら中間層中のマグネシウムおよびシリコンの拡散速度に律速され、過剰Baの供給が不足するためである。 電子放射物質層中に希土類金属酸化物が含まれる場合は、酸化スカンジウム(Sc 23 )を例にとり説明すると、陰極動作時の基体11と電子放射物質層15
    との界面では基体1中を拡散移動してきた還元剤の一部と酸化スカンジウム(Sc 23 )が次の(3)式の様に反応して少量の金属状のスカンジウムが生成され、金属状のスカンジウムの一部は基体11のニッケル中に固溶し、一部は上記界面に存在する。 1/2Sc 23 +3/2Mg = Sc+3/2MgO ・・・・(3) (3)式の様に反応して形成された金属状のスカンジウムは基体11上あるいは基体11のニッケルの粒界に形成された上記中間層を次の(4)式の様に分解する作用を有するので、過剰Baの供給が改善され、希土類金属化合物が含まれない場合よりも高電流密度動作が可能になると考えられている。 1/2Ba 2 SiO 4 +4/3Sc = Ba+1/2Si+2/3Sc 23・・・・(4)

    【0006】また、特開昭52−91358号公報には機械的強度を増大するW、Moなどの高融点金属とM
    g、Al、Si、Zrなどの還元剤とを含有するNi合金からなる基体上で、電子放射物質層が被着される面にNi−W、Ni−Moなどの合金層をコーティングする直熱型の陰極技術が開示されている。

    【0007】

    【発明が解決しようとする課題】上記の製造方法により形成された電子管用陰極においては、希土類金属酸化物が過剰Baの供給を改善するものの、過剰Baの供給速度は基体のニッケル中の還元剤の拡散速度に律速され、
    2A/cm 2以上の高電流密度動作での寿命特性は著しく低くなるという課題を有していた。

    【0008】また、後者に示したものにおいては、基体自身に電流を流しその発熱を利用して電子放射物質層から熱電子を放射させる直熱型陰極固有の問題点である基体の熱変形を、Ni−W,Ni−Moなどの合金層を基体上にコーティングすることにより、改善するものであり、高電流密度動作を可能にすることができなかった。

    【0009】この発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、基体上に金属層を形成し、この金属層を基体中に拡散させることにより、基体中の還元剤に加え、基体中に拡散された金属層が過剰Baの供給に寄与するとともに、界面でこの金属層が安定して中間層の分解効果を有する希土類金属の生成にも寄与するように作用させ、特に2A/cm 2以上の高電流密度動作での寿命特性を向上させることを目的とする。

    【0010】

    【課題を解決するための手段】この発明に係る電子管用陰極の製造方法は、陰極スリーブに搭載され、還元性元素を含有した主成分がニッケルからなる基体を真空装置内に配設し、前記基体上に、前記還元性元素よりも還元性が同等かまたは小さく、かつニッケルより還元性が大きい金属を主成分とする金属層を蒸着する工程と、それに続いて、前記金属層中の金属のうち少なくとも一部を前記基体中へ拡散させる工程と、それに続いて、前記基体上に少なくともバリウムを含むアルカリ土類金属酸化物と少なくとも一種の希土類金属酸化物とを含む電子放射物質を塗布する工程とを備えたものである。 また、金属層をタングステンに規定するものである。

    【0011】

    【発明の実施の形態】

    実施の形態1. 以下に、この発明の一実施の形態を図1
    に基づいて説明する。 図において、4は基体1の上面に構成された例えばW、Mo,Ta、Si、Mgなどの少なくとも一種の金属層、5はこの金属層4上に被着され、少なくともバリウムを含み、他にストロンチウムあるいは/及びカルシウムを含むアルカリ土類金属酸化物6を主成分とし、0.01〜25重量%の酸化スカンジウム、酸化イットリウムなどの希土類金属酸化物7を含む電子放射物質層である。

    【0012】次に、この様に構成された電子管用陰極において、基体1への金属層4の形成方法について説明すると、まず少量のSi、Mgを含有するNi基体1を陰極スリーブ2に溶接した後、この陰極基体部を例えば電子ビーム蒸着装置内に配設し、10 -5 〜10 -8 Torr
    程度の真空雰囲気でWを電子ビームで加熱蒸着するものである。 その後、この陰極基体部を例えば素雰囲気中で800〜1100℃で加熱処理をするが、これは上記金属層4内部あるいは表面に残存する酸素などの不純物を除去し、またこの金属層4を焼結あるいは再結晶化あるいは基体1中への拡散をさせるためである。 この様な方法で金属層4が形成された陰極基体部上に従来と同様に電子放射物質層5を被着形成するものである。

    【0013】図2はこの様な方法で作成した本発明を実施してなる電子管用陰極を通常のテレビジョン装置用ブラウン管に装着し、通常の排気工程をへて完成したブラウン管を電流密度2A/cm 2の条件で動作させた時の寿命特性を、従来例と比較して示したものである。 ここで、金属層4としては膜厚0.2μmのW膜を形成し、
    水素雰囲気中で1000℃で加熱処理を施した。 なお、
    電子放射物質層5としては、比較のため実施例および従来例ともに、7重量%の酸化スカンジウムを含むアルカリ土類金属酸化物6を用いた。 この図2から明らかなように、本実施の形態のものは従来例のものに比べ寿命中のエミッション劣化が著しく少ないことがわかる。

    【0014】この様に、この発明を実施してなる電子管用陰極の優れた特性の原因は以下の様に考えられる。 即ち、この発明の金属層4は膜厚の薄い層として形成されているので、動作時において金属層4は基体1のNiの結晶粒上または結晶粒内に分布し、このNiの結晶粒界は基体1上面で電子放射物質層5側に露出しているので、基体1中の還元剤は金属層4の影響を受けず前述の反応式(1)、(2)に基づき過剰Baを供給する。 それに加えて、金属層4であるWは次式(5)の様に、電子放射物質層5の還元による過剰Baの供給にも寄与する。 2BaO+1/3W = Ba+1/3Ba 2 WO 3・・・・(5) さらに、Wは基体1の還元剤であるSi、Mgよりも還元性が小さいが、基体1のNi粒子上または粒子内に分布しているので、電子放射物質層5内の酸化スカンジウムとの反応が比較的容易に起こり、中間層分解の効果を有するScの生成にも寄与する。

    【0015】上記実施の形態においては、金属層4がW
    である場合を例にとり説明したが、金属層4は基体1中の還元剤の少なくとも一つの還元剤よりも還元性が同等または小さく、Niより還元性が大きいことが望ましい。 その理由は、金属層4の還元性がNiよりも小さいと過剰Baの供給効果が少なく、基体1中の還元剤の還元性より大きいと過剰Baの主たる供給反応は金属層4
    と電子放射物質層5との界面で起こり、基体1中の還元剤の過剰Ba供給効果が小さくなり、上述した酸化スカンジウムの中間層分解効果の特性への寄与が小さくなるからである。

    【0016】上記金属層4としては基体1中の還元剤の構成に依存するが、W、Mo、Ta、Si、Mgなどの少なくとも一種の金属を選択すれば良い。 また、上記金属層4は基体1中の還元剤の少なくとも一つの還元剤よりも還元性が同等または小さくNiより還元性が大きい金属、例えばW、Mo、Ta、Cr、Si、Mgに、N
    iの還元性以下の金属、例えばNiを加えた合金層で構成しても良い。

    【0017】また、上記金属層4の厚みが2.0μm以下であることが望ましく、特に0.8μm以下であると高電流密度動作での寿命特性向上が著しい。 これは、金属層4の厚みが2.0μm以上では基体1中の還元元素の電子放射物質層5への拡散がこの金属層4によって律速され、還元元素によるBa供給が不足するためである。

    【0018】金属層4の形成された基体1は真空中または還元雰囲気中で最高温度が800〜1100℃で加熱処理を施すが、この加熱処理により、金属層4を主に基体1のNi粒子上または粒子内に分布するように制御することが可能になり、基体1中の還元元素の電子放射物質層5への拡散が適正に維持できる。

    【0019】この発明を実施してなる電子管用陰極はテレビ用ブラウン管や撮像管に適用可能であるが、投射型テレビあるいは大型テレビなどのブラウン管に適用して高電流で動作することにより、高輝度化が実現できる。
    特にハイビジョンテレビ用ブラウン管の高輝度化に有効である。 また、ディスプレイモニタ用ブラウン管に高電流密度で適用すること、即ち電流取出し面積を従来より小さくして適用することにより、従来よりも高精細のブラウン管が実現できる。

    【0020】

    【発明の効果】この発明は以上述べた様に、電子管用陰極の製造方法において、陰極スリーブに搭載され、還元性元素を含有した主成分がニッケルからなる基体を真空装置内に配設し、前記基体上に、前記還元性元素よりも還元性が同等かまたは小さく、かつニッケルより還元性が大きい金属、例えばタングステンを主成分とする金属層を蒸着する工程と、それに続いて、前記金属層中の金属のうち少なくとも一部を前記基体中へ拡散させる工程と、それに続いて、前記基体上に少なくともバリウムを含むアルカリ土類金属酸化物と少なくとも一種の希土類金属酸化物とを含む電子放射物質を塗布する工程とを備えたので、基体中の還元剤に加え、基体中に拡散された金属層が過剰Baの供給に寄与するとともに、界面でこの金属層が安定して中間層の分解効果を有する希土類金属の生成にも寄与するように作用する。 これにより、従来の酸化物陰極では適用困難であった2A/cm 2以上の高電流密度動作が可能な電子管用陰極を提供できるようになり、従来では困難であった高輝度、高精細のブラウン管を実現するという効果を有する。

    【図面の簡単な説明】

    【図1】 この発明の一実施の形態による電子管用陰極の断面図である。

    【図2】 この発明を実施してなる電子管用陰極を装着したブラウン管の寿命試験時間とエミッション電流比を示す特性図である。

    【図3】 従来の電子管用陰極の構造を示す断面図である。

    【符号の説明】

    1 基体、 2 陰極スリーブ、 3 ヒータ、 4
    金属層、5 電子放射物質層、 6 アルカリ土類金属酸化物、7 希土類金属酸化物

    ───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大平 卓也 神奈川県鎌倉市大船2丁目14番40号 三菱 電機株式会社生活システム研究所内 (72)発明者 渡部 勁二 神奈川県鎌倉市大船2丁目14番40号 三菱 電機株式会社生活システム研究所内 (72)発明者 中西 寿夫 京都府長岡京市馬場図所1番地 三菱電機 株式会社京都製作所内 (72)発明者 佐野 金治郎 京都府長岡京市馬場図所1番地 三菱電機 株式会社京都製作所内 (72)発明者 鎌田 豊一 京都府長岡京市馬場図所1番地 三菱電機 株式会社京都製作所内 (72)発明者 新庄 孝 京都府長岡京市馬場図所1番地 三菱電機 株式会社京都製作所内

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