【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は積層フイルムに関する。 詳しくは、巻取り性、易滑性、ハンドリング性等に優れ、電磁変換特性、ドロップアウト、磁性層の走行性、耐久性に優れた磁気記録媒体、特に高密度磁気記録媒体用として用いるのに適した熱可塑性樹脂積層フイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化の進歩はめざましく、例えば強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリング等の物理沈着法又はメッキ法により非磁性支持体上に形成せしめた強磁性金属薄膜磁気記録媒体、またメタル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗布した薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進んでいる。

【０００３】前者の例としては、例えば、Ｃｏの蒸着テープ（特開昭５４―１４７０１０号公報）、Ｃｏ―Ｃｒ
合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３４７
０６号公報）が知られている。 後者の例としては、例えば極薄層塗布型媒体による高密度磁気記録（電子通信学会技術報告ＭＲ９４―７８（１９９５―０２））等が知られている。

【０００４】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布してなる磁気記録媒体）は、記録密度が低く、記録波長も長い為に、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いのに対して、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティング等の薄膜形成手段によって形成される金属薄膜は、厚みが０．２μｍ以下と非常に薄く、また極薄層塗布型媒体の場合も、非磁性下地層を設けるものの０．１
３μｍの厚みと非常に薄くなっている。

【０００５】上記の高密度磁気記録媒体においては、非磁性支持体の表面状態が磁気記録層の表面性に大きな影響を及ぼし、特に金属薄膜型の磁気記録媒体の場合には、非磁性支持体の表面状態がそのまま磁気記録層表面の凹凸として発現し、それが再生信号の雑音の原因となる。 従って、非磁性支持体の表面は出来るだけ平滑であることが望ましい。

【０００６】一方、ベースフイルムの製膜、加工工程での搬送・傷付き、巻取り、巻出しといったハンドリングの観点からは、フイルム表面が平滑過ぎると、フイルム―フイルム相互の滑り性が悪化し、ブロッキング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状（ロールフォーメーション）が悪化し、製品歩留りの低下、ひいては製品の製造コストの上昇を来す。 従って、製造コストという観点からは、支持体の表面は出来るだけ粗いことが望ましい。

【０００７】この様に、電磁変換特性という観点からは非磁性支持体の表面は平滑であることが要求され、ハンドリング性、フイルムコストの観点からは粗いことが要求される。

【０００８】更に、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、実際に使用されるときの重大な問題点として、金属薄膜面の走行性がある。 磁性体粉末を有機高分子バンダー中に混入させてベースフイルムに塗布してなる塗布型磁気記録媒体の場合には、該バインダー中に潤滑剤を分散させて磁性面の走行性を向上させることが出来るが、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、この様な対策をとることが出来ず、走行性を安定して保つのは非常に難しく、特に高温高湿条件下の走行性が劣るなどの問題点をかかえている。

【０００９】そこで、優れた品質の高密度記録媒体用ベースフイルムを安価に供給する為には、上記の相反する性質を同時に満足することが必要となる。

【００１０】この具体的な方策として、フイルム表面に特定の塗剤を塗布し、不連続皮膜を形成させる方法（特公平３―８０４１０号、特開昭６０―１８０８３９
号、特開昭６０―１８０８３８号、特開昭６０―１８０
８３７号、特開昭５６―１６９３７号、特開昭５８―６
８２２３号等）、微細突起を有する連続皮膜を形成する方法（特開平５―１９４７７２号、特開平５―２１０
８３３号）、共押し出し等の技術により表裏異面化する方法（特開平２―２１４６５７号、特公平７―８０２
８２号）、前記の＋又は＋の組み合わせによる方法（特開平３―７３４０９号）等が提案されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、不連続皮膜や微細突起を有する連続皮膜を形成する従来の方法に於いては、フイルム―フイルム間の滑り、ブロッキングといった課題は解決できているが、皮膜中に微細な不活性粒子を均一分散させることが難しく、凝集粒子による粗大突起を生じやすいために電磁変換特性が悪化するなど磁気テープとしての品質が安定しないという問題があった。 また凝集粒子は単分散粒子と比較して製膜工程で各種ガイドロールとの接触によって削り取られやすく、ベースフイルム上に付着堆積して突起となり、磁気テープとしたときにドロップアウトの原因となる問題もある。 また微細視野で見た場合に皮膜中での分散性に優れていても、マクロ視野で見た場合の粗大凝集粒子が存在すると、磁気テープとしたときにドロップアウトの増加が起こるなどの問題がある。

【００１２】一般に、無機粒子は硬度が高く変形しにくいため、磁気ヘッドのクリーニング性に優れており、また種々のサイズの微粒子の製造が容易であるが、ポリマーとの親和性に乏しく粒子の脱落を生じやすい傾向が見られる。 一方、有機粒子はポリマーとの親和性は優れるものの、硬度が無機粒子に比べ低く、粒子全体に熱や機械的摩擦による変形等が加わるため、テープの電磁変換特性がテープの走行を繰り返すことにより劣化していくという問題がある。

【００１３】本発明の目的は、かかる従来技術の欠点を解消し、製膜工程での削れ性、巻取り性に優れ、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体や極薄層塗布型磁気記録媒体として用いられた場合に電磁変換特性、ドロップアウト特性、走行耐久性に優れた積層フイルムを提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明によれば、第一に、平均粒径４０〜４００ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ａを表面の突起頻度が０．５万〜５万個／ｍｍ ²となる量含有する熱可塑性樹脂層Ａの少なくとも片面に、水性樹脂及び平均粒径ｄ
_Bが５〜１００ｎｍである内部より外部が柔軟なコアシェル型構造の粒子Ｂを含有する皮膜層Ｂを積層した積層フイルムであって、粒子Ｂの平均粒径ｄ _B （ｎｍ）、粒子Ｂのコア部の粒径ｄｃ _B （ｎｍ）及び皮膜層Ｂの層厚みｔ _B （ｎｍ）が下記式（１）、（２）を同時に満足し、粒子Ｂからなる表面突起の頻度が１×１０ ⁶ 〜１×
１０ ⁸個／ｍｍ ²であり、かつ粒子Ｂのマクロ凝集物による高さが０．５μｍ以上の突起頻度が５０個／ｃｍ ²
以下であることを特徴とする積層フイルムによって達成される。

【００１５】

【数５】 １．０１≦ｄ _B ／ｄｃ _B ≦３．０ ……（１）

【００１６】

【数６】 ０．０５≦ｔ _B ／ｄｃ _B ≦０．８ ……（２）

【００１７】本発明における熱可塑性樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等を例示することができる。 これらのうちポリステル系樹脂、更には芳香族ポリエステルが好ましい。

【００１８】この芳香族ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ―１，４―シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート等を好ましくは例示することができる。 これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートが好ましい。

【００１９】上記ポリエステルはホモポリエステルであってもコポリエステルであってもよい。 コポリエステルの場合、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの共重合成分としては、例えばジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ｐ―キシレングリコール、１，４―シクロヘキサンジメタノール等のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸（但しポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの場合）、２，６―ナフタレンジカルボン酸（但しポリエチレンテレフタレートの場合）、５―ナトリウムスルホイソフタル酸等の他のジカルボン酸成分、ｐ―オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸成分等があげられる。 尚、共重合成分の量は２０モル％以下、更には１
０モル％以下とするのが好ましい。

【００２０】更に、トリメリット酸、ピロメリット酸等の３官能以上の多官能化合物を共重合させることもできる。 この場合ポリマーが実質的に線状である量、例えば２モル％以下共重合させることがよい。

【００２１】更に、上記のポリエステルは、該ポリエステルと非反応性のスルホン酸のアルカリ金属塩誘導体、
該ポリエステルに実質的に不溶なポリアルキレングリコール等の少なくとも一つを５重量％を超えない程度に混合してもよい。

【００２２】本発明における熱可塑性樹脂層Ａは、平均粒径が４０〜４００ｎｍ、好ましくは５０〜２００ｎ
ｍ、更に好ましくは６０〜１２０ｎｍであり、かつ体積形状係数が０．１〜π／６の粒子Ａを表面の突起頻度が０．５〜５（万個／ｍｍ ² ）、好ましくは０．７５〜４
（万個／ｍｍ ² ）、更に好ましくは１〜３（万個／ｍｍ
² ）となる量含有している。 粒子Ａの平均粒径が４０ｎ
ｍ未満では磁性層の対ＶＴＲヘッド摩擦が高く、磁性層の繰り返し走行耐久性が悪く、またフイルム製膜工程での巻取り性も悪い。 一方、平均粒径が４００ｎｍより大きいと、高密度磁気記録媒体としての電磁変換特性に支障を来す。 また粒子Ａによる表面突起頻度が０．５（万個／ｍｍ ² ）未満ではやはり磁性層の対ＶＴＲヘッド摩擦が高く、磁性層の繰り返し走行耐久性が悪く、またフイルム製膜工程での巻取り性も悪い。 一方、頻度が５
（万個／ｍｍ ² ）より大きいと高密度磁気記録媒体としての電磁変換特性に支障を来す。 さらにまた粒子Ａの形状は、下式

【００２３】

【数７】ｆ＝Ｖ／ｄ _A ³ （ここで、Ｖは微粒子の体積を、ｄ _Aは微粒子の平均粒径を表す。）で定義される体積形状係数ｆが０．１〜π
／６を満たす必要がある。 さらに体積形状係数ｆが０．
３〜π／６のものが好ましく、特に体積形状係数ｆが０．４〜π／６の実質的に球或いはラグビーボール状の楕円球が好ましい。 ｆが０．１より小さい、例えば薄片状粒子では薄膜磁性層の磁気特性の劣化を来す。

【００２４】粒子Ａの種類としては、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋スチレン―ジビニルベンゼン共重合体、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、架橋メチルメタクリレート共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き耐熱性有機高分子からなる微粒子、シリカ、
アルミナ、二酸化チタン、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウム等の如き無機化合物からなる微粒子のいずれでもよい。

【００２５】本発明における皮膜層Ｂを構成する水性樹脂とは、水溶性有機樹脂及び水分散有機樹脂のことを言い、水性のアルキッド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体等を例示することができるが、熱可塑性樹脂層Ａに対する密着性、突起保持性、易滑性などの点から、水性のアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル―ポリエステル樹脂が好ましい。 これら水性樹脂は単一重合体でも共重合体でもよく、また混合物でも良い。

【００２６】前記水性アクリル樹脂は、例えばアクリル酸エステル（アルコール残基としては、メチル基、エチル基、ｎ―プロピル基、イソプロピル基、ｎ―ブチル基、イソブチル基、ｔ―ブチル基、２―エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル基等を例示できる）；メタクリル酸エステル（アルコール残基は上記と同じ）；２―ヒドロキシエチルアクリレート、２―ヒドロキシエチルメタクリレート、２―ヒドロキシプロピルアクリレート、２―ヒドロキシプロピルメタクリレート等の如きヒドロキシ含有モノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ―メチルメタクリルアミド、Ｎ―メチルアクリルアミド、Ｎ―
メチロールアクリルアミド、Ｎ―メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ―ジメチロールアクリルアミド、Ｎ―メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ―メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ―フェニルアクリルアミド等の如きアミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルメタクリレート等の如きアミノ基含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等の如きエポキシ基含有モノマー；スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、及びこれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如きスルホン酸基又はその塩を含有するモノマー；クロトン酸、イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール酸、及びそれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如きカルボキシル基又はその塩を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の無水物を含有するモノマー；その他ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、
アルキルフマール酸モノエステル、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル等の単量体の組合せからつくられたものであるが、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体の如き（メタ）アクリル単量体の成分が５０モル％以上含まれているものが好ましく、特にメタクリル酸メチルの成分を含有しているものが好ましい。

【００２７】かかる水性アクリル樹脂は分子内の官能基で自己架橋することができるし、メラミン樹脂やエポキシ化合物等の架橋剤を用いて架橋することもできる。

【００２８】また前記水性ポリエステル樹脂を構成する酸成分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、
フタル酸、１，４―シクロヘキサンジカルボン酸、２，
６―ナフタレンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５―ナトリウムスルホイソフタル酸、２―カリウムスルホテレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、無水トリメリット酸、無水フタル酸、ｐ―ヒドロキシ安息香酸、トリメリット酸モノカリウム塩等の多価カルボン酸を例示することができる。 また、ヒドロキシ化合物成分としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３―プロパンジオール、１，４―ブタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ｐ―キシリレングリコール、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコール、ポリテトラメチレンオキシドグリコール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジメチロールエチルスルホン酸ナトリウム、ジメチロールプロパン酸カリウム等の多価ヒドロキシ化合物を例示することができる。 これらの化合物から常法によってポリエステル樹脂をつくることができる。 水性塗料をつくる点からは、５―ナトリウムスルホイソフタル酸成分又はカルボン酸塩基を含有する水性ポリエステル樹脂を用いるのが好ましい。 かかるポエステル樹脂は分子内に官能基を有する自己架橋型とすることができるし、メラミン樹脂、エポキシ樹脂のような硬化剤を用いて架橋することもできる。

【００２９】更にまた、前記水性アクリル―ポリエステル樹脂はアクリル変性ポリエステル樹脂とポリエステル変性アクリル樹脂とを包含する意味で用いており、アクリル樹脂成分とポリエステル樹脂成分とが互いに結合したものであって、例えばグラフトタイプ、ブロックタイプ等を包含する。 アクリル―ポリエステル樹脂は、例えばポリエステル樹脂の両端にラジカル開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせたり、ポリエステル樹脂の側鎖にラジカル開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせたり、あるいはアクリル樹脂の側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を有するポリエステルと反応させてくし形ポリマーとする等によって製造することができる。

【００３０】本発明における内部より外部の方が軟質な粒子（以下、シェルコア粒子と呼ぶ）Ｂとは、内外部のそれぞれが性質の異なる物質で構成される多層構造の粒子をいう。 この場合多層とは２層以上のことをいい、性質が径方向に連続的に変化するものであっても良い。 この粒子の外部（以下シェル部と呼ぶ）はフイルム上に塗布後フイルム基部と反応し、または熱処理を行うことにより反応、溶融、軟化もしくは変形してフイルム基部に固着する機能を有し、内部（以下、コア部と呼ぶ）はシェル部と共にフイルムに適度のすべり性及び磁気ヘッドとの最適なスペーシングを与える、いわゆる粒子としての機能を担うと考えられる。 上記シェル、コア部それぞれの機能分担の観点から、シェル部にはフイルム基部との親和性に優れ、かつ製膜、熱処理温度での適切な物理的、化学的、熱的特性を持つことが要求され、コア部には機械的摩擦等によって変形せず、シェル部もしくは基層フイルムに対し相対的に大なる硬度を持つことが求められる。

【００３１】このシェルコア粒子Ｂのコア部の材質としては、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、
ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、
タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウム等の如き無機質のいずれを用いてもよい。

【００３２】シェル部の材質については、一般に熱可塑性樹脂が好ましく、特にアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂等が好ましく、さらにはフイルム基部との親和性を高めるため、その分子中に任意の割合でフイルム基部との反応性もしくは親和性を有する官能基、具体的にはカルボキシル基、水酸基、グリシジル基、アミド基、エポキシ基、イソシアネート基等を導入したものが良い。
これらの官能基は単独、場合によっては二種以上併用しても良い。 またシェル部のガラス転移温度（以下、Ｔｇ
とする）は好ましくは８０℃以下、さらに好ましくは２
０℃以下が良い。 Ｔｇが８０℃を超えるとシェルコア粒子のフイルム上からの脱落が目立つようになる。 かかる上記組成のポリマーをシェル部に使用することにより優れた耐削れ性を発現させることができる。

【００３３】シェルコア粒子Ｂの粒子径ｄ _B （ｎｍ）とコア部の粒径ｄｃ _B （ｎｍ）の比（ｄ _B ／ｄｃ _B ）は、
１．０１〜３．０、好ましくは１．０２〜２．０、更に好ましくは１．０４〜１．５である。 この比（ｄ _B ／ｄ
ｃ _B ）が３．０を超えると、多層構造を持たないシェル部の材質のみからなる有機粒子のような性質を強く帯びるようになり、熱や機械的摩擦による変形が大きくなる。 一方、１．０１より小さくなると、無機粒子的な性質が強くなり、フイルムとの固着性低下、該粒子の脱落等が増加する傾向になり、また凝集率も増加する傾向になる。 いずれの場合もフイルムの加工性、磁気テープの性能に悪影響を及ぼし易く、好ましくない。

【００３４】シェルコア粒子Ｂの平均粒径は５〜１００
ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍである。 更に粒度分布が均一であるものが好ましい。 平均粒径が５ｎｍを下げまわるとすべり性、耐削れ性が悪化し、ロール状に巻取ったときにブロッキング現象が発生する。 一方平均粒径が１００ｎｍを超えると、粒子の脱落が発生し、耐削れ性が悪化する。 また、磁気ヘッドとのスペーシングが大きくなり、高密度の磁気記録媒体として供することが困難となる。

【００３５】シェルコア粒子Ｂの皮膜層Ｂでの凝集率は１０％以下が好ましく、より好ましくは５％以下である。 この凝集率が１０％を超えると、粒子凝集体の異常突起としての性質が顕著となり、また粒子の脱落も発生しやすくなり、磁気テープとしての性能に悪影響を及ぼし易くなる。

【００３６】またシェルコア粒子Ｂのマクロ凝集物による、高さが０．５μｍ以上の突起頻度は５０個／ｃｍ ²
以下、好ましくは２５個／ｃｍ ²以下である。 このマクロ凝集物による突起頻度が５０個／ｃｍ ²を超えると、
ドロップアウトが著しくなり、実用上問題となる。

【００３７】シェルコア粒子Ｂは、皮膜層Ｂの表面突起頻度が１×１０ ⁶ 〜１×１０ ⁸個／ｍｍ ²となる量を該皮膜層Ｂ中に含有される。 この表面突起頻度が１×１０
⁶個／ｍｍ ²未満では磁気記録媒体としたときの走行耐久性が不足する。 一方、１×１０ ⁸個／ｍｍ ²を超えると、電磁変換特性に悪影響を及ぼす。 より好ましくは表面突起頻度は２×１０ ⁶ 〜５×１０ ⁷個／ｍｍ ² 、更に好ましくは３．０×１０ ⁶ 〜３．０×１０ ⁷個／ｍｍ ²
である。

【００３８】皮膜層Ｂの層厚みｔ _B （ｎｍ）とシェルコア粒子Ｂのコア部の粒径ｄｃ _Bの比（ｄ _B ／ｄｃ _B ）
は、０．０５〜０．８、好ましくは０．０８〜０．６、
更に好ましくは０．１〜０．５である。 この比（ｄ _B ／
ｄｃ _B ）が０．８を超えると、シェルコア粒子Ｂの突起形成作用が減少し、磁気記録媒体としたときの走行耐久性が不足する。 一方、０．０５より小さくなると、製膜工程で各種ガイドロールとの接触によって粒子が削りとられて走行耐久性が不足したり、削り取られた粒子がフイルム上に付着堆積してドロップアウトの増加を引き起こしたりする。

【００３９】シェルコア粒子Ｂは、例えばコア部の粒子が存在する系で、シェル部の重合性単量体を乳化重合せしめ、コア部の粒子表面を被覆する方法で製造することができるが、粒子の製造方法によって限定されるものではない。

【００４０】本発明における皮膜層Ｂは熱可塑性樹脂層Ａの少なくとも片面に、前述したシェルコア粒子及び水性樹脂を含む塗液、好ましくは水性塗液を塗布、乾燥することで形成するが、この塗液の固形分濃度は０．２〜
１０重量％、さらには０．５〜５重量％、特に０．７〜
３重量％であることが好ましい。 そしてこの塗液、好ましくは水性塗液には本発明の効果を損わない範囲であれば、所望により他の成分、例えば界面活性剤、安定剤、
分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加することができる。

【００４１】塗布は最終延伸を施す以前の熱可塑性樹脂フイルムに行い、塗布後にフイルムを少なくとも一軸方向に延伸することが好ましい。 この延伸の前乃至途中で塗膜は乾燥される。 その中で、塗布は未延伸熱可塑性樹脂フイルム又は縦（一軸）延伸熱可塑性樹脂フイルムに行うことが好ましい。 塗布方法としては特に限定されないが、例えばロールコート法、ダイコート法等が好ましく挙げられる。

【００４２】本発明におけるシェルコア粒子Ｂを使用することによって、皮膜層Ｂ中での粒子凝集率及びマクロ凝集物の頻度が、従来の無機、有機粒子を使用した場合に比べて格段に改善されるが、その理由として粒子表面の電位変化による粒子相互の反発力の増加、安定ｐＨ領域の変化、などが考えられる。

【００４３】皮膜層Ｂの表面の、原子間力顕微鏡（ＡＦ
Ｍ）による表面粗さＡＲａ _Bは０．３〜５．０ｎｍ、さらに０．５〜４．０ｎｍ、特に０．７〜２．５ｎｍであり、且つ１０点平均粗さＡＲｚ _Bは１０〜１００ｎｍ、
さらに１５〜７０ｎｍ、特に２０〜４０ｎｍであることが好ましい。 このＡＲｚ _Bが５．０ｎｍを超える場合、
あるいはＡＲｚ _Bが１００ｎｍを超える場合は、特に金属薄膜型磁気記録媒体としたときに電磁変換特性が悪化する。 一方、ＡＲｚ _Bが０．３ｎｍ未満の場合、あるいはＡＲｚ _B （ｎｍ）が１０ｎｍ未満の場合は、滑り性が極度に悪化して走行耐久性が不足したり、磁気ヘッドに貼り付いてテープ鳴きを生じたりして実用に供することができなくなり易い。

【００４４】本発明ではフイルムの巻取り性を付与するために、熱可塑性樹脂層Ａの、皮膜層Ｂとは接しない面に不活性粒子Ｃを含有する皮膜層Ｃを設けることが好ましい。

【００４５】皮膜層Ｃは塗布層として形成してもよく、
また後述する共押出し法により形成してもよい。 皮膜層Ｃが塗布層である場合は、含有する不活性粒子Ｃは単独粒子又は大きさの違う２種以上の粒子からなり、単独粒子及は２種以上の粒子の場合の最も大きい粒子の平均粒径は２０〜２００ｎｍ、好ましくは３０〜１００ｎｍである。 皮膜層Ｃ中の不活性粒子Ｃの含有量は３〜５０重量％、好ましくは５〜３０重量％である。 粒子Ｃの平均粒径が２０ｎｍ未満、あるいは含有量が３重量％未満であると、フイルムの巻取り性、製膜工程での搬送性等の点で不十分であり、またブロッキングを起こし易くなる。 一方、平均粒径が２００ｎｍを超える場合は、粒子が塗膜から脱落しやすくなる。 また皮膜層Ｃ中の不活性粒子Ｃの含有量が５０重量％を超える場合は皮膜層Ｃ自体の強度が低下し、削れ易くなる。

【００４６】製膜層Ｃに含有する不活性粒子Ｃとしては、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼン、
ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き有機質からなる粒子、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウム等の如き無機質からなる粒子のいずれを用いてもよい。 また皮膜層Ｂに用いるシェルコア粒子であってもよい。

【００４７】前記粒子Ｃを含有して、塗布層を形成する樹脂としては、皮膜層Ｂの形成に用いた水性樹脂と同じ樹脂を例示することができる。 またこれらに更にセルロース系樹脂を含有させてもよい。

【００４８】皮膜層Ｃが共押出し法により形成される場合は、含有する不活性粒子Ｃが単独粒子又は大きさの違う２種以上の粒子からなり、単独粒子及は２種以上の粒子の場合の最も大きい粒子の平均粒径は１００〜１００
０ｎｍ、好ましくは１００〜５００ｎｍである。 皮膜層Ｃ中の不活性粒子Ｃの含有量は０．００１〜５．０重量％、好ましくは０．００５〜１．０重量％である。 平均粒径が１００ｎｍ未満、あるいは含有量が０．００１重量％未満であると、フイルムの巻取り性、製膜工程での搬送性等の点で不十分であり、またブロッキングを起こし易くなる。 一方、平均粒径が１０００ｎｍを超える場合、あるいは含有量が５．０重量％を超える場合は、皮膜層Ｂ側の面への突き上げ効果が著しくなり、電磁変換特性の悪化が起こる。 不活性粒子Ｃの種類としては皮膜層Ｃを塗布層とした場合に用いた粒子と同じ粒子を例示できる。

【００４９】本発明の積層フイルムは、従来から知られている、或いは当業界に蓄積されている方法で製造することができる。

【００５０】例えば、二軸配向ポリエステルフイルムで説明すると、塗布法の場合まず、前記熱可塑性樹脂Ａを口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフイルム状に押出した後、４０〜９０℃で急冷固化し未延伸フイルムを得る。 しかる後に、該未延伸フイルムを常法に従って一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）
〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで、皮膜層Ｂ、Ｃを形成する塗液をフイルム両面に塗布し、その後に前記方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜
７．５倍の倍率で延伸する。 更に必要に応じて縦方向及び／又は横方向に再度延伸しても良い。 即ち、２段、３
段、４段、或いは多段の延伸を行うと良い。 全延伸倍率は、面積延伸倍率として通常９倍以上、好ましくは１２
〜３５倍、更に好ましくは１５〜２６倍である。 更に引き続いて、二軸配向フイルムを（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ
−１０）℃の温度、例えば１８０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって優れた寸法安定性が付与される。
なお、熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。

【００５１】共押出し法の場合、層Ａ、層Ｃ用の、２種の熱可塑性樹脂を押出し口金内又は口金以前（一般に前者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で溶融状態にて積層複合し、好適な厚み比となして共押出しをして二層積層の未延伸フイルムとし、かつ一軸延伸後に皮膜層Ｂを形成する塗液を塗布する以外は前記塗布法と同様に行うと良い。 かかる方法により、層間密着性の良い二軸配向積層ポリエステルフイルムが得られる。

【００５２】なお、積層フイルムの製造に際し、熱可塑性樹脂に、所望により上述の不活性粒子以外の添加剤、
例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤等を添加含有させることができる。

【００５３】本発明の積層フイルムは、皮膜層Ｂの表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はこれらを主成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、
含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知のバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ
／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることが出来る。 この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤ
ＳIV用テープ媒体として極めて有用である。

【００５４】本発明の積層フイルムは、また、皮膜層Ｂ
の表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉を塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に熱可塑性樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。 また、必要に応じて皮膜層Ｂの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもできる。 このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨＳ、
ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタルβ
カム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用テープ媒体として極めて有用である。

【００５５】本発明の積層フイルムは、また、皮膜層Ｂ
の表面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性粉、
又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉を塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に熱可塑性樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの上に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／
Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、
エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。 また、必要に応じて皮膜層Ｂの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することも出来る。 この酸化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用データストリーマー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記録媒体として有用である。

【００５６】上述のＷ―ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤ
ＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明のフイルムはこれらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に極めて有用なベースフイルムと言うことができる。

【００５７】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説明する。 尚、本発明において用いた測定法は次の通りである。

【００５８】（１）粒子の平均粒径Ｉ（平均粒径：０．
０６μｍ以上） 島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグル パーティクル サイズ アナライザー（Centrifugal Particle
Size Analyzer）を用いて測定する。 得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（Book
「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２
４２〜２４７参照）。

【００５９】（２）粒子の平均粒径II（平均粒径：０．
０６μｍ未満） 小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、
光散乱法を用いて測定する。 即ち、Ｎｉｃｏｍｐ Ｉｎ
ｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ． 社製のＮＩＣＯＭＰ Ｍ
ＯＤＥＬ ２７０ ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ ＰＡＲＴＩＣ
ＬＥ ＳＩＺＥＲ により求められる全粒子の５０重量％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。

【００６０】（３）体積形状係数ｆ 走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス５００（日本レギュレーター製）を用い、投影面最大径及び粒子の体積を算出し、次式により算出する。

【００６１】

【数８】ｆ＝Ｖ／ｄ ³式中、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μｍ ³ ）、
ｄは投影面の最大径（μｍ）を表す。

【００６２】（４）層厚及びコアシェル粒子のコア部粒径 フイルムの全厚はマイクロメーターにてランダムに１０
点測定し、その平均値を用いる。 層厚は、薄い側の層厚を以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚は全厚より薄い側の層厚に引き算して求める。 即ち、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ５０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比（Ｍ ⁺ ／Ｃ ⁺ ）を粒子濃度とし、表面から深さ５００
０ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。 表層では表面という界面の為に粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。 本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になった後、上昇或いは減少して安定値２になる場合と、単調に減少する場合とがある。 この分布曲線をもとに、前者の場合は（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定値１
を与える深さよりも深い）をもって、当該層の層厚とする。

【００６３】測定条件は以下の通りである。 測定装置 二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）：ＰＥＲＫＩＮ
ＥＬＭＥＲ社製 ６３００ 測定条件 一次イオン種 ：Ｏ２＋ 一次イオン加速電圧：１２ＫＶ 一次イオン電流：２００ｎＡ ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０ ^-9 Ｔｏｒｒ Ｅ―ＧＵＮＮ ：０．５ＫＶ―３．０Ａ

【００６４】尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子分光法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求める。

【００６５】以上は共押出し層の場合に有効な測定法であって、塗布層の場合はフイルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロトームにて約６０ｎｍの厚みの超薄切片（フイルムの流れ方向に平行に切断する）を作成し、この試料を透過型電子顕微鏡（日立製作所製Ｈ―
８００型）にて観察し、層の境界面より層厚みを求める。 コアシェル粒子のコア部の粒径もこの超薄切片の断面より観察し、求める。

【００６６】（５）ＡＦＭ表面粗さＡＲａ及びＡＲｚ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の原子間力顕微鏡Ｎａｎｏ ＳｃｏｐｅIII ＡＦＭのＪスキャナーを使用し、以下の条件で算出されるＡＲａ（２乗平均粗さ）及びＡｒｚ（１０点平均粗さ）を測定する。 探針：単結合シリコンセンサー 走査モード：タッピングモード 走査範囲：２μｍ×２μｍ 画素数：２５６×２５６データポイント スキャン速度：２．０Ｈｚ 測定環境：室温、大気中

【００６７】（６）粒子突起の個数、凝集率 ＳＥＭ（走査電子顕微鏡、日本電子製Ｔ―３００型）を使用して、積層フイルムの表面を倍率５千倍あるいは３
万倍、角度０°で２０枚写真撮影して、粒状突起の数をカウントし、その平均値を面積換算により個／ｍｍ ²当たりの突起個数として算出する。 また凝集率は同じＳＥ
Ｍ写真を用いて下記式にて算出する。 凝集率（％）＝［（２個以上の粒子が凝集した凝集塊の総数）／（１個以上の粒子塊の総数）］×１００

【００６８】（７）マクロ凝集物による突起の高さと頻度 積層フイルムの皮膜層Ｂの面に真空蒸着法により傾斜角４５°の角度から０．２μｍの厚みになるようにアルミニウム薄膜を形成し、透過顕微鏡にて倍率４００倍で１
ｃｍ ²を走査観察し、突起の影による非蒸着部の最大長さ（突起高さに相当）が０．２ｍｍ以上の透過光の個数をカウントする。 （即ち、高さが０．２ｍｍ／４００＝
０．５μｍ以上の粗大なマクロ凝集物による突起頻度をカウント。 ）

【００６９】（８）耐削れ性 フイルムを２５〜３０ｃｍ長さ、幅１／２インチにサンプリングし、レザー刃を皮膜層Ｂの面に対し９０°の角度、深さ０．５ｍｍの条件であてがい、荷重５００ｇ／
０．５インチ、速度６．７ｃｍ／ｓｅｃで走行させたときに、レザー刃に付着した削れ粉の深さ方向の幅を顕微鏡写真撮影（×１６０倍）して求めた。 削れ粉の深さ方向の幅が３μｍ以下を（◎）、３μｍ〜５μｍを（○）、５μｍ以上を（×）とした。 削れ粉の深さ方向の幅が小さいほど削れ性に優れている。

【００７０】（９）巻き取り性 スリット時の巻き取り条件を最適化後、幅５６０ｍｍ×
長さ９０００ｍのサイズで、１０ロールのスリットを行い、１週間放置後の、フイルムシワの発生のないロール本を良品として、以下の基準にて巻き取り性の評価をする。 良品ロール本数 判定基準 ８本以上 ◎ ５〜７本 ○ ３〜４本 × ２本以下 ××

【００７１】（１０）磁気テープの製造及び特性評価 積層フイルムの皮膜層Ｂの表面に、真空蒸着法により、
コバルト１００％の強磁性薄膜を０．０２μｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、その表面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更に含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性樹脂Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知方法でバックコート層を設ける。 その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍ
ビデオカセットにローディングする。 次いで、以下の市販の機器を用いてテープの特性を測定する。 使用機器： ８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー（株）製ＥＤＶ
―６０００ Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター

【００７２】Ｃ／Ｎ測定 記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用蒸着テープのＣ／ＮをＯｄＢとし、相対値で表す。 ◎ ：＋２ｄＢ以上 ○ ：−１〜＋２ｄＢ × ：−４〜−２ｄＢ ××：−４ｄＢ以下

【００７３】 ドロップアウト（Ｄ／Ｏ）測定 ドロップアウトカウンターを用いて、１５μｓ／１８ｄ
Ｂにて１分間当たりの個数を測定する。 ◎ ：０〜１０個／分 ○ ：１０〜２０個／分 × ：２０〜５０個／分 ××：５０個／分以上

【００７４】走行耐久性 ４０℃、８０％ＲＨで、テープ、走行速度８５ｃｍ／分で記録再生を５００回繰り返した後のＣ／Ｎを測定し、
初期値からのずれを次の基準で判定する。 ◎ ：初期値に対して＋０．０ｄＢ以上 ○ ：初期値に対して−１．０ｄＢ〜＋０．０ｄＢ × ：初期値に対して−１．０ｄＢ未満

【００７５】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す不活性粒子を添加して常法により重合し、ポリエチレンテフタレート（ＰＥＴ）を得た。

【００７６】このポリエチレンテレフタレートを７０℃
で３時間乾燥後、押出し機に供給し、溶融温度２８０〜
３００℃にて溶融して、ダイよりシート状に押し出し、
急冷して厚さ８４μｍの未延伸フイルムを得た。

【００７７】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフイルム温度９５℃にて縦方向に３．２倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フイルムの一方の面に表１の皮膜層Ｂの水性樹脂および粒子Ｂを含む水性塗液を、もう一方の反対の面に表２の皮膜層Ｃの樹脂および粒子Ｃを含む水性塗液を各々０．００５μｍ、
０．０１５μｍ（延伸乾燥後）の厚みになるよう塗布し、続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．１倍に延伸した。 得られた二軸延伸フイルムを２２
０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み６．４μｍの積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。

【００７８】［実施例２、比較例４、７、９］皮膜層Ｂ
と皮膜層Ｃの樹脂及び粒子、熱可塑性樹脂層Ａの厚みを表１、２のように変更する以外は実施例１と同様の方法で積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。

【００７９】［実施例３、比較例２、６］表１、２の熱可塑性樹脂層Ａ、皮膜層Ｃ用のポリエチレンテレフタレートをそれぞれ２台の押し出し機に供給して、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて積層し、表１の皮膜層Ｂの水性樹脂及び粒子Ｂを含む水性塗液を皮膜層Ｃ側の面と反対の面に塗布する以外は実施例１と同様の方法で積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。

【００８０】［実施例４、５、比較例１、３、５、１
０］表１に示す粒子を用い、かつジメチルテレフタレートの代わりに２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同モル量使用した以外は実施例１と同様の方法でポリエチレン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）を得た。

【００８１】このポリエチレン―２，６―ナフタレートを１７０℃で６時間乾燥後、実施例１と同様にして、各実施例、比較例を満たす未延伸フイルムを得た。

【００８２】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフイルム温度１３５℃にて縦方向に３．６倍に延伸し、急冷し、次いで表１、２に示す皮膜層Ｂ及び皮膜層Ｃの水性塗液を実施例１と同様に塗布し、続いてステンターに供給し、１５５℃にて横方向に６．０倍に延伸した。 得られた二軸延伸フイルムを２０
０℃の熱風で４秒間熱固定し、積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。

【００８３】［実施例６、比較例８］ポリエチレンテレフタレートの代りに、表１に示すようにポリエチレン―
２，６―ナフタレートを用いる以外は実施例３と同様の方法で積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。

【００８４】

【表１】

【００８５】

【表２】

【００８６】実施例１〜６及び比較例１〜１０で得られた積層二軸配向フイルムの表面特性、シェルコア粒子の粒子径ｄ _Bとコア部の粒径の比ｄ _B ／ｄｃ _B 、皮膜層Ｂ
の層厚みｔ _Bとシェルコア粒子のコア部の粒径ｄｃ _Bの比ｔ _B ／ｄｃ _B 、耐削れ性、巻き取り性、このフイルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表３に示す。

【００８７】

【表３】

【００８８】表３から明らかなように、本発明による積層フイルムは製膜工程での削れ性、巻取り性に優れ、磁気記録媒体として用いられる場合に電磁変換特性、ドロップアウト特性、走行耐久性に極めて優れる。 一方、本発明の要件を満たさないものはこれらの特性を同時に満足することはできない。

【００８９】

【発明の効果】本発明によれば、製膜工程での削れ性、
巻取り性に優れ、かつ電磁変換特性、ドロップアウト特性、走行耐久性に優れた磁気記録媒体のベースフイルムとして有用な積層フイルムを提供することができる。