专利汇可以提供Lithium tetraboride single crystal growth furnace专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE: To reduce the cost by dividing the resistance heating means of a specified furnace into upper and lower heating means directly above the upper end of a crucible and providing a heat releasing distance between the upper and lower heating means.
CONSTITUTION: A heater 1 as a resistance heating means is divided into the upper and lower heaters directly above the upper end of a crucible 3, and the distance (b) and the inner diameter (a) are limited to conform to b=(0.05 to 0.25) a to fabricate a lithium tetraboride single crystal growth furnace by the Czochralski process. A molten material 2 is then placed in the crucible 3 and heated by the upper and lower heaters, the furnace temp. gradient close to the face of the melt 2 is controlled to 50 to 200°C/cm, and a lithium tetraboride single crystal is grown.
COPYRIGHT: (C)1994,JPO,下面是Lithium tetraboride single crystal growth furnace专利的具体信息内容。
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、育成時に融液面近傍で大きな炉内温度勾配を必要とする四ホウ酸リチウム単結晶の育成に用いられる育成炉に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、四ホウ酸リチウム単結晶の育成には、融液面近傍で大きな炉内温度勾配を必要とするので、高周波加熱炉を使用し育成されていたが、高周波加熱炉はコストが高騰するという問題があった。 また抵抗加熱炉は運転コストおよび設備経費が安く量産に適すという利点はあるが、融液直上の炉内温度勾配を大きくすることが困難であった。 抵抗加熱炉で大きな温度勾配を得る場合には多段ヒータ構造が用いられるが、このような技術手段では高周波加熱炉に匹敵するような大きな温度勾配は得られないという問題があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は高価な高周波加熱炉を使用することなく、従来技術では不可能であった抵抗加熱炉を用いて、融液近傍で大きな温度勾配を実現する四ホウ酸リチウム単結晶の育成炉を提供することを課題とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を解決するもので、抵抗加熱手段を用いた、チョクラスルキー法による四ホウ酸リチウム単結晶の育成炉に適用され、次の技術手段を採った。 すなわち、該抵抗加熱手段をルツボ上端直上で上下に分割すると共に、該上下加熱手段間に、抜熱用離間距離bを設けたことを特徴とする四ホウ酸リチウム単結晶の育成炉である。
【0005】但し、aを下炉の内径とした場合、b=
(0.05〜0.25)×aとする。
【0006】
【作用】従来行われている抵抗加熱炉による多段ヒータ方式は、それぞれのヒータの温度差によって温度勾配を得ていた。 しかし、この技術手段では高周波加熱炉で得られているような高い温度勾配は得られなかった。 本願は上述のように構成したので、上下のヒータ間の離間部分から抜熱することによって大きな炉内温度勾配を得ることを可能としたものである。
【0007】
【実施例】本発明の実施例の構成を図1に示す。 図1は断面の説明図である。 1はヒータ、2はルツボ3中の融液である。 本発明では炉のヒータ1をルツボ3の上端直上で上下に分割し、その離間距離をb、下炉の内径をa
とした場合、 b=(0.05〜0.25)×a に構成することにより、融液面近傍における炉内温度勾配を50〜200℃/cmとすることができ、抵抗加熱炉を使用する四ホウ酸リチウム単結晶の育成が可能となった。
【0008】図2は本願の一実施例と従来例の温度勾配を比較したグラフであり、従来例はb=0であり、本実施例ではb=0.15aとしたものである。 図2は、本願の方が従来例より融液面近傍における結晶の温度勾配を大きくすることができることを示している。
【0009】
【発明の効果】本発明は、従来高周波加熱炉を使用しなければ育成できなかった四ホウ酸リチウム単結晶でも抵抗加熱炉により育成が可能となるので、四ホウ酸リチウム単結晶育成の低コスト化に優れた効果を奏する。
【図1】本発明の実施例の断面の説明図である。
【図2】本発明の作用効果を示す従来例との比較グラフである。
1 ヒータ 2 融液 3 ルツボ a 炉の内径 b 離間距離
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