减压干燥装置
阅读：596发布：2024-02-25
专利汇可以提供减压干燥装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且在既进行 基板 上的 溶剂 的减压干燥处理又进行溶剂捕获部上的溶剂的脱离处理的减压干燥装置中，以简单的装置结构缩短上述减压干燥处理的时间和上述脱离处理的时间。减压干燥装置(1)使收纳在腔室(10)内的基板(W)上的溶液在减压状态下干燥，包括由网状板构成的、暂时地捕获从基板(W) 汽化 的溶液中的溶剂的溶剂捕获部(30)，溶剂捕获部(30)以与基板(W)相对的方式设置在腔室(10)内，构成溶剂捕获部(30)的网状板的 开口率 为60％以上80％以下，单位面积的 热容 为850J/K·m2以下。，下面是减压干燥装置专利的具体信息内容。
1.一种减压干燥装置，其使收纳在腔室内的基板上的溶液在减压状态下干燥，所述减压干燥装置的特征在于：
包括由网状板构成的、暂时地捕获从所述基板汽化的所述溶液中的溶剂的溶剂捕获部，
所述溶剂捕获部以与所述基板相对的方式设置在所述腔室内，并且，
在所述腔室内的压力被减压至所述基板的温度下的所述溶剂的蒸气压以下的时刻，所述溶剂捕获部的温度，被因减压而发生了绝热膨胀的所述腔室内的气体冷却至该时刻的所述腔室的压力下的所述溶剂的露点以下，
在所述基板上的溶液的溶剂完成蒸发前的期间，该溶剂捕获部的温度被维持在各时刻的所述腔室内的压力下的所述溶剂的露点以下，
在所述基板上的溶液的溶剂完成蒸发后的5分钟以内，该溶剂捕获部的温度因来自所述腔室的辐射热而达到该时刻的所述腔室的压力下的所述溶剂的露点以上。
2.一种减压干燥装置，其使收纳在腔室内的基板上的溶液在减压状态下干燥，所述减压干燥装置的特征在于：
包括由网状板构成的、暂时地捕获从所述基板汽化的所述溶液中的溶剂的溶剂捕获部，
所述溶剂捕获部以与所述基板相对的方式设置在所述腔室内，
所述网状板的开口率为60％以上80％以下，每1m2的热容为850J/K以下。
3.如权利要求2所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述网状板的厚度为0.05mm以上0.2mm以下。
4.如权利要求2或3所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述网状板是通过对金属板进行冷切拉伸而制造的拉制金属网。
5.如权利要求2或3所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述网状板是不锈钢制的。
6.如权利要求2或3所述的减压干燥装置，其特征在于：
从所述基板至所述溶剂捕获部为止的距离为从所述基板至所述腔室的顶板的距离的
40％以上60％以下。
7.如权利要求2或3所述的减压干燥装置，其特征在于：
在所述腔室内设置有红外线辐射体。
8.一种减压干燥装置，其使收纳在腔室内的基板上的溶液在减压状态下干燥，所述减压干燥装置的特征在于：
包括由网状板构成的、暂时地捕获从所述基板汽化的所述溶液中的溶剂的溶剂捕获部，
所述溶剂捕获部以与所述基板相对的方式设置在所述腔室内，
从所述基板至所述溶剂捕获部为止的距离为从所述基板至所述溶剂捕获部的上部的结构物为止的距离的40％以上60％以下。
9.如权利要求8所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述网状板的厚度为0.05mm以上0.2mm以下。
10.如权利要求8或9所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述网状板是通过对金属板进行冷切拉伸而制造的拉制金属网。
11.如权利要求8或9所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述网状板是不锈钢制的。
12.如权利要求8或9所述的减压干燥装置，其特征在于：
在所述腔室内设置有红外线辐射体。
13.如权利要求1～3、8、9中任一项所述的减压干燥装置，其特征在于：
连接有使腔室成为减压状态的排气装置，
并且包括设置在从所述溶剂捕获部至所述排气装置的空间中的另外的溶剂捕获部，所述另外的溶剂捕获部与所述溶剂捕获部相比为低温，暂时地捕获被所述溶剂捕获部暂时捕获后又汽化的溶剂。
14.一种减压干燥装置，通过利用排气装置使腔室成为减压状态，来使收纳在所述腔室内的基板上的溶液干燥，所述减压干燥装置的特征在于，包括：
以与所述基板相对的方式设置在所述腔室内，暂时地捕获从所述基板汽化的所述溶液中的溶剂的溶剂捕获部；和
设置在从该溶剂捕获部至所述排气装置的空间中的另外的溶剂捕获部，所述另外的溶剂捕获部与所述溶剂捕获部相比为低温，暂时地捕获被所述溶剂捕获部暂时捕获后又汽化的溶剂。
15.如权利要求14所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述另外的溶剂捕获部具有对该另外的溶剂捕获部进行冷却的冷却部。
16.如权利要求14或15所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述另外的溶剂捕获部具有对该另外的溶剂捕获部进行加热的加热部。
17.如权利要求14所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述排气装置具有涡轮分子泵，
所述另外的溶剂捕获部被来自所述涡轮分子泵的辐射热加热。
18.如权利要求14或15所述的减压干燥装置，其特征在于：
包括将配置有所述溶剂捕获部的空间与设置有所述排气装置的空间之间可开闭地封闭的封闭部件，
所述另外的溶剂捕获部设置在所述封闭部件的下游。
19.如权利要求18所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述封闭部件是自动压力控制阀，其设置在将所述腔室与所述排气装置连接的排气管中。
20.如权利要求18所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述腔室在底板上的中央设置有载置所述基板的载置台，
所述封闭部件具有风门，所述风门以可开闭的方式将所述载置台与所述腔室的侧壁之间封闭。
21.如权利要求18所述的减压干燥装置，其特征在于：
所述腔室在底板上的中央设置有载置所述基板的载置台，
所述封闭部件具有风门，所述风门以可开闭的方式将所述载置台与所述腔室的顶板之间封闭。
减压干燥装置
技术领域
背景技术
[0002] 一直以来，利用了有机EL(Electroluminescence，电致发光)的发光的发光二极管也就是有机发光二极管(OLED：Organic Light Emitting Diode)已为人所知。使用该有机发光二极管的有机EL显示器除了薄型轻量且低耗电之外，还具有在响应速度、视角、对比度方面性能优异之优点，因此近年来作为下一代平板显示器(FPD)倍受关注。
[0003] 有机发光二极管具有在基板上的阳极与阴极之间夹着有机EL层的结构。有机EL层例如通过从阳极侧起依次层叠空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层而形成。在形成有机EL层的这些各个层(尤其是空穴注入层、空穴传输层和发光层)时，例如使用通过喷墨方式将有机材料的液滴喷出到基板上的方法。
[0005] 具体而言，专利文献1的干燥装置包括可抽真空的处理容器，在处理容器内支承基板的载置台，与支承在载置台上的基板相对设置的、用于捕获从基板上的有机材料膜挥发的溶剂的溶剂捕获部。
[0006] 该专利文献1的干燥装置的溶剂捕获部具有与基板的表面大致平行地配置的金属制的捕获板，在该捕获板上形成有贯通开口。并且，专利文献1的干燥装置具有溶剂脱离装置，其用于在干燥处理结束后，使捕获板所捕获的溶剂再次汽化而从捕获板脱离。此外，专利文献1的干燥装置为了调节捕获板的温度还具有由帕尔贴元件等构成的温度调整装置。
[0007] 在专利文献2的干燥装置中，以与基板相对的方式配置有用于吸附干燥时蒸发的溶液中的溶剂的多孔质的吸附部件。并且，在专利文献2中，在吸附基板上的溶液中的溶剂来进行干燥处理的干燥装置之外，还另设有使吸附部件干燥的干燥装置。在该另设的干燥装置中，在载置吸附部件的载置台上设置有用于进行温度控制的温度控制部。
[0008] 现有技术文献
[0009] 专利文献
[0010] 专利文献1：日本特开2014-199806号公报
[0011] 专利文献2：日本特开2010-169308号公报
[0012] 专利文献3：日本专利第5701782号
发明内容
[0013] 发明想要解决的技术问题
[0014] 为了缩短干燥装置中的处理时间——包括溶剂捕获部所捕获/吸附的溶剂的脱离处理所需的时间在内的时间，需要提高溶剂捕获部对溶剂的捕获效率，或者提高溶剂捕获部上的溶剂的汽化效率。
[0015] 然而，在专利文献1的干燥装置中，为了提高溶剂捕获部即捕获板对溶剂的捕获效率或捕获板上的溶剂的汽化效率，使用了对捕获板进行冷却或加热的温度调节装置，装置的结构较为复杂。
[0016] 另外，在专利文献2公开的技术中，为了促进溶剂捕获部即吸附部件上的溶剂的蒸发，也在载置基板的载置台上使用了温度控制部，装置的结构较为复杂。并且，在专利文献2公开的技术中，为了使吸附部件干燥使用了在基板的干燥装置之外另设的干燥装置。
[0017] 专利文献3对于这一点没有任何的公开和暗示。
[0018] 本发明鉴于这一点而提出，目的在于提供一种减压干燥装置，其既进行基板上的溶剂的减压干燥处理又进行溶剂捕获部上的溶剂的脱离处理，上述减压干燥处理的时间和上述脱离处理的时间得到缩短，并且装置的结构较为简单。
[0019] 用于解决技术问题的技术方案
[0020] 为达到上述目的，本发明的减压干燥装置使收纳在腔室内的基板上的溶液在减压状态下干燥，其特征在于，包括由网状板构成的、暂时地捕获从上述基板汽化的上述溶液中的溶剂的溶剂捕获部，上述溶剂捕获部以与上述基板相对的方式设置在上述腔室内，在上述腔室内的压力被减压至上述基板的温度下的上述溶剂的蒸气压以下的时刻，上述溶剂捕获部的温度，被因减压而发生了绝热膨胀的上述腔室内的气体冷却至该时刻的上述腔室的压力下的上述溶剂的露点以下，在上述基板上的溶液的溶剂完成蒸发前的期间，该溶剂捕获部的温度被维持在各时刻的上述腔室内的压力下的上述溶剂的露点以下，在上述基板上的溶液的溶剂完成蒸发后的5分钟以内，该溶剂捕获部的温度因来自上述腔室的辐射热而达到该时刻的上述腔室的压力下的上述溶剂的露点以上。
[0021] 另一方面的本发明的减压干燥装置，使收纳在腔室内的基板上的溶液在减压状态下干燥，包括由网状板构成的、暂时地捕获从上述基板汽化的上述溶液中的溶剂的溶剂捕获部，上述溶剂捕获部以与上述基板相对的方式设置在上述腔室内，上述网状板的开口率为60％以上80％以下，每1m2的热容为850J/K以下。
[0022] 另一方面的本发明的减压干燥装置，使收纳在腔室内的基板上的溶液在减压状态下干燥，包括由网状板构成的、暂时地捕获从上述基板汽化的上述溶液中的溶剂的溶剂捕获部，上述溶剂捕获部以与上述基板相对的方式设置在上述腔室内，从上述基板至上述溶剂捕获部为止的距离为从上述基板至上述溶剂捕获部的上部的结构物为止的距离的40％以上60％以下。
[0023] 发明效果
[0025] 图1是表示本发明第一实施方式的减压干燥装置的概略结构的图。
[0026] 图2是用于说明溶剂捕获部的安装结构的图。
[0027] 图3是使用了图1的减压干燥装置的减压干燥处理的说明图。
[0028] 图4是表示基板W上涂覆的溶液的溶剂的蒸气压曲线的图。
[0029] 图5是表示减压干燥装置的腔室内的状况的图。
[0030] 图6是对用于构成溶剂捕获网的网状板之适宜的加工方法进行说明的截面图。
[0031] 图7是表示本发明第二实施方式的减压干燥装置的概略结构的纵截面图。
[0032] 图8是表示本发明第三实施方式的减压干燥装置的概略结构的图。
[0033] 图9是表示本发明第四实施方式的减压干燥装置的概略结构的图。
[0034] 图10是表示本发明第五实施方式的减压干燥装置的概略结构的图。
[0035] 图11是表示第一参考实施方式的减压干燥装置的概略结构的纵截面图。
[0037] 图13是表示第二参考实施方式的减压干燥装置的概略结构的纵截面图。
[0038] 图14是表示第三参考实施方式的减压干燥装置的概略结构的纵截面图。
[0039] 图15是表示实施例1中的溶剂捕获网中央附近的温度和腔室内的压力随时间的变化的图。
[0040] 图16是表示实施例1中的溶剂捕获网中央附近的温度和腔室内的压力随时间的变化的图。
[0041] 图17是表示实施例1中的溶剂捕获网中央附近的温度和腔室内的压力随时间的变化的图。
[0042] 图18是表示实施例1中的溶剂捕获网的各部分的温度随时间的变化以及腔室内的压力随时间的变化的图。
[0043] 附图标记说明
[0044] 1……减压干燥装置
[0045] 10……腔室
[0046] 11……本体部
[0047] 12……顶板
[0049] 13a……排气口隙缝
[0050] 20……载置台
[0051] 30……溶剂捕获部(基板干燥用捕获部)
[0052] 31……该溶剂捕获网
[0053] 31……溶剂捕获网
[0054] 31a……拉制金属网
[0055] 32……框体
[0056] 32a……耳部
[0057] 33……脚部
[0058] 40……排气装置
[0059] 42……APC阀
[0060] 50……红外线辐射体
[0061] 50……该红外线辐射体
[0062] 70……另外的溶剂捕获部(制干用捕获部)。
具体实施方式
[0064] (第一实施方式)
[0065] 图1是表示本发明第一实施方式的减压干燥装置的概略结构的图，其中图1的(A)是表示减压干燥装置的结构的概要的截面图，图1的(B)是表示减压干燥装置内的结构的概要的俯视图。图1的(A)省略了用于支承后述的溶剂捕获部的结构体的图示，而图1的(B)省略了后述的顶板等的图示。图2是用于说明溶剂捕获部的安装结构的图，其中图2的(A)是减压干燥装置内的局部侧视图，图2的(B)是减压干燥装置中的溶剂捕获部周围的局部仰视图。
[0066] 本实施方式的减压干燥装置使通过喷墨方式涂覆在基板上的溶液在减压状态下干燥，作为本装置的处理对象的基板例如是有机EL显示器用的玻璃基板。
[0067] 另外，涂覆在作为本装置的处理对象的基板上的溶液由溶质和溶剂构成，减压干燥处理的对象成分主要是溶剂。作为包含在溶剂中的有机化合物多为高沸点的物质，例如可列举1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(1,3-dimethyl-2-imidazolidinone，沸点220℃，熔点8℃)，4-叔丁基茴香醚(4-tert-Butylanisole，沸点222℃，熔点18℃)，反式茴香脑(Trans-Anethole，沸点235℃，熔点20℃)，1,2-二甲氧基苯(1,2-Dimethoxybenzene，沸点206.7℃，熔点22.5℃)，2-甲氧基联苯(2-Methoxybiphenyl，沸点274℃，熔点28℃)，二苯醚(Phenyl Ether，沸点258.3℃，熔点28℃)，2-萘乙醚(2-Ethoxynaphthalene，沸点282℃，熔点35℃)，苄基苯基醚(Benzyl Phenyl Ether，沸点288℃，熔点39℃)，2,6-二甲氧基甲苯(2,6-Dimethoxytoluene，沸点222℃，熔点39℃)，2-丙氧基萘(2-Propoxynaphthalene，沸点305℃，熔点40℃)，1,2,3-三甲氧基苯(1,2,3-Trimethoxybenzene，沸点235℃，熔点45℃)，环己基苯(cyclohexylbenzene，沸点237.5℃，熔点5℃)，十二烷基苯(dodecylbenzene，沸点288℃，熔点-7℃)，1,2,3,4-四甲基苯(1,2,3,4-tetramethylbenzene，沸点203℃，熔点76℃)等。这些高沸点有机化合物也可以使用2种以上组合而配合在溶液中。
[0068] 本实施方式的减压干燥装置如图1所示，包括腔室10、载置台20和溶剂捕获部30，与排气装置40连接。
[0070] 本体部11上设置有用于将基板W搬入腔室10内或从腔室10内搬出的未图示的搬入搬出口。
[0071] 顶板12将本体部11上侧的开口封闭，并支承溶剂捕获部30。关于溶剂捕获部30的支承结构将在后文中说明。
[0072] 底板13将本体部11下侧的开口封闭，在底板13上侧的中央设置有载置台20。并且，在底板13上，以包围载置台20外周的方式设置有排气口隙缝13a，排气口隙缝13a经排气管41与排气装置40连接。通过该排气口隙缝13a，能够对减压干燥装置1的腔室10内进行减压。
[0073] 载置台20用于载置基板W。载置台20设置有进行基板W的交接的未图示的升降销，该升降销能够利用升降机构自由地上下移动。
[0074] 溶剂捕获部30用于捕获从通过喷墨方式涂覆在基板W上的溶液中汽化的溶剂，对腔室10内的气氛中的溶剂浓度进行调节。
[0075] 溶剂捕获部30具有由网状板构成的溶剂捕获板(以下称溶剂捕获网)31，其中上述网状板是具有均匀地、格子状地形成有开口的形状的薄板。
[0076] 溶剂捕获网31由不锈钢、铝、铜、金这样的金属材料等导热性良好的材料形成。更具体而言，溶剂捕获网31例如由通过对钢板进行冷切拉伸而制造的拉制金属网构成。溶剂捕获网31可以由一片拉制金属网构成，但本例中采用由多片拉制金属网在水平方向上排列而构成的结构。
[0077] 溶剂捕获网31的厚度例如为0.1mm。并且，溶剂捕获网31的水平方向的尺寸与基板W的水平方向的尺寸大致相同。更具体而言，构成溶剂捕获网31的多片拉制金属网整体的水平方向的尺寸与基板W的水平方向的尺寸大致相同。不过，为了增大对汽化的溶剂的吸附量，溶剂捕获网31的水平方向的尺寸也可以大于基板W的水平方向的尺寸。另外，在将该溶剂捕获网31设置于基板W中央的上部的情况下，为了控制腔室10内的蒸气浓度的平衡，溶剂捕获网31的水平方向的尺寸也可以小于基板W的水平方向的尺寸。
[0078] 溶剂捕获网31的开口率较大，例如为65％。其中，开口率由(俯视下的溶剂捕获网31的开口部的总面积)/(在俯视时的溶剂捕获网31的整体面积)给出。
[0079] 由于溶剂捕获网31如上所述为开口率较大的网状且较薄，所以每1m2的热容较低，为372J/K，即单位面积的热容较低，为372J/K·m2。
[0080] 该溶剂捕获网31被支承在溶剂捕获网31上部的结构物之中距离溶剂捕获网31最近的顶板12与基板W之间的位置处。并且，溶剂捕获网31以与基板W正对的方式即与基板W大致平行的方式支承于顶板12。
[0081] 顶板12对溶剂捕获网31的支承如图2所示通过框体32和脚部33进行。下面具体说明。
[0082] 构成溶剂捕获网31的拉制金属网31a各自通过焊接等固定在方筒状的框体32上。通过使用螺钉等将设置在框体32外侧的耳部32a固定在从顶板12向下延伸的脚部33上，来使拉制金属网31a即溶剂捕获网31支承于顶板12。
[0083] 其中，框体32和脚部33由不锈钢等金属材料构成。
[0084] 并且，框体32以及脚部33关于溶剂捕获网31位于与基板W相反的一侧。从而，溶剂捕获网31的整个面在基板W一侧均匀地露出，所以从基板W汽化而去往溶剂捕获网31的方向的溶剂的流动不会被框体32和脚部33妨碍。不过，为了使汽化的溶剂的流动更加均匀，框体32和脚部33的体积较小为好。
[0085] 返回图1的说明。
[0087] 在排气管41的排气口隙缝13a与排气装置40之间的部分上，设置有自动压力控制阀(APC(Adaptive Pressure Control)阀)42。在减压干燥装置1中，在使排气装置40的真空泵工作的状态下，通过调节APC阀42的开度，能够控制减压排气时的腔室10内的真空度。
[0089] 另外，减压干燥装置1包括该装置1的未图示的控制部。控制部例如是计算机，具有程序存储部(未图示)。程序存储部中存储有对减压干燥装置1中的减压干燥处理进行控制的程序。另外，上述程序也可以记录在例如计算机可读取的硬盘(HD)、软盘(FD)、光盘(CD)、磁光盘(MO)、存储卡等可由计算机读取的存储介质中，并从该存储介质安装到控制部上。
[0090] 接着，用图3和图4对使用了减压干燥装置1的减压干燥处理进行说明。图3是减压干燥处理的说明图，图3的(A)～图3的(D)是说明减压干燥处理的各工序下的腔室10内的状况的图。图4是表示基板W上涂覆的溶液的溶剂的蒸气压曲线的图，横轴为温度，纵轴为压力。
[0091] 在使用了减压干燥装置1的减压干燥处理中，首先，将通过喷墨方式涂覆了处理液的基板W载置在载置台20上。该状态下，如图3的(A)所示，基板W的温度和溶剂捕获网31的温度均为室温23℃。并且，在将基板W载置在载置台20上的时刻下，腔室10内的压力为大气压4
(约10×10 Pa)，如图4所示，因为比基板W的温度23℃下的溶剂S的饱和蒸气压大，所以基板W上的溶剂S的蒸发速度较小。
(约10×10 Pa)，如图4所示，因为比基板W的温度23℃下的溶剂S的饱和蒸气压大，所以基板W上的溶剂S的蒸发速度较小。
[0092] 接着，使排气装置40的干泵工作来对腔室10内进行减压排气。利用干泵进行减压排气直至腔室10内的压力成为10Pa。
[0093] 在该减压排气时，腔室10内的气体因绝热膨胀而被冷却。由于基板W的热容较大等原因，所以即使腔室10内的气体像这样被冷却，该基板W的温度也几乎不会从室温23℃发生变化。不过，热容较小的溶剂捕获网31的温度会降低。具体而言，在干泵完成减压排气，腔室10内的压力成为10Pa的时刻，如图3的(B)所示，溶剂捕获网31的温度例如降低至8～15℃。
[0094] 另外，如图4的点P1所示，干泵结束减压排气时的腔室10内的压力10Pa大于基板W的温度23℃下的溶剂S的饱和蒸气压，因此即使在干泵结束减压排气时，蒸发速度仍然不大。
[0095] 在利用排气装置40的干泵将腔室10内的压力减压排气至10Pa之后，使排气装置40的涡轮分子泵工作，进一步进行减压排气。
[0096] 通过该减压排气，当如图4的点P2所示，腔室10内的压力到达基板W的温度23℃下的溶剂的饱和蒸气压即0.2Pa以下时，基板W上的溶剂S的蒸发速度增大。
[0097] 此时，溶剂捕获网31如上所述随减压排气而被冷却，在腔室10内的压力减压至0.2Pa的时刻，溶剂捕获网31的温度例如图3的(C)所示为8～15℃。根据图4的点P3可明确，该8～15℃小于0.2Pa下的溶剂的露点即23℃。
[0098] 并且，在基板W上的溶剂S完成蒸发前的期间，溶剂捕获网31的温度被维持在各时刻的腔室10内的压力下的溶剂S的露点以下。
[0099] 从而，从基板W汽化的溶剂被高效地由溶剂捕获网31捕获，所以腔室10内的气态的溶剂的浓度被维持得较低。因而，能够迅速除去基板W上的溶剂。
[0100] 在完成了基板W上的溶剂S的除去之后，继续利用排气装置40的涡轮分子泵进行排气。这是为了从溶剂捕获网31除去由该溶剂捕获网31捕获的溶剂3002
[0101] 当如上所述继续利用涡轮分子泵进行排气时，由于来自腔室10的顶板12和基板W等的辐射热，热容较小的溶剂捕获网31的温度发生上升。具体而言，在基板W上的溶剂S完成蒸发后的5分钟以内，如图4的点P4和图3的(D)所示，溶剂捕获网31的温度上升至18～23℃，为该时刻的腔室10的压力(0.05Pa)下的溶剂的露点以上。因而，能够使溶剂迅速从溶剂捕获网31除去/脱离。
[0102] 另外，自基板W上的溶剂S完成蒸发，至溶剂捕获网31的温度到达该时刻的腔室10的压力下的溶剂的露点以上所花费的时间，优选为5分钟以内。当大于5分钟时，溶剂捕获网31上的溶剂完成脱离需要较长的时间，工时将会延长。
[0103] 另外，自基板W上的溶剂S完成蒸发，至溶剂捕获网31的温度到达该时刻的腔室10的压力下的溶剂的露点以上所花费的时间，优选为20秒以上。因为基板W上的溶剂S从开始蒸发起约10秒完成干燥，所以溶剂捕获网31最好至少持续10秒以上，优选持续20秒以上逐渐进行干燥。这是因为，在短于20秒的情况下，可能会在吸附于溶剂捕获网31上的溶剂汽化时，因该汽化的溶剂导致基板W上的已干燥的涂覆膜发生溶化，或气化的溶剂吸附在基板W上。
[0104] 在溶剂捕获网31的温度如上所述地到达该时刻的腔室10的压力下的溶剂的露点以上之后，在规定时间经过之前持续利用涡轮分子泵进行排气，由此结束用于从溶剂捕获网31除去溶剂的溶剂捕获网31的干燥工序。
[0105] 在溶剂捕获网31的干燥工序结束后，停止排气装置40。之后，在腔室10内的压力返回大气压后，将基板W从腔室10搬出。由此，结束减压干燥装置1中的减压干燥处理。
[0106] 像这样，在减压干燥装置1中，由于将热容小的网状板用作溶剂捕获部30，所以不需要为了在减压干燥处理进行溶剂捕获部30的冷却/加热而另行设置机构。从而，在减压干燥装置1中，能够以简单的结构缩短包括基板的干燥所需的时间(以下称“干燥时间”)和溶剂捕获网31的干燥时间在内的处理时间。换言之，能够以简单的结构在短时间内进行基板上的溶剂的减压干燥处理和溶剂捕获部30上的溶剂的脱离处理。
[0107] 并且，在减压干燥装置1中，为了进一步缩短基板的干燥时间，如上所述，溶剂捕获网31的温度在腔室10内的压力到达基板W的温度即室温下的蒸气压以下的时刻，为该时刻的压力下的露点即室温以下，并且在蒸发完成之前，为各时刻的压力下的露点以下。
[0108] 进而，在减压干燥装置1中，为了进一步缩短溶剂捕获网31的干燥时间，如上所述，溶剂捕获网31的温度在蒸发完成时起的5分钟以内到达该时刻的压力下的露点以上。
[0109] 另外，基板的干燥时间优选在同一基板内均匀。在不设置溶剂捕获网31的情况下，基板W的干燥时间在同一基板内不均匀，与基板W的中心相比，角落部的干燥时间较短。从而，已干燥的角落部在之后可能会因中心部蒸发的溶剂而发生溶化。
[0110] 而在减压干燥装置1中，通过设置溶剂捕获网31，干燥时间在同一基板W内变得均匀。
[0111] 使用图5说明减压干燥装置1中干燥时间在同一基板W内变得均匀的原理。图5是表示减压干燥装置1的腔室10内的状况的图，图5的(A)和图5的(B)分别是表示没有设置溶剂捕获网31的情况和设置了溶剂捕获网31的情况的图。其中，图5的腔室10内的灰色的各个线条为等浓度线，线越粗表示浓度越高。另外，在以下说明中，若浓度相同则无论在基板W上的位置如何，蒸发速度均相同，并且溶剂捕获网31的温度无论该网31内的位置如何均是相同的。
[0112] 根据菲克第一定律，扩散流速与浓度梯度成正比。
[0113] 在没有设置溶剂捕获网31的情况下，上下方向上的浓度梯度在基板W的上部面内变得不均匀。因此，在基板W的上部，扩散流速在基板W面内变得不均。从而，如图5的(A)所示，在基板W的上部，气态的溶剂的浓度变得不均匀，同一基板W内的干燥时间产生偏差。
[0114] 另一方面，在以与基板W正对的方式设置了溶剂捕获网31的情况下，上下方向上的浓度梯度在腔室10内的基板W的上部面内变得均匀。因此，在基板W的上部，扩散流速在基板W面内变得均匀。从而，如图5的(B)所示，在基板W的上部，基板的溶剂的浓度变得均匀，同一基板W内的干燥时间也变得均匀。
[0115] 接着对溶剂捕获部30的溶剂捕获网31进行详细说明。
[0116] 在上述说明中，溶剂捕获网31的单位面积的热容为例如372J/K·m2。然而，溶剂捕获网31的单位面积的热容不限于上述值，只要该溶剂捕获网31的温度会因排气导致的腔室10内的绝热膨胀而降低，并且该溶剂捕获网31的温度会因来自腔室10等的辐射热而上升即可。因而，溶剂捕获网31的单位面积的热容为106～850J/K·m2以下即可。此外，溶剂捕获网
31的板厚为0.05mm且开口率为80％时的单位面积的热容为106J/K·m2，溶剂捕获网31的板
2
厚为0.2mm且开口率为60％时的单位面积的热容为850J/K·m。
31的板厚为0.05mm且开口率为80％时的单位面积的热容为106J/K·m2，溶剂捕获网31的板
2
厚为0.2mm且开口率为60％时的单位面积的热容为850J/K·m。
[0117] 另外，如上所述，溶剂捕获网31被支承在基板W与顶板12之间的位置上。更具体而言，被支承在从基板W的上表面至溶剂捕获网31的厚度方向的中心的距离为从基板W的上表面至腔室10的顶板12的下表面的距离的40～60％的位置。减压排气时的气体的膨胀率即绝热膨胀所带来的冷却强度，随上下方向上的位置而不同，上述的40～60％的位置相比其它部位更大。因此，通过在该位置进行支承，能够更强地冷却溶剂捕获网31，并且由于真空下从腔室10到溶剂捕获网31的辐射热带来的加热不受它们之间的距离的影响，所以能够迅速除去来自基板W的溶剂。
[0118] 图6是对用于构成溶剂捕获网31的网状板的适宜的加工方法进行说明的截面图。如上所述，网状的溶剂捕获网31由通过冷切拉伸法加工得到的拉制金属网所构成。因此，如图6的(A)所示，溶剂捕获网31的纵截面下为四边形，上下表面平坦。
[0119] 另一方面，在网状的溶剂捕获网31如图6的(B)所示通过金属丝R编织而形成的情况下，金属丝R为圆筒截面。并且，金属丝R因纺织而发生重叠的部分成为阴影。因此，在上述编织的情况下，无法均匀地获得来自上下的辐射，溶剂捕获网31不容易发生温度上升。从而，从溶剂捕获网31除去溶剂需要较长时间。另外，在编织金属丝R的情况下，容易因金属丝R之间的接触部的摩擦而产生颗粒。
[0120] 此外，在溶剂捕获网31如图6的(C)所示通过在平板上冲孔形成开口H来形成为网状的情况下，纵截面下的上下表面将不会平坦。因此，溶剂捕获网31难以接收来自腔室10的顶板的辐射热，从溶剂捕获网31除去溶剂需要较长时间。另外，通过冲孔进行加工的情况下，由于形成有尖锐部所以容易附着异物。再者，在通过冲孔形成开口H的情况下，开口率无法提高，所以冷却时抽真空所带来的气流难以一面在溶剂捕获网31内扩散一面通过，即使想要冷却溶剂捕获网31也难以获得该效果。
[0121] 不过，在溶剂捕获网31由拉制金属网形成的情况下，如上所述，纵截面下为四边形且上下表面平坦。因此，对于由拉制金属网构成的溶剂捕获网31而言，溶剂捕获网31容易接收来自腔室10的顶板的辐射热，能够在短时间内除去吸附的溶剂。另外，在由拉制金属网构成的情况下，不形成尖锐部，也不会附着异物。此外，不存在像编织金属丝的情况下那样的摩擦，所以也不会产生颗粒。再者，拉制金属网能够提高开口率，所以能够在冷却之后高效地捕获溶剂。
[0122] 另外，溶剂捕获网31不限于通过冷切拉伸法制造的拉制金属网，也能够适宜地使用在平板上加工切口并进行扩张加工的方法所制造的网。
[0123] 溶剂捕获网31的厚度在上述说明中为0.1mm，但只要是0.05mm以上0.2mm以下即可。如果厚度为0.05mm以上则能够容易加工，并且通过使厚度为0.2mm以下，能够抑制单位面积的热容，提高溶剂的吸附率。
[0124] 另外，溶剂捕获网31的开口率在上述说明中为65％，但只要是60％以上80％以下即可。如果开口率为60％以上，则能够提高溶剂捕获网31上的溶剂的捕获效率，而如果开口率为80％以下则能够容易加工。
[0125] (第二实施方式)
[0126] 图7是表示本发明第二实施方式的减压干燥装置的概略结构的纵截面图。图7的减压干燥装置1包括红外线辐射体50。
[0127] 红外线辐射体50为板状部件，以与溶剂捕获网31正对的形态设置在腔室10的顶板12的下表面侧。红外线辐射体50辐射红外线，对温度低于该红外线辐射体50的溶剂捕获网
31进行加热。
31进行加热。
[0128] 通过设置该红外线辐射体50，能够迅速除去吸附在溶剂捕获网31上的溶剂。
[0129] 红外线辐射体50内部具有加热器，在使溶剂从基板上蒸发时，将上述加热器关闭，使得溶剂捕获网31不会被红外线辐射体50加热。另外，在红外线辐射体50中设置加热器相比在溶剂捕获网31上设置同样的加热器能够简单地进行设置，并且，若在溶剂捕获网31上直接设置同样的加热器，溶剂捕获部30的热容会增大，将无法进行由减压排气带来的溶剂捕获网31的冷却等。
[0130] 此外，红外线辐射体50不限于板状部件，也可以例如为圆筒状部件等。并且，为了使红外线辐射体50起到黑体的作用，也可以对红外线辐射体50进行黑体化处理。黑体化处理是例如涂覆黑体涂料的处理，也包括利用黑体材料形成红外线辐射体50本身的处理。在使用黑体材料的情况下，即使不设置加热器也具有较大的辐射率，所以对溶剂捕获网31进行加热的效果得到提高。
[0131] (第三实施方式)
[0132] 图8是表示本发明第三实施方式的减压干燥装置的概略结构的图，其中图8的(A)是表示减压干燥装置的结构的概要的截面图，图8的(B)是表示减压干燥装置内的结构的概要的俯视图。图8的(A)省略了用于支承溶剂捕获部30的结构体的图示，而图8的(B)省略了顶板12等的图示。
[0133] 图8的减压干燥装置1的底板60将本体部11下侧的开口封闭，在底板60的上侧设置载置台20。并且，在底板60上设置有位于载置台20外周的多个开口60a。本例中，开口60a沿着载置台20的一个边设置3个，并沿着与上述一个边相对的边设置3个。
[0134] 开口60a经排气管61与排气装置62连接。通过该开口60a，能够对减压干燥装置1的腔室10内进行减压。
[0135] 排气装置62由真空泵构成，具体而言，例如自上游侧起依次串联连接涡轮分子泵和干泵而构成。该排气装置62在各开口60a上一对一地设置。
[0136] 排气管61上设置有APC阀42。
[0137] 另外，本实施方式的减压干燥装置1包括用于使溶剂捕获部30干燥的另外的溶剂捕获部70，该另外的溶剂捕获部70暂时地捕获先被溶剂捕获部30暂时捕获后再汽化的溶剂，用于清空腔室10内的溶剂。下文中有时将该另外的溶剂捕获部70记作制干用捕获部70，并且有时将溶剂捕获部30记作基板干燥用捕获部30。该制干用捕获部70在基板W上的溶液的溶剂完成蒸发后形成比基板干燥用捕获部30低的温度，从而能够暂时地捕获先被基板干燥用捕获部30暂时捕获后再汽化的溶剂。制干用捕获部70的尺寸和形状不同于基板干燥用捕获部30，但其材料可以使用与基板干燥用捕获部30相同的材料，例如具有与基板干燥用捕获部30同样地由网状板构成的溶剂捕获网(未图示)。
[0138] 制干用捕获部70分别设置在从基板干燥用捕获部30去到各排气装置62的空间中。具体而言，制干用捕获部70设置在APC阀42的下游，其中该APC阀42是以可开闭的方式将基板干燥用捕获部30所设置的空间与排气装置62所设置的空间之间封闭的封闭部件。更具体而言，制干用捕获部70在排气管61中设置于APC阀42的下游。
[0139] 接着，对使用了本实施方式的减压干燥装置1的减压干燥处理进行说明。
[0140] 在使用了本实施方式的减压干燥装置1的减压干燥处理中，基板W的干燥工序之前的工序与使用了第一实施方式的减压干燥装置1的减压干燥处理相同，故省略说明。
[0141] 在使用了本实施方式的减压干燥装置1的减压干燥处理中，与第一实施方式的减压干燥处理同样地，在基板W的干燥工序中，由于对腔室10内进行减压排气，腔室10内的气体因绝热膨胀而被冷却。在这样被冷却的腔室10内的气体的作用下，基板干燥用捕获部30和制干用捕获部70的温度降低。此时，对于制干用捕获部70来说，由于其周围的已被冷却的气体的单位面积流量比基板干燥用捕获部30周围大，所以温度相比基板干燥用捕获部30较低。
[0142] 虽然制干用捕获部70的温度低于基板干燥用捕获部30，但因为制干用捕获部70距离基板W较远，所以从基板W汽化的溶剂被基板干燥用捕获部30捕获。
[0143] 在基板干燥用捕获部30对从基板W汽化的溶剂的捕获推进，完成了基板W上的溶剂的除去之后，继续利用排气装置62的涡轮分子泵进行排气。这是为了从基板干燥用捕获部30除去由该捕获部30捕获的溶剂来使该捕获部30干燥。在进行该干燥时，由于制干用捕获部70的温度低于基板干燥用捕获部30，所以从基板干燥用捕获部30汽化的溶剂被制干用捕获部70捕获，因此基板干燥用捕获部30周边的气态的溶剂的浓度被维持得较低。因而，能够迅速除去基板干燥用捕获部30上的溶剂使其干燥。
[0144] 另外，若如上所述在完成了基板W上的溶剂的除去之后还继续使用涡轮分子泵进行排气，则如第一实施方式中说明的那样，基板干燥用捕获部30的温度因来自腔室10的顶板12和基板W等的辐射热而上升，但制干用捕获部70由于相比基板干燥用捕获部30距离顶板12和基板W等较远，所以上述辐射热带来的温度的上升较为缓慢。因而，制干用捕获部70与基板干燥用捕获部30的温度差扩大，能够使溶剂迅速从基板干燥用捕获部30除去/脱离。
[0145] 从基板干燥用捕获部30除去溶剂的基板干燥用捕获部30的干燥工序例如利用排气装置62的涡轮分子泵进行规定时间的排气而结束。
[0146] 在基板干燥用捕获部30的干燥工序结束后，关闭APC阀42。由此，能够将腔室10内的基板W所存在的空间与制干用捕获部70所存在的空间隔离。
[0147] 然后，并行地进行对腔室10内进行大气吹扫再将基板W搬入搬出的搬入搬出工序，和使制干用捕获部70干燥的干燥工序。通过这样并行处理，能够大幅缩短使用了本实施方式的减压干燥装置1的减压干燥处理整体所需的时间。
[0148] 另外，制干用捕获部70设置在排气管61中，以能够被来自排气装置62的涡轮分子泵的辐射热加热。由此，能够促进制干用捕获部70上的溶剂的汽化，能够缩短完成制干用捕获部70的干燥所花费的时间，从而能够在搬入搬出工序尚未完成的期间内，可靠地完成制干用捕获部70的干燥。另外，由于利用了来自排气装置62的涡轮分子泵的辐射热，所以不需要另外设置对制干用捕获部70进行加热的机构，能够防止减压干燥装置1的结构复杂化和减压干燥装置1的大型化。
[0149] (第四实施方式)
[0150] 图9是表示本发明第四实施方式的减压干燥装置的概略结构的图，表示了减压干燥装置的局部截面。
[0151] 在上述例中，作为本发明的“封闭部件”使用了APC阀42，但在不需要高精度对减压干燥装置1的腔室10内的压力进行调节时，“封闭部件”能够使用其它的部件。
[0152] 在图9的减压干燥装置1中，作为“封闭部件”在腔室10内设置有封闭部件80，其具有例如铰链式的可开闭地将载置台20与腔室10的侧壁11a之间封闭的风门81。通过使用封闭部件80，与使用APC阀42的情况相比能够低成本地制造减压干燥装置1。
[0153] 另外，在第三实施方式中，作为封闭部件的APC阀42设置在排气管61中，但本实施方式中封闭部件80设置在腔室10内。因而，能够将应当配置在封闭部件下游的制干用捕获部70配置在腔室10内，即，与第三实施方式相比能够配置在基板干燥用捕获部30附近。当将制干用捕获部70配置在基板干燥用捕获部30附近时，能够高效地使用制干用捕获部70捕获从基板干燥用捕获部30汽化的溶剂。
[0154] 进而，制干用捕获部70在第三实施方式中设置成使其表面为水平，而本实施方式中倾斜地设置成使其表面既非水平亦非垂直。并且，在制干用捕获部70最下部的下方，在底板90之上设置承接盘部91。该承接盘部91承接由制干用捕获部70捕获并成为液体的溶剂，上述成为液体的溶剂沿着制干用捕获部70的倾斜的面/倾斜面移动，从该捕获部70的最下部滴落到承接盘部91上。
[0155] 承接盘部91承接的液态的溶剂被汽化而通过排气装置62排出到腔室10之外。在这样的结构中，承接盘部91能够由对该承接盘部91进行加热的加热机构加热，因此，能够促进承接盘部91承接的液态的溶剂的汽化，从而能够迅速地使腔室10内的溶剂排出到腔室10外。
[0156] (第五实施方式)
[0157] 图10是表示本发明第五实施方式的减压干燥装置的概略结构的图，表示了减压干燥装置的局部截面。
[0158] 在图10的减压干燥装置1中，作为“封闭部件”在腔室10内设置了封闭部件100，其具有可开闭地将载置台20与腔室10的顶板12之间封闭的风门101。风门101通过在铅垂方向上移动即通过上下移动，来自由开闭地将载置台20与腔室10的顶板12之间封闭。通过使用封闭部件100，除了获得与第四实施方式同样的效果之外，还能够获得以下效果。
[0159] 即，在使用了封闭部件100的结构中，能够使制干用捕获部70的至少一部分相对于载置台20的上表面位于上侧。从而，制干用捕获部70与基板干燥用捕获部30的距离缩近，能够高效地使用制干用捕获部70捕获从基板干燥用捕获部30汽化的溶剂。
[0160] 另外，在本实施方式中，能够将制干用捕获部70设置成使该制干用捕获部70在铅垂方向上延伸。从而，与第四实施方式相比，本实施方式能够减小腔室10的侧壁11a与载置台20的距离，即，能够防止腔室10的大型化。
[0161] 另外，在第四和第五实施方式中，制干用捕获部70也被设置成能够受来自排气装置62的涡轮分子泵的辐射热而被加热。
[0162] 并且，在图9和图10的例子中，连通至排气装置62的排气管61设置在腔室10的侧壁11a上，但也可以设置在底板90上。不过，通过将排气装置62设置在侧壁11a上，即使大量积留在制干用捕获部70上的溶剂万一成为液滴而滴落到下方，液滴也不会进入排气装置62内部，能够将排气装置62的受损风险降低到非常小。
[0163] 另外，对承接盘部91进行加热的加热机构相比在基板干燥用捕获部30上设置同样的加热机构，能够非常简单地进行设置。
[0164] 并且，第四和第五实施方式中的风门81、101的开闭由减压干燥装置1的上述的控制部所控制。
[0165] 而且，使用了第四和第五实施方式的减压干燥装置1的减压干燥处理与第三实施方式的减压干燥处理大致相同，故省略其说明。
[0166] 在以上说明中，制干用捕获部70的干燥工序和基板W的搬入搬出工序同时进行，但也可以在制干用捕获部70的干燥工序结束之后，进行基板W的搬入搬出工序。该情况下，制干用捕获部70不再必须设置在APC阀42等封闭部件的下游侧，也可以在上述封闭部件的上游侧设置制干用捕获部70。另外，在像这样设置在上游侧的情况下，也将封闭部件和制干用捕获部70配置在排气装置62的涡轮分子泵的附近，利用来自该泵的辐射热加热制干用捕获部70，使该捕获部70捕获的溶剂迅速地汽化而除去。
[0167] 此外，为了使制干用捕获部70迅速捕获溶剂，并且使制干用捕获部70所捕获的溶剂迅速汽化而除去，在不致使减压干燥装置1的结构变得复杂的范围内，也可以在制干用捕获部70中装入冷却机构或加热机构。
[0168] (第一参考实施方式)
[0169] 图11是表示第一参考实施方式的减压干燥装置的概略结构的纵截面图。该图中对于制干用捕获部仅表示了该捕获部所设置的位置。
[0170] 在第三～第五实施方式中，基本上制干用捕获部70不具有对该捕获部70进行冷却和/或加热的冷却/加热机构，但在第一参考实施方式的图11的减压干燥装置200中，制干用捕获部210具有对该捕获部210进行冷却和加热的冷却加热机构。
[0171] 图12是说明具有冷却加热机构的制干用捕获部210之示例的纵截面图。
[0172] 图12的(A)的制干用捕获部210的冷却加热机构具有可切换地使冷却了的制冷剂和加热了的制冷剂流动的多个制冷剂管211。各制冷剂管211由导热性良好的材料构成，例如为铜制。多个制冷剂管211被配置成在侧视下形成为中央升高的山型，在各制冷剂管211的上部通过焊接等固定有用于捕获溶剂的金属制的板212。各板212彼此部分重叠，在固定状态下非水平地倾斜，使得被该板212所捕获的成为液体的溶剂沿着板212向外侧流动。在该结构下，优选将具有加热机构的承接盘部(参照图9的标记91)在制干用捕获部210的外侧各设置一个，不过此处省略图示。
[0173] 图12的(B)的制干用捕获部210的冷却加热机构中，多个制冷剂管211被配置成在侧视下形成为中央降低的谷型。固定在制冷剂管211的上部的各板212彼此部分重叠，在固定状态下非水平地倾斜，使得被该板212所捕获的成为液体的溶剂沿着板212向内侧流动。在该结构下，优选将具有加热机构的承接盘部(参照图9的标记91)在制干用捕获部210的中央设置一个，不过此处省略图示。
[0174] 图12的(C)的制干用捕获部210的冷却加热机构中，多个制冷剂管211被配置成在侧视下平行，该机构中溶剂由制冷剂管211捕获而成为液体。另外，该机构中，在各制冷剂管211的下部通过焊接等固定有侧视时为w字型的承接盘部213，该承接盘部213接收由制冷剂管211捕获而成为液体的溶剂。
[0175] 图12的(D)的制干用捕获部210的冷却加热机构中，多个制冷剂管211被配置成在侧视时平行，在这些制冷剂管211上通过焊接等固定有金属制的网状部件214，溶剂由网状部件214等捕获。
[0176] (第二参考实施方式)
[0177] 图13是表示第二参考实施方式的减压干燥装置的概略结构的纵截面图。图13的减压干燥装置200中，在排气管61上卷绕有作为冷却加热机构的制冷剂管211，由排气管61作为制干用捕获部210发挥作用。
[0178] 在以上的第一和第二参考实施方式中，由于制干用捕获部具有冷却加热机构，所以能够使基板干燥用捕获部迅速干燥并使制干用捕获部迅速干燥，使腔室内的溶剂的浓度迅速降低至期望的值。
[0179] 另外，在以上的例子中，制冷剂管能够使冷却的制冷剂和加热的制冷剂可切换地流动，但也可以仅流动任一方。并且，在冷却加热机构中，例如也可以将供冷却了的制冷剂流动的制冷剂管和供加热了的制冷剂流动的制冷剂管交替配置。
[0180] (第三参考实施方式)
[0181] 图14是表示第三参考实施方式的减压干燥装置的概略结构的纵截面图。图14的减压干燥装置200包括具有冷却加热机构的制干用捕获部210，和同样具有冷却加热机构的基板干燥用捕获部220。作为基板干燥用捕获部220的冷却加热机构，能够使用与现有的相同的机构。在该减压干燥装置200中，也能够使减压干燥处理所需的时间缩减到非常短。
[0182] 在以上的说明中，排气装置具有涡轮分子泵，但在制干用捕获部的吸附能力与涡轮分子泵的排气能力同等的情况下，排气装置也可以为仅具有干泵的结构，即使是这样的结构，完成基板干燥花费的时间也能够与具有涡轮分子泵的结构相同。在采用排气装置仅具有干泵的结构的情况下，优选在进行基板W的干燥时利用载置台20加热基板W的温度，或将制干用捕获部70设置于上述的封闭部件的下游，在基板干燥用捕获部30干燥之后关闭上述封闭部件，对制干用捕获部70进行加热。
[0183] (其它实施方式)
[0184] 本发明实施方式的减压干燥装置优选包括利用冷却以及加热之外的方法对减压排气时的溶剂捕获网的最低温度进行调节的温度调节机构。这是因为，通过调节减压排气时的溶剂捕获网的最低温度，能够调节溶剂捕获网上的溶剂的吸附效率即基板的干燥时间、从溶剂捕获网除去溶剂花费的时间。
[0185] 上述的温度调节机构例如通过调节APC阀(参照图1的标记42)的开度来调节干泵的排气速度，由此调节溶剂捕获网的最低温度。不过，温度调节机构不限于该方式。例如，减压排气时的绝热膨胀所带来的冷却强度，根据溶剂捕获网位于腔室的顶板与基板之间的哪个位置上而不同，所以在基板的干燥工序时，也可以利用设置在载置台上的升降销调节基板的上下方向的位置，由此来调节溶剂捕获网的最低温度。另外，也可以另外设置调节溶剂捕获网的上下方向的位置的机构，利用该上下方向的位置调整来调节溶剂捕获网的最低温度。
[0186] [实施例]
[0187] 实施例1具有与图1的减压干燥装置1同样的构成部件，对通过喷墨方式涂覆了溶液的2200mm×2500mm的玻璃基板进行减压干燥处理。并且，在实施例1中，作为溶剂捕获部30的溶剂捕获网31，将12片2200mm×200mm的拉制金属网排列使用。上述拉制金属网的材质为不锈钢(SUS316BA)，网厚为0.1mm，开口率为65％，单位质量为0.61kg/m2。
[0188] 并且，实施例1中，将溶剂捕获网31支承在基板W与腔室10的顶板12之间的中间位置上。此时的支承结构是这样的，具有设置在腔室10的顶板12的两端的脚部，并具有分别设置在该脚部上的、彼此平行的长条的支承部件(撑条)，将各拉制金属网利用螺钉固定在该支承部件上。
[0189] 另外，在实施例1中，利用干泵进行减压排气直到腔室10内的压力达到10Pa，之后利用涡轮分子泵进行排气。
[0190] 比较例1不具有溶剂捕获部30，关于溶剂捕获部30的结构以外的结构与实施例1相同。
[0191] 在比较例2中，与溶剂捕获网31同样地进行溶剂捕获的部件由冲孔金属构成。该冲孔金属的水平方向的尺寸与实施例1相同，开口率为34％，厚度为0.2mm。若令由拉制金属网构成的溶剂捕获网31的体积为1，则该由冲孔金属构成的溶剂捕获部件的体积为3.6。即，在比较例2中，对溶剂进行捕获的部件的热容比实施例1大。除了对溶剂进行捕获的部件之外，比较例2与实施例1的结构是相同的。
[0192] 在比较例1中，基板的干燥时间在基板中央附近为103秒，在基板的角落部为92秒。
[0193] 而在实施例1中，基板的干燥时间在基板中央附近为71秒，在基板的角落部为67秒。像这样，与比较例1相比能够确认，实施例1中基板的干燥时间缩短，并且干燥时间在同一基板内变得均匀。另外，在实施例1中，干燥工序时的溶剂捕获网31中央部分的最低温度为8℃。
[0194] 而相对的，在比较例2中，干燥工序时的溶剂捕获部件中央部分的最低温度为18℃，能够确认相对于室温发生了降低。不过，基板的干燥时间及其均匀性与比较例1是相同的。于是，确认不到由冲孔金属构成的溶剂捕获部件的吸附效果。
[0195] 图15～图17是表示实施例1中的溶剂捕获网31中央附近的温度和腔室10内的压力随时间的变化的图。在图15～图17中，横轴为时间，纵轴为温度或压力。
[0196] 如图15所示，在实施例1中，溶剂捕获网31中央附近的温度会因干泵的减压排气所带来的绝热膨胀而单调降低至8℃。并且，达到8℃时的腔室10内的压力为2×103Pa。
[0197] 之后，溶剂捕获网31中央附近的温度因来自腔室10的辐射热等从8℃开始上升。不过，即使是在从利用干泵进行减压排气切换成利用涡轮分子泵进行减压排气之后，腔室10内的压力到达基板的温度即室温温度下的溶剂的蒸气压(0.2Pa)的时刻T1，溶剂捕获网31中央附近的温度也为该时刻T1的腔室10内的压力下的露点即室温以下，为14℃。
[0198] 另外，如图16所示，在基板上的溶剂的蒸发完成的时刻T2即腔室10内的压力到达0.1Pa的时刻之前，溶剂捕获网31中央附近的温度被维持在各时刻的腔室10内的压力下的溶剂S的露点以下。
[0199] 在完成基板W上的溶剂S的蒸发并继续利用排气装置40的涡轮分子泵进行排气的期间，如图17所示，溶剂捕获网31中央附近的温度会因来自腔室10的顶板12的辐射热等而上下浮动。不过，在基板上的溶剂完成蒸发后的5分钟以内，在开始排气起的220秒后的时刻T3，溶剂捕获网31的温度上升至16℃，为该时刻T3的腔室10的压力(0.03Pa)下的溶剂的露点(15℃)以上。
[0200] 图18是表示实施例1中的溶剂捕获网31的各部分的温度随时间的变化以及腔室10内的压力随时间的变化的图。图中横轴为时间，纵轴为温度。另外，在以下说明中，溶剂捕获网31的中央附近、长边部分的中央附近和角落部，分别是图2的(B)中的P11、P12、P13表示的部分。
[0201] 如图18所示，溶剂捕获网31的中央附近P11的温度随腔室10内的压力被减压而降低。
[0202] 溶剂捕获网31的长边部分的中央附近P12的温度和角落部P13的温度也随腔室10内的压力被减压而降低，但这些温度的降低率相比溶剂捕获网31的中央附近P11的温度较小，尤其是，角落部P13的温度最低也为17℃。作为溶剂捕获网31的温度产生这样的不均匀的理由，可考虑到例如这样的理由，即，在长边部分的中央附近P12和角落部P13附近，减压排气所带来的膨胀率较小，温度不容易降低，以及从排气阻抗的角度来看，与长边部分的中央附近P12相比，膨胀而冷却的空气不容易流动到角落部P13。
[0203] 在如上所述，溶剂捕获网31的温度分布成为中央附近P11的温度较低而角落部P13较高的分布的情况下，在作为减压干燥处理对象的基板的上表面，气态溶剂的浓度在基板的中央附近较低而在基板的角落部P13较高，所以可以认为在同一基板上，中心部分的干燥时间相比角落部较快，干燥时间变得不均匀。然而，在实施例1中，如上所述干燥时间会变得均匀。之所以干燥时间像这样变得均匀，其原因是，就基板的干燥时间而言，即使基板上表面(上空)的气态溶剂的浓度是均匀的，基板的角落部相比基板的中央附近干燥也会迅速。
[0204] 工业上的可利用性
[0205] 本发明适用于对通过喷墨方式涂覆了溶液的基板进行减压干燥的技术。
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