1.表面结构化方法，即通过使用任选地中性化的离子束的离子蚀刻在材料(1)，特别地玻璃的表面上形成至少一组不规则性或图案(2，4)，该不规则性或图案具有亚微米高度H和至少一个亚微米或者微米的被称为宽度的横向特征维度W，特征在于该方法包括以下步骤：
- 提供所述具有至少等于100nm的厚度的材料，该材料是固体混合材料并包含：
- 单一的氧化物或者一种或多种元素的混合氧化物，在材料中的氧化物摩尔百分比为至少40%，尤其为40-94%；
- 至少一种与一种或多种氧化物的元素不同性质的物质，其尤其为金属，其中在该材料中的所述一种或多种物质的摩尔百分比为从6%直至50%，并且低于所述氧化物的百分比，同时所述物质的至少大部分具有小于50nm的最大特征维度，尤其所述混合材料在所述蚀刻之前是亚稳定的，
- 在所述蚀刻之前任选地加热所述混合材料，
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- 使用低于一小时的蚀刻时间在大于1cm 的蚀刻表面上使所述混合材料的表面结构化，直至形成所述图案组，该结构化任选地伴随有混合材料的加热。
2.根据权利要求1的表面结构化方法，特征在于在蚀刻之前和/或蚀刻期间将该材料加热至高于或等于70℃，尤其在120℃至300℃范围的温度。
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3.根据前述权利要求之一的表面结构化方法，特征在于蚀刻采用大于0.01mA/cm，典
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型地从0.05至0.3mA/cm 的蚀刻通量。
4.根据前述权利要求之一的表面结构化方法，特征在于蚀刻采用可以为200eV至
2000eV，尤其500eV至1000eV的能量。
5.根据权利要求1-2之一的表面结构化方法，特征在于尤其使用为银的所选择物质，进行蚀刻，并且图案是孔穴（2），尤其具有为亚微米尺寸的被称为长度L的平均最大横向维度，尤其具有在斜入射下大于0.3L的和在法向入射下大于或等于0.8L的宽度W。
6.根据权利要求1-2之一的表面结构化方法，特征在于尤其使用为铜的所选择物质，进行蚀刻，并且图案是突起（2），尤其具有为亚微米尺寸的被称为长度L的平均最大横向维度，尤其具有在斜入射下大于0.3L的和在法向入射下大于或等于0.8L的宽度W。
7.根据前述权利要求之一的表面结构化方法，特征在于所述物质为离子形式，尤其在二氧化硅中的铜，和/或呈聚集体形式，尤其在玻璃中的银，和/或该物质优选地选自至少一种以下物质，尤其为金属：银、铜、钴、铂、镍、锡、金，优选地在该物质上的有效电荷是零或者低于0.5。
8.根据前述权利要求之一的表面结构化方法，特征在于该氧化物优选地选自以下氧化物的至少一种：二氧化硅、氧化铝、氧化锆、二氧化钛、二氧化铈、氧化镁，尤其铝硅混合氧化物、锆硅混合氧化物、钛硅混合氧化物，优选玻璃。
9.根据前述权利要求之一的表面结构化方法，特征在于该混合材料是离子交换玻璃，尤其钠钙玻璃，其优选地用至少一种所述以下物质进行离子交换：银、铜。
10.根据前述权利要求之一的表面结构化方法，特征在于块状或在基材上的层状的混合材料是溶胶-凝胶，尤其所述氧化物是至少一种以下元素的氧化物：Si、Ti、Zr、Al、V、Mg、Sn和Ce，并且以颗粒形式，任选地聚集体形式掺入所述金属，特别地Ag，Cu或者Au。
11.根据前述权利要求之一的表面结构化方法，特征在于所述混合材料是通过在蒸汽相中的物理途径沉积在基材上的层，其通过使物质，尤其金属物质，如铜、银或者金，和氧化物，如二氧化硅、氧化锆、氧化锡、氧化铝，使用金属靶在氧气氛中或者使用由所述氧化物的靶的共沉积而进行。
12.具有表面结构化，即具有不规则性或者图案的组的产品，该不规则性或者图案具有亚微米高度和至少一个亚微米横向特征维度，其中固体混合材料包含：
- 单一氧化物或者一种或多种元素的混合氧化物，在材料中的氧化物摩尔百分比为至少40%，尤其为40-94%；和
- 至少一种与该氧化物的一种或多种元素不同性质的物质，其特别地是金属，- 在材料中的一种或多种物质的摩尔百分比为4mol%至50mol%，同时低于所述氧化物的百分比，该物质具有通过使用如前面方法权利要求之一的方法获得的小于50纳米的最大特征尺寸最大值。
13.根据前述产品权利要求之一的结构化产品，特征在于该图案是突起，特别地具有为亚微米尺寸的被称为长度L的平均最大横向维度，特别地具有在斜入射下大于0.3L和在法向入射下大于0.8L的宽度W，该材料特别地在该突起的顶点中和在被称为表面厚度的小于
10纳米的厚度上更富集移动性物质。
14.根据前述产品权利要求之一的结构化产品，特征在于它是尤其用银或者铜交换的玻璃，或者在基材，特别地透明基材上具有所述物质，特别地银或者铜和/或金，的块状或层状溶胶-凝胶。
15.根据前述产品权利要求之一的结构化产品，特征在于该图案是高度H的孔穴，特别地具有为亚微米尺寸的被称为长度L的平均最大横向维度，特别地具有在斜入射下大于
0.3L的和在法向入射下大于0.8L的宽度W，该材料特别地在该孔穴的底部中和在被称为表面厚度的小于10纳米的厚度上更富集金属。
16.根据前述产品权利要求之一的结构化产品，特征在于该图案通过高度H和宽度W和在相邻图案之间的距离D进行定义；
-为了光学应用，选择该距离D为小于500纳米，优选地小于300纳米，更优选地小于
200纳米，甚至扩展到红外线中，尤其用于光电池或者光催化的减反射、光提取和光收集；
-为了光学应用(可见光和红外线)，高度H优选地选择为大于20纳米，更优选地大于
50纳米，甚至更优选地大于100纳米；
-该宽度W选择为大于D/10，更优选地大于D/5，甚至更优选地大于D/2。
17.根据前述产品权利要求之一的结构化产品，特征在于该图案通过高度H和宽度W和在相邻图案之间的距离D进行定义:
-为了润湿性,该距离D选择为小于5微米；
-为了润湿性(超疏水性或者超亲水性)，高度H优选地选择为大于70纳米，更优选地大于150纳米；和
-宽度W选择为大于D/10，更优选地大于D/5，甚至更优选地大于D/2。
18.根据前述产品权利要求之一的结构化产品，特征在于该图案通过高度H和宽度W和在相邻图案之间的距离D进行定义：
-用于微流体应用或者为了润湿性，该距离D选择为小于5微米和用于红外线应用，小于2微米；
-高度H优选地选择为大于70纳米，更优选地大于150纳米，用于润湿性(超疏水性或者超亲水性)；和
-宽度W选择为大于D/10，更优选地大于D/5，甚至更优选地大于D/2。
19.根据前述产品权利要求之一的结构化产品，特征在于该蚀刻的表面形成用于薄层生长的基材，该薄层特别地在真空下沉积在该蚀刻的层上，该图案通过高度H和宽度W和在相邻图案之间的距离D进行定义：
-距离D选择为小于200纳米，优选地在200纳米至100纳米之间，更优选地小于50纳米；
-高度H优选地选择为大于20纳米，更优选地大于50纳米；
-该宽度W选择为大于D/10，更优选地大于D/5，更优选地大于D/2。
20.根据前述产品权利要求之一的结构化产品，特征在于它是在微流体应用中使用的日光和/或热调节窗玻璃、具有光学功能，如减反射功能的窗玻璃、在可见光和/或红外线中的反射起偏振器、用于液晶显示屏的使光向前重定向的元件、用于有机或者无机电致发光装置的光提取装置或者超疏水或者超亲水的窗玻璃。