1.一种掺杂保偏光纤的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：
(1)将颗粒大小为100-140nm的纳米孔二氧化硅粉体，加入到稀土和共掺离子无机盐溶液中，溶液中共掺离子和稀土离子摩尔浓度比为10-20：1，然后通过氨水调节溶液的pH值至
7-11，不断搅拌，形成悬浮液；进行高速离心分离固体颗粒和液体，再干燥脱水、造粒，形成离子吸附的二氧化硅颗粒；
(2)离子吸附的二氧化硅颗粒经过等静压成型后，再进行氯气脱水和提纯；然后在气氛炉内，高温烧结12-16h，烧结温度在1000-1400℃；进行外表加工和化学清洗，得到圆柱状稀土掺杂氧化硅芯棒；
(3)将制作的圆柱状稀土掺杂氧化硅芯棒置于车床上进行抛光、阻挡层沉积预处理；
(4)将具有多孔二氧化硅薄膜层的芯棒在预定位置截断，将芯棒的截面磨平后固定在打孔机上；根据稀土离子掺杂保偏光纤的性能指标要求，结合芯棒与多孔二氧化硅薄膜层的热膨胀系数及几何参数，设计两个大孔的孔径大小及位置，两个大孔的孔径大小及位置确定后，在两个大孔内分别再设计数个小孔的数量、孔径及位置，小孔的位置是在大孔内均匀排布；
(5)根据大孔的直径确定大钻头，大钻头的壁厚为钻头半径的1/5至1/3，打孔前检查大钻头外壁与大钻头内壁的光滑度与圆度，根据小孔的直径确定小钻头；
(6)打孔前检查钻头的完整性与钻杆的平直度，先用小钻头在小孔的位置打孔，在数个小孔打孔完毕后，再利用大钻头在大孔的位置打孔；
(7)打孔完毕后，对孔的内壁进行磨抛，再采用纳米组装技术在芯棒管的内壁构建均匀多孔二氧化硅薄膜层。
2.根据权利要求1所述的掺杂保偏光纤的制备方法，其特征在于，所述的稀土离子为镧系元素离子以及钪和钇离子。
3.根据权利要求1所述的掺杂保偏光纤的制备方法，其特征在于，所述的共掺离子无机盐溶液为铝离子或磷离子无机盐溶液，所述的无机盐溶液为氯化物和硝酸盐溶液，溶剂为水或乙醇，溶质为卤化物、硝酸盐或磷酸盐。