1.一种用于电容性传感器的不透明盖子，该盖子包括：
透明基板；
至少一个白色涂层，包括位于透明基板的至少一部分上的白色颜料，其中所述至少一个白色涂层具有从20μm到25μm范围的厚度，并且其中所述至少一个白色涂层完全覆盖所述电容性传感器；及
位于所述至少一个白色涂层上的不导电的反射镜结构，所述不导电的反射镜结构位于所述至少一个白色涂层与所述电容性传感器之间，其中不导电的反射镜结构包括第一多个具有第一折射率的第一介电层，第一多个第一介电层与具有第二折射率的第二介电层交织，并且其中所述不导电的反射镜结构被配置为反射通过所述至少一个白色涂层的光，第一介电层和第二介电层具有低于所述至少一个白色涂层的介电常数的介电常数。
2.如权利要求1所述的不透明盖子，其中不导电的反射镜结构包括第二多个与第三介电层交织的光吸收层，第三介电层具有低于所述至少一个白色涂层的介电常数的介电常数。
3.如权利要求2所述的不透明盖子，其中光吸收层包括从由锡、氧化铜和氧化锌组成的组中选择的材料。
4.如权利要求3所述的不透明盖子，其中光吸收层包括锡层，并且所述锡层具有等于或小于100nm的厚度，使得锡层不导电。
5.如权利要求2所述的不透明盖子，其中第三介电层包括从由氧化硅、氮化硅和氧化铌组成的组中选择的材料。
6.如权利要求1所述的不透明盖子，其中第一和第二介电层当中每一个都包括从由氧化硅、氮化硅和氧化铌组成的组中选择的材料。
7.如权利要求1所述的不透明盖子，其中第一介电层包括氧化硅，而第二介电层包括氧化铌。
8.如权利要求1所述的不透明盖子，其中透明基板包括蓝宝石或玻璃。
9.如权利要求1所述的不透明盖子，其中白色涂层包括氧化钛。
10.如权利要求1所述的不透明盖子，其中不透明盖子具有3或者更大的光密度。
11.如权利要求1所述的不透明盖子，其中所述电容性传感器被配置为附连到反射镜结构，使得所述电容性传感器是通过透明基板看不到的。
12.一种用于在基板之上形成白色涂层堆叠的方法，该方法包括：
在透明基板的至少一部分之上涂至少一个白色涂层，以形成被涂覆的基板，其中所述至少一个白色涂层具有从20μm到25μm范围的厚度；
在被涂覆的基板之上形成不导电的反射镜结构，其中所述不导电的反射镜结构被配置为反射通过所述至少一个白色涂层的光，其中所述不导电的反射镜结构包括光反射堆叠和光吸收堆叠；及
把电容性传感器附连到所述光吸收堆叠，使得所述不导电的反射镜结构位于所述至少一个白色涂层与所述电容性传感器之间，
其中所述不导电的反射镜结构具有低于所述至少一个白色涂层的介电常数的介电常数。
13.如权利要求12所述的方法，其中在透明基板的至少一部分之上涂至少一个白色涂层包括：
把一层白色颜料滚到载体膜上，该白色颜料嵌在粘合剂中；
通过加热基板并且逆着基板对载体膜施加压力，把白色颜料层附连到基板上；
冷却具有载体膜的加热的基板，以形成被涂覆的基板；及
从被涂覆的基板剥离载体膜。
14.如权利要求12所述的方法，其中所述光反射堆叠包括第一多个具有第一折射率的第一介电层，第一多个第一介电层与具有第二折射率的第二介电层交织，其中第一和第二介电层具有低于所述至少一个白色涂层的介电常数的介电常数。
15.如权利要求14所述的方法，其中第一和第二介电层当中每一个都包括从由氧化硅、氮化硅和氧化铌组成的组中选择的材料。
16.如权利要求14所述的方法，其中不导电的反射镜结构包括第二多个与第三介电层交织的光吸收层，第三介电层具有低于所述至少一个白色涂层的介电常数的介电常数。
17.如权利要求16所述的方法，其中光吸收层包括从由锡、氧化铜和氧化锌组成的组中选择的材料。
18.如权利要求17所述的方法，其中光吸收层包括锡层，并且所述锡层具有等于或小于
100nm的厚度，使得锡层不导电。
19.一种电子设备，包括如权利要求1-11所述的不透明盖子。