1.一种获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，所述工艺包括以下步骤：
a) 配料至少以下化合物（1）：
i. 碳氢化合物或碳氢化合物混合物，
ii. 镍化合物和硫磺化合物以产生催化反应粒子，
iii.载体气体；
b) 将步骤a)所列的配料化合物(1)置于工作温度为900ºC至1500ºC的由悬浮催化剂方法发生化学气相沉积过程炉子内；
c) 获取包含碳纳米丝其结构包括连续的石墨带的中间材料（3），其中所述带包括堆叠少于11层围绕并沿着所述纳米丝主轴“s”盘绕发展的石墨烯层；
d) 通过暴露于1500℃至3000℃的惰性氛围中热处理步骤c)获得的碳纳米丝（3）以净化、脱氢、去官能化和结晶所述纳米丝（3）至一个改性结构，在该改性结构中碳-碳键数量多于步骤c)获得的碳纳米丝（3）中的碳-碳键数量；
e) 化学蚀刻包括第一阶段液相氧化由步骤d)处理过的碳纳米丝（4），致使形成碳纳米丝的石墨烯层分离并开始劈开，其中所述第一阶段液相氧化是在脱水培养基中实现；
f) 通过使用超声波完成所述碳纳米丝（4）的劈开工艺以获取具有以下特征的氧化石墨烯纳米片（5）：
- 多边形几何形状，
- 少于6层堆叠石墨烯层，
- 最大长度包含在0.1微米（µm）至50微米区间内。
2.如权利要求1所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述工艺的步骤a）使用甲烷或主要成分超过50%是甲烷的混合物。
3.如权利要求1所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述工艺的步骤a)中使用的载体气体为氢气。
4.如权利要求1所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于由镍化合物和硫化合物形成的混合物一旦引入步骤b)的炉子则形成具有硫-镍摩尔比在范围1.2至
3内的催化分子。
5.如权利要求1所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述工艺步骤b)中使用的炉子（2）为立式炉。
6.如权利要求1所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述工艺步骤d)中实施的处理工艺持续时间大于15分钟。
7.如权利要求1所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于步骤e）的液相氧化预先插入石墨烯层阶段其中所述插入是在酸性介质中实施的。
8.如权利要求1所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于步骤f)之后氧化石墨烯纳米片（5）经过还原步骤以获取石墨烯纳米片。
9.如权利要求8所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述还原是在液相或气相的化学还原。
10.如权利要求9所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述还原是由氨伴随的化学还原。
11.如权利要求9所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述化学还原由表面活性剂伴随。
12.如权利要求8所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述还原是通过热闪或持续升温实现的热还原。
13.如权利要求12所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述热还原在还原氛围或惰性氛围中实施。
14.如权利要求8所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于在石墨烯纳米片上实施一个添加添加剂的步骤。
15.如权利要求1或8所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于通过键合官能团至所述氧化石墨烯纳米片（5）或键合官能团至石墨烯纳米片以实施官能化的步骤。
16.如权利要求15所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述官能团是卤族基团、含氮基团或聚合物。
17.如权利要求15所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于在基底上实施一个沉积步骤。
18.如权利要求17所述获取氧化石墨烯纳米片和衍生物的工艺，其特征在于所述沉积通过电泳法、沉浸、离心力“旋转涂覆”、刮片法或喷墨打印来实现。