1.一种使用剥离技术形成石墨烯图案层的方法，所述方法包括：
在基质上形成石墨烯层；
在聚合物印模的图案表面上形成石墨烯剥离层，所述聚合物印模具有压花图案；
使所述聚合物印模的图案表面与所述石墨烯层的目标位置对齐，以使彼此接触；和将所述聚合物印模与所述基质分离，以选择性地将附着在所述聚合物印模的各压花图案上的所述石墨烯层部分与所述基质分离，从而形成所述石墨烯图案层，其中所述石墨烯剥离层包括有机溶剂，并且
其中所述方法在不使所述有机溶剂蒸发的温度下进行。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述石墨烯层通过CVD方法形成。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述石墨烯层通过在所述基质上涂覆石墨烯氧化物并将该石墨烯氧化物还原为所述石墨烯层而形成。
4.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物印模为PDMS(聚二甲基硅氧烷)印模。
5.根据权利要求1所述的方法，其中所述有机溶剂包括DMSO(二甲亚砜)溶剂或THF(四氢呋喃)溶剂。
6.根据权利要求5所述的方法，其中所述石墨烯剥离层通过旋涂法形成。
7.一种使用剥离技术形成石墨烯图案层的方法，所述方法包括：
制备聚合物旋转印模，其中所述聚合物旋转印模具有沿着其外圆周表面形成的压花图案，石墨烯剥离层被施用至各压花图案的表面；
制备其上形成有石墨烯层的基质；和
在旋转所述旋转印模的同时，使所述旋转印模与所述石墨烯层接触，以选择性地将附着在各压花图案上的所述石墨烯层从所述基质剥离，从而在所述基质上形成所述石墨烯图案层，
其中所述石墨烯剥离层包括有机溶剂，并且
其中所述方法在不使所述有机溶剂蒸发的温度下进行。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述形成石墨烯图案层包括：
旋转所述旋转印模，以使特定压花图案与所述石墨烯层的一部分接触；
使所述特定压花图案与石墨烯层保持所述接触达预定时间；和
在经过所述预定时间后，旋转所述旋转印模，以选择性地剥离所述石墨烯层的所述部分。
9.根据权利要求7所述的方法，还包括：
除去所述石墨烯剥离层，在所述石墨烯剥离层上随着所述旋转印模的旋转附着有从所述基质上剥离的石墨烯层；和
在压花层的表面上重新施用石墨烯剥离层，所述压花层随着旋转印模的旋转而沿着所述基质的前进方向前进。
10.根据权利要求9所述的方法，还包括：
干燥所述压花图案的表面，所述石墨烯剥离层已从所述压花图案的表面除去，之后重新施用石墨烯剥离层。
11.一种使用剥离技术形成石墨烯图案层的设备，所述设备包括：
聚合物旋转印模，其中所述旋转印模具有沿着其外圆周表面形成的压花图案，石墨烯剥离层被施用至各印花图案的表面，并且其中所述旋转印模旋转，从而与形成在基质上的石墨烯层接触，以选择性地将附着在各印花图案表面上的所述石墨烯层部分从所述基质上剥离；
剥离层除去单元，其被配置为用以除去石墨烯剥离层，在所述石墨烯剥离层上随着旋转印模的旋转附着有从所述基质上剥离的所述石墨烯层部分；和
剥离层施用单元，其被配置为用以在各压花图案的表面上施用石墨烯剥离层，所述各压花图案随着旋转印模的旋转而沿着所述基质前进方向前进。
12.根据权利要求11所述的设备，还包括：
干燥单元，其被配置为用以在施用石墨烯剥离层之前，干燥除去了石墨烯剥离层部分的各压花图案的表面。
13.根据权利要求11所述的设备，其中所述剥离层除去单元包括清洁辊，所述清洁辊被配置为以与所述旋转印模相同的旋转方向与所述压花图案的表面紧密接触而旋转，以使用来自存储器的清洁流体进给除去形成在所述压花图案的表面上的石墨烯剥离层以及附着在所述石墨烯剥离层上的石墨烯层部分。
14.根据权利要求11所述的设备，其中所述剥离层除去单元包括清洁流体注射器，所述清洁流体注射器被配置为用以通过使用注射嘴注射清洁流体来除去在压花图案的表面上形成的所述石墨烯剥离层以及附着在所述石墨烯剥离层上的所述石墨烯层部分。
15.根据权利要求11所述的设备，其中所述剥离层施用单元包括注射器，所述注射器被配置为用以通过注射石墨烯剥离材料在所述压花图案的表面上重新施用石墨烯剥离层。
16.根据权利要求11所述的设备，其中所述剥离层施用单元包括传送带，所述传送带被配置为以与旋转印模相同的旋转方向与所述压花图案的表面紧密接触而旋转，以使用从存储器提供的石墨烯剥离材料在所述压花图案的表面上重新施用石墨烯剥离层。
17.根据权利要求11所述的设备，其中所述剥离层施用单元包括施用单元，所述施用单元被配置为用以当旋转印模旋转时将石墨烯剥离材料提供至所述压花图案的表面，从而形成所述石墨烯剥离层，所述石墨烯剥离材料由存储器提供并附着在长丝束上。
18.一种使用剥离技术形成石墨烯图案层的方法，所述方法包括：
制备具有压花图案的聚合物的大面积印模，各所述压花图案的表面具有施用至其的石墨烯剥离层；
制备其上形成有石墨烯层的基质；
使所述大面积印模与所述石墨烯层接触，以选择性地将附着在所述压花图案表面上的所述石墨烯层部分从所述基质上剥离，从而在所述基质上形成石墨烯图案层；
除去所述大面积印模的压花图案上的所述石墨烯剥离层和所述石墨烯层；和在所述大面积印模的压花图案的表面上重新施用石墨烯剥离层。
19.根据权利要求18所述的方法，还包括：
在重新施用石墨烯剥离层之前干燥除去了石墨烯剥离层的所述压花图案的表面。
20.一种使用剥离技术形成石墨烯图案层的设备，所述设备包括：
大面积印模，其中所述大面积印模包括压花图案，被施用至所述压花图案的表面的石墨烯剥离层，所述大面积印模使得所述压花图案的表面与在基质上形成的石墨烯层接触，以选择性地将附着在所述压花图案表面上的石墨烯层部分从所述基质剥离；
剥离除去单元，其被配置为用以除去所述压花图案的石墨烯剥离层，所述压花图案上附着有从基质上剥离的所述石墨烯层部分；和
剥离层施用单元，其被配置为用以在所述压花图案的表面上重新施用石墨烯剥离层。
21.根据权利要求20所述的设备，还包括：
干燥单元，其被配置为用以在施用石墨烯剥离层之前，干燥已除去了石墨烯剥离层的所述压花图案的表面。